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  • 如何设计增透膜?

    作者:时生 来源:中科院半导体所 时间:2023-02-27 12:14 阅读:7393 [投稿]
    设计光学薄膜主要是确定两点:一点是选择薄膜的厚度,另一点是选择折射率匹配的材料。

    这张图中有两条曲线,蓝线是消光系数,红线是折射率。这是因为材料的光学性质单独用一个折射率n来表示是不够的。介质可以吸收一部分入射的光线,用消光系数k来表征介质对某一波长的光的吸收强度的大小。这个参数定义了光穿过物体时,每经过单位长度时能量被吸收的比例。

    引入复数有明确的物理意义。也可以使计算简化,用一个参数就可以完全描述介质的全部光学性能,这就是复折射率:


    其中k是介质的吸收系数。


    电磁波是电场与磁场同相震荡且互相垂直的电场和磁场在空间中以波动的形式传播的电磁场,因此要计算反射光与入射光的强度,需要从计算入射电场与反射电场强度的比值入手。上图表示了两层介质内光线的折射和反射过程,N0表示上层的折射率,N1表示下层的折射率。菲涅尔方程指出:

    振幅反射系数(菲涅尔反射系数)  r=Er/Ei

    振幅透射系数(菲涅尔透射系数)  t=Et/Ei

    下标t表示透射分量,下标r表示反射分量,下标i表示入射光。定义反射率R是反射光强度的垂直分量与入射光强度的垂直分量之比;透射率T是透射光强度的垂直分量与入射光强度的垂直分量之比。


    这里η为有效光学导纳,定义为磁场强度的切向分量与电场强度的切向分量之比,对于s偏振和p偏振值不同:


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