摘要:在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程,軟體中內建各種工具讓
序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌,其中包含一鍵轉換非序列,以及關鍵光線組等工具。
CwB] )QV? 本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光,內容包含:
`=v@i9cTZ * 介紹雜散光
]wR6bEm7 * 轉換序列式設計到非序列模式
DzE E:&*= * 設計鎖定工具
;Lqm#]C * 關鍵光線組產生器 & 追跡
}M="oN~w * 用 Filter String 篩選光路徑
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"c/a8 * 使用 Path Analysis 工具分析光路徑
ME,duY/>Q $WJy?_c 文章發布時間:April 23, 2017
W7T"d4 文章作者:Michael Cheng
6<+8}`@B>G ?qIGQ/af& 簡介
',%5mF3j 使用者用序列模式設計鏡頭,處理完
成像品質、畸變、相對
照度以及
公差分析等問題之後,在原型製作之前,還會需要進行機構相關的分析,以避免出現多重反射的鬼影或強烈
光源散射的雜光。一般來說,雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統,最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例:
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}R\B.2#M_@ ~"\P~cg0J 在照相領域中,常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射,或是視野內的光源通過鏡片二次反射,聚焦到像面上這兩種。而在其他系統,例如天文望遠鏡,可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例:
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2t.fD@ L% zuI& q eNivlJ,K|@ 開啟範例檔
l2r>|CGQ[ 首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx
iAg}pwU 作為前置作業,讓我們先把所有的鍍膜都取消,因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。
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%"{?[!C ? 9/^d~ZO gMCy$+? 設計鎖定工具
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|D 接著我們執行Design Lockdown工具,此工具會調整使用者的系統設定,使鏡頭符合實際運作的條件,分析結果更正確。
Us*Vn 粗略來說,這個工具所執行的步驟如下:
OY$7`8M[ * 開啟 Ray Aiming
}&=uZ: * 系統孔徑設為 Float By Stop Size
;Xz(B4 N~o * 改為 Angle 或 Object Height
mJ/^BT] * 固定表面孔徑:Circular Aperture
E:%>0FE * 移除漸暈係數
x={kjym L 關於更詳細的說明,使用者可以參考Help文件的說明。
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j`Tm\!q tYF$#Nor#k 產生關鍵光線組
bW}b<(y 在轉換到非序列模式之前,讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線,這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中,直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下:
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L,tZh0 u87=q^$ 轉換到非序列
uF.Q " ,< 在OpticStudio分析雜散光最方便的就是,我們只需要一個步驟,就能快速地切換到非序列模式中。
wrhBH;3 有關於序列到非序列模式的切換,我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章,讀者有興趣可以參考,此文章標題為:轉換序列式面到非序列物件
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%e,z 1*TXDo_T 按一下OK後,可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表,可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface,而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件,他們的位置跟原本序列式系統中的像面,視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外,跟原本序列模式並無不同。
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8" xq8}6Q 非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同,其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗,並勾選 “Split NSC Rays”,就可以看到如下圖:
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A&xab 't||F1X~J 我們也可以用Shaded Model觀看,效果如下:
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yIn/Y 0No &Xj {:s# 檢查關鍵光線組的狀況
oUnq"] 讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下,可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時,將會需要把機構元件的
CAD檔匯入,再次使用此工具,確保機構沒有不小心遮蔽到主要
光束。
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