摘要:在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程,軟體中內建各種工具讓
序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌,其中包含一鍵轉換非序列,以及關鍵光線組等工具。
q\-xg*' 本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光,內容包含:
mNGb}
lR * 介紹雜散光
fbi H * 轉換序列式設計到非序列模式
?Aj\1y4L1 * 設計鎖定工具
O1l4gduN|i * 關鍵光線組產生器 & 追跡
,dGFX]P * 用 Filter String 篩選光路徑
=<Zwv\U * 使用 Path Analysis 工具分析光路徑
DtI%-I. ?tW%"S^D 文章發布時間:April 23, 2017
@#G6z`, 文章作者:Michael Cheng
w}]3jc84 ZA 99vO 簡介
e2,<,~_K6 使用者用序列模式設計鏡頭,處理完
成像品質、畸變、相對
照度以及
公差分析等問題之後,在原型製作之前,還會需要進行機構相關的分析,以避免出現多重反射的鬼影或強烈
光源散射的雜光。一般來說,雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統,最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例:
hqwz~Ky} @$K![]oD #khyy-B= 在照相領域中,常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射,或是視野內的光源通過鏡片二次反射,聚焦到像面上這兩種。而在其他系統,例如天文望遠鏡,可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例:
WW,r9D:/ P\ Pc/[
Z7 Y9\]3Kno W]C_oh 開啟範例檔
]JhDRJ\ 首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx
)x9nED{ 作為前置作業,讓我們先把所有的鍍膜都取消,因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。
_Ct@1}aa4x 64IeCAMVo #!K~_DL :BC<+T= 設計鎖定工具
a78;\{&L' 接著我們執行Design Lockdown工具,此工具會調整使用者的系統設定,使鏡頭符合實際運作的條件,分析結果更正確。
n57c^/A* 粗略來說,這個工具所執行的步驟如下:
q/aL8V<"z * 開啟 Ray Aiming
~7eUt^SD; * 系統孔徑設為 Float By Stop Size
'Sb6
w+ * 改為 Angle 或 Object Height
A[wxa * 固定表面孔徑:Circular Aperture
g,{Ei]$>I * 移除漸暈係數
AVdd?Ew 關於更詳細的說明,使用者可以參考Help文件的說明。
Wr}a\}R ^*4(JR
oeRYyJ J$e Z Lj 產生關鍵光線組
ocDVCCkxg 在轉換到非序列模式之前,讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線,這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中,直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下:
=~(L JPo6 ijR*5#5h %te'J G< Is#v6:#^ 轉換到非序列
ivDG3>"JG 在OpticStudio分析雜散光最方便的就是,我們只需要一個步驟,就能快速地切換到非序列模式中。
A~%g" 有關於序列到非序列模式的切換,我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章,讀者有興趣可以參考,此文章標題為:轉換序列式面到非序列物件
3n=O8Fp JsoWaD &p(*i@Ms AyI}LQm]u 按一下OK後,可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表,可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface,而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件,他們的位置跟原本序列式系統中的像面,視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外,跟原本序列模式並無不同。
(p#;6Xhf rE'
%MiIK t'_,9 FC/>L 非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同,其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗,並勾選 “Split NSC Rays”,就可以看到如下圖:
IhFw {=2* V!aC#^ CUTEp/+ *T}dv)8 我們也可以用Shaded Model觀看,效果如下:
83O^e&Bt Z<m'he eyl) uR =kZwB*7 檢查關鍵光線組的狀況
@'G ( k; 讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下,可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時,將會需要把機構元件的
CAD檔匯入,再次使用此工具,確保機構沒有不小心遮蔽到主要
光束。
lhvZ*[[<) WZy6K(18"' E&Zx]?~ u/c~PxC 分析雜散光所需的設定
|^&2zyUj/ 在開始追跡檢查雜光狀況之前,讓我們先來調整一些必要的設定。
p~{%f#V 首先是把最大光線分裂次數,以及最大光線與物件交會次數調整到最高,在雜光的分析中,有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的,如果分裂次數或交會次數的設定不足,可能無法充分分析到所有狀況。
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Z+pvdu 然後我們把追跡的光線數降低到5000條,原因是分析雜散光時,通常一條光線會分裂為非常多的子光線,比起不分裂的狀況,速度可能慢上十幾倍到百倍不等,這邊以示範為目的,因此我們把光線數量控制到較少的5000。
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7f^[+ "Qm~;x2kB 最後一步是把探測面的
像素數設為150x150,這會讓追跡的速度較快。
A`ertSlbhe 2K7:gd8Ru }5c'ui!3H J&0wl]w|O% 初步追跡結果
m{=~|I 然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡,如下圖設定操作。
nr9#3Lb 注意如下圖所示,追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。
AK\g-]8
1)kl jwE(]u Ss#{K; 追跡完畢後開啟Detector Viewer,此工具的位置如下。
J$=b&$I( n;T 0:(dl@I)@ =R8.QBVdN 並且設定視窗如下圖。
:|6D@ ]KV8u1H> \iTPJcb5 VBj;2~Xj4h 可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。
,Z\,IRn *V<2\- ba:du
|Ec d4=u`2w 使用Filter String
5r}(|86O/ 現在我們要找出這些雜光的發生原因,並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光(鬼影光)。為了特定出這些特定的光線,我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的
功能(下圖中紅框框起來的部分)。
JdNPfkOF ` vmk ve/6-J!5Y. -tdON 接下來我們要使用一個快速的技巧,從前述的鬼影光線中,把入射到像面(探測器)上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的,如下圖紅框的部分,此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例,預設是1x10^-6,代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。
yA )+- 現在請輸入0.005,這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時,就停止追跡。
+OuG!3+w lNnbd?D8 KKTfxNxJn ykl=KR 此時回到Layout中,重新整理多次之後,可以看到以下幾種路徑。
Fm+)mmJP N`GwL
aF o2UJ*4 -VT?/=Y
s ,OFr]74\ 6L% R@r 給透鏡加上鍍膜
1+ARV&bc 為了輕減這些鬼影光,我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層(coating),並了解其效果。
\}Kp=8@nE 這裡我們在
T%#P??k 物件6的Face 2以及
@x>2|`65Y 物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。
AS-t][m# >" 8j{s :1 I }I/dh 再次追跡之後,就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。
r*xw\ o8pe07n(W ^i k|l= Uwil*Jh !oRm.cO 分析特定區域的光 (使用Filter String)
L|'ME|
' 初步排除基本雜光之後,我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光,現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的,要怎麼辦?
a^1c _ <^Nj~+G' VNot4 62L H%gD[!^ 這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中,Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中,可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的,我們還可以使用邏輯符號,例如「&、|、^」等,來組合出無限多種篩選條件。
xR%ayT. 現在我們要利用以下四個指令的組合,來達成篩選上述區域的功能。
`lOoT V zx(J) IYC#H} 6spk* 8e 現在讓我們重新追跡,並且這次追跡時,要勾選Save Rays的選項,如下圖。
jmNj#R@t 這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。
7anpz% K1WoIv<Ym ;;H:$lx D6:J*F&? 然後我們回到Layout中,讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史,並輸入剛剛的Filter String。
]>i0;RME }iloX# NX", e= zUu>kJZ 注意我在前面額外追跡設定了{#50},這代表要篩選出代表性的50條光線。
pU'sADC + # >%bq x 回到Layout中,就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。
^*W<$A_ 但這裡出現了一個問題,那就是我們發現有太多可能的路徑。
T#f@8 -XUE 根據經驗,我們知道不可能所有的路徑都是強烈的,這些路徑中,很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。
mR@Xt# ><7`$ 2Or ;a)\5Uy
n(1"6 :*nBo H)+kN'J 進階路徑分析
)5OU!c 因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具,工具位置如下。
I]$d,N!. 注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。
[SvwJIJJ EKD>c$T^ @S92D6 KYW1<Wcp 分析後可以看到所有路徑中,幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。
nd1*e 讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。
O+J;Hp;\_ 把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單,只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。,可以看到如下圖。
sn#h=,*4` 3NWAyCq- "c*|vE YTh4&wm 啊哈!分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑,實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。
dfcG'+RU} i%
lB
U1 下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果,跟前面一樣,我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。
[DEw:% Nf'9]I B6oAW ,3 lukV
G2wDL TI es]m 6A <`q o*__1 Qd?P[xm Oc`fQqYy _F EF+I (转自:中文版 Zemax Forum )