摘要:在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程,軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌,其中包含一鍵轉換非序列,以及關鍵光線組等工具。 0)84Z.k
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光,內容包含: @Xh4ZMyEx
* 介紹雜散光 "zv+|_ZAfd
* 轉換序列式設計到非序列模式 7kb`o
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* 設計鎖定工具 *JDc1$H0
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 NyGF57v[M
* 用 Filter String 篩選光路徑 5H',Bm4-
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 }??q{B@v
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文章發布時間:April 23, 2017 Rc6Rk!^
文章作者:Michael Cheng =N3~2=g~A
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簡介 ;J`X0Vl$
使用者用序列模式設計鏡頭,處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後,在原型製作之前,還會需要進行機構相關的分析,以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說,雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統,最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例: X~j
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在照相領域中,常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射,或是視野內的光源通過鏡片二次反射,聚焦到像面上這兩種。而在其他系統,例如天文望遠鏡,可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例: -Zw"o>
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開啟範例檔 %ZxKN ;
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx w68qyG|wM
作為前置作業,讓我們先把所有的鍍膜都取消,因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 H;Bj\-Pa
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設計鎖定工具 {vU '>pp
接著我們執行Design Lockdown工具,此工具會調整使用者的系統設定,使鏡頭符合實際運作的條件,分析結果更正確。 ;3-ssF}k*
粗略來說,這個工具所執行的步驟如下: 0(..]\p^d
* 開啟 Ray Aiming Mu:H'$"'H
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size B
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* 改為 Angle 或 Object Height _}\&;
* 固定表面孔徑:Circular Aperture T<ua0;7
* 移除漸暈係數 ^@ux
關於更詳細的說明,使用者可以參考Help文件的說明。 )/=J=xw2
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產生關鍵光線組 s}A]lY
在轉換到非序列模式之前,讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線,這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中,直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下: w(@`g/b
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轉換到非序列 LQS*/s0
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是,我們只需要一個步驟,就能快速地切換到非序列模式中。 Ylf 6-FbF
有關於序列到非序列模式的切換,我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章,讀者有興趣可以參考,此文章標題為:轉換序列式面到非序列物件 I?:V EN:
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按一下OK後,可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表,可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface,而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件,他們的位置跟原本序列式系統中的像面,視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外,跟原本序列模式並無不同。 Tu"yoF
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非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同,其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗,並勾選 “Split NSC Rays”,就可以看到如下圖: .!`j3W]
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我們也可以用Shaded Model觀看,效果如下: x
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檢查關鍵光線組的狀況 _6|b0*jv'&
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下,可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時,將會需要把機構元件的CAD檔匯入,再次使用此工具,確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 x_Z~k
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分析雜散光所需的設定 ffWvrY;j[
在開始追跡檢查雜光狀況之前,讓我們先來調整一些必要的設定。 57#:GN$EL
首先是把最大光線分裂次數,以及最大光線與物件交會次數調整到最高,在雜光的分析中,有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的,如果分裂次數或交會次數的設定不足,可能無法充分分析到所有狀況。 \ pq]q
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然後我們把追跡的光線數降低到5000條,原因是分析雜散光時,通常一條光線會分裂為非常多的子光線,比起不分裂的狀況,速度可能慢上十幾倍到百倍不等,這邊以示範為目的,因此我們把光線數量控制到較少的5000。 |ST&,a$(
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最後一步是把探測面的像素數設為150x150,這會讓追跡的速度較快。 Sz._XY^
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初步追跡結果
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然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡,如下圖設定操作。 mT9TSW}
注意如下圖所示,追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 dW=]|t&
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追跡完畢後開啟Detector Viewer,此工具的位置如下。 7+z%O3k'I
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並且設定視窗如下圖。 K4
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可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 M^bujGD
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使用Filter String U_!6pqFc
現在我們要找出這些雜光的發生原因,並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光(鬼影光)。為了特定出這些特定的光線,我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能(下圖中紅框框起來的部分)。 w</kGK[O
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接下來我們要使用一個快速的技巧,從前述的鬼影光線中,把入射到像面(探測器)上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的,如下圖紅框的部分,此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例,預設是1x10^-6,代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 a~{mRh
現在請輸入0.005,這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時,就停止追跡。 e06r5%|.%
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此時回到Layout中,重新整理多次之後,可以看到以下幾種路徑。 GB{%4)%6
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給透鏡加上鍍膜 Iz ,C!c
為了輕減這些鬼影光,我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層(coating),並了解其效果。 9iGJYMWf
這裡我們在 DSQ2z3s2
物件6的Face 2以及 yYW>)
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 pV1~REk$&
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