切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
  • OpticStudio 18.9新版本说明

    作者:佚名 来源:OpticStudio更新文档 时间:2018-11-28 15:54 阅读:11892 [投稿]
    OpticStudio强大的建模分析能力可以完成光学系统的原型机设计并分析实际加工对系统的影响。本文主要介绍在本次版本更新中主要完善升级的功能。

    在公差选项卡的加工支持部分可以找到锁定设计工具(参见图1.2.c)。


    图 1.2 . c . 公差选项卡中的锁定设计工具 

    1.3 增强的全视场像差分析(专业版和旗舰版) 在全视场中更快地分析像差 

    ZDA 会话文件中现在能缓存全场像差分析的计算结果。这意味着您现在可以在设置中更改要显示的像差,而 无需重新计算结果(参见 图 1.3.a )。  


    图 1.3 . a . 显示设置对话框的全视场分析窗口 

    可以在分析选项卡的像差菜单中找到全视场像差分析(参见 图 1.3.b )。 


    图 1.3 . b . 分析选项卡中的全视场像差分析

    分享到:
    扫一扫,关注光行天下的微信订阅号!
    【温馨提示】本频道长期接受投稿,内容可以是:
    1.行业新闻、市场分析。 2.新品新技术(最新研发出来的产品技术介绍,包括产品性能参数、作用、应用领域及图片); 3.解决方案/专业论文(针对问题及需求,提出一个解决问题的执行方案); 4.技术文章、白皮书,光学软件运用技术(光电行业内技术文档);
    如果想要将你的内容出现在这里,欢迎联系我们,投稿邮箱:service@opticsky.cn
    文章点评