[讨论]离子源加速电流是否越大越好 [复制链接]

现在使用的离子源存在两个问题： sStaTR{  
1、加速电流非常不稳定，突变比较大，数量在10mA以内波动；是否跟离子源工作状态的稳定性有关？ y&9v0&o  
2、加速电流设置不知道多少数值为佳？ ?$F:S%eH  
有没有懂得，指点一二。
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是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~ ;z)$wH0xc  
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加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓

10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 <`*6;j.&  
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 a%Cq?HZ7  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 ]n\WCU]0  
Pw hs`YGMF  
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 QH~/UnV  
所以最大电流分布是最好的。但是电流大了电压高了， iN+p>3w^l  
温度也就高了，膜系的应力会受影响。 u|BD
%5+J  
可能会产生脱膜，变形等问题。

rexchou:是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06)  k[A=:H1"  

"EWU:9\0  
加速电压是膜系参数设置的，电流好像可以通过界面设置，但是镀膜过程记录中这个加速电流一直在波动，外观做不好，我怀疑跟这个有关系。但是不能确定，所以问一下你们有没有做过这些验证。

ouyuu:10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 UKMrR9[x*  
加速电流变化一般是气体流量的问题，气体流量是受真空压力变化波动的。 ]Ol@^$8}  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 n&FN?"I/]  
....... (2017-12-01 17:22)  N''9Bt+:  

Kdik7jL/J  
膜层倒是没有受多大的影响，但是外观感觉不太稳定，会不会与加速电流波动有关啊？

外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ cXE42MM  
原因不一样的。

我以前有一个类似的情况：我是AR气瓶端接口处漏气，使MFC气流量不稳定，但beam电流是稳定的，镀出的膜色也不稳定。你那个情况beam不稳，折射率有偏差。

10mA的变化不算什么。如果设定是1000mA的话，也就1%左右。 I/pavh  
这点变化量比伞差还小，根本不可能引起折射率问题。 R l^ENrv!]  
o*'J8El\y^  
漏气也不太可能造成气流不稳。 k8 ,.~HkU  
气流是MFC控制的，而漏点在MFC前面，漏不漏气MFC一样控制。 m~(]\  
真正的原因在气体纯度变化了，空气里大部分是氮气。 &N[~+"  
你镀的氧化物材料变成了部分的氮化物材料。

ouyuu:外观？指颜色还是发雾，或者是灰尘？ )67Kd]  
原因不一样的。 (2017-12-04 00:36)  /=FQ{tLr  

T]Vh]|_s  
外观就是点子，具体是灰尘还是啥，还真不好说，呈现出来的是密集型的小点子一样。

点子更可能是中和器引起的。  =SRp  
中和器多维护，点子就会少很多。