[转载]各種雜散光分析工具介紹 [复制链接]

摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。 o`jVd,aj  
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含： &53LJlL Co  
* 介紹雜散光 )=h+5Z>E1  
* 轉換序列式設計到非序列模式 Oi!uJofW  
* 設計鎖定工具 `?"[u"*  
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 -A8CW9|mk  
* 用 Filter String 篩選光路徑 h*NBSvn  
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 gdBH\K(\  
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Jx8XU  
文章發布時間：April 23, 2017 S#D6mg$Z,  
文章作者：Michael Cheng jivGkIj!8  
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簡介 yzCamm4~0  
使用者用序列模式設計鏡頭，處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例： }!vJ+  
$T'lWD*  
_nW#Cl~  
在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例： sr$JFMTO11  
^paM{'J\\)  
(d5kD#.N  
BG20R=p  
開啟範例檔 \R#OJ=F  
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx
i\P)P!  
作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 4q^'MZm1  
[%6"UH r  
SxRa
?5  
)mXu{uowr  
設計鎖定工具 ]OA8H[U-eA  
接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。 7NfA)$  
粗略來說，這個工具所執行的步驟如下： k'{Bhi4  
* 開啟 Ray Aiming 20RISj  
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size Z:%~Al:  
* 改為 Angle 或 Object Height Bt-2S,c
,o  
* 固定表面孔徑：Circular Aperture arj?U=zy  
* 移除漸暈係數 -6>T0-  
關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。 I.}E#f/A'  
6M_,4> -  
Hk|wO:7
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w ]$Hr   
產生關鍵光線組 @ **]o  
在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下： KP]{=~(  
DlbNW& V  
Dj@7vM%_  
kC-OZVoO  
轉換到非序列 (E?X@d iu  
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。 r(cd?sL96R  
有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件 /aD3E"Op  
LYyOcb[x  
OuF%!~V  
s8 0$   
按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。 R<x~KJ11c  

La'XJ|>V  
;sn]Blpq  
6` @4i'.  
非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖： if
y}xv  
=L&}&pT  
Ves x$!F#  
+(3U_]Lu  
我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下： .a`(?pPr,  
6Z3L=j  
;/g Bjp]H  
S4FR=QuVQC  
檢查關鍵光線組的狀況 K_sHZ  
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 a6i%7Om  
1MnT*w  
o\;cXuh  
Sr?2~R0&  
分析雜散光所需的設定 Wc qUF"A  
在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。 KN-)m ta&  
首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。 [b6P }DW  
Ryrvu1 k  
i917d@r(<  
DqGm
 
然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。 .8EaFEd  
Q,m1mIf  
qTUyax  
9d_ Zdc  
最後一步是把探測面的像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。 Y(3X5v?[  
H!yqIh  
%DR8M\d1~H  
2/m4|  
初步追跡結果 R+y 9JE  
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。 HXp$\%A)  
注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 sw^4h`^'  
C=>IJ'G  
)eaEc9o>  

51&K  
追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。 14 Toi  
$)6%LG_@  
Qaeg3f3F3  
7lH3)9G;  
並且設定視窗如下圖。 kMP3PS  
/pS Y~*  
}5qpiS"V9  
&<RK=e'*x  
可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 nkAS]sC  
E6Uiw]3  
(AI 4a+  
}lP'bu  
使用Filter String Z&W*@(dX  
現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能（下圖中紅框框起來的部分）。 |b'}.(/3i  
9O2??N7f  
y}bliN7;1e  
U1^3 &N8  
接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 f\U(7)2  
現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。 M!)~h<YL  
3JJE
j1O  
_(%;O:i  
yJn<S@)VT:  
此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。 ,z0~VS:g8  
r(6$.zx  
,\Uc/wR  
/c:78@  
1@S(v L3a  

>Xv Fg  
給透鏡加上鍍膜
:.bBV]6q  
為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。 O ! iN  
這裡我們在 UOYhz.  
物件6的Face 2以及 Lsb`,:  
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 P4{!
/&/  
F+Q(^Nk  
Sxzt|{  
,|G~PC8  
再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 0n-S%e5  
RHv|ijYy  
'}BYMEd/m%  
rMEM$1vPU  
T7qE 2  
分析特定區域的光 (使用Filter String) '?)<e^  
初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？ %&}gt+L(M  
LzGS
N  
Bb9/nsbE  
m[8?d~  
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。 |B~^7RHXo  
現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。 yp l`vJ]X  
(JdZl2A.  
4RyQ^vL  
O~DdM
W  
現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。 R8N*. [  
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 NSkIzaNY  
PSREQK@}E  
>&`;@ZOH  
$*q^7ME  
然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。 9gQ ]!Oq  
:TkR]bhm  
2C[xrZa^  
X]+z:!  
注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。 &<oJw TC  
d8ck].m=  
回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 !Y^3%B%  
但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。 %Rm`+  
根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 _MxKfah'  
< VrHWJo  
5-2#H?:U  
pKNrEq  
-F`uz,wZ  
P TMJ.;  
進階路徑分析 vugGMP;D(  
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。 ocPM zq-  
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 KybrSa  
n@_aTY  
05s{Z.aK  
Q/]t$  
分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 ~ya@ YP]';  
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 ')zf8>,  
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。 bvF-F$n%F  
sg%Ptp  
t~_bquGk  
w42=tN+B  
啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 IutU~%wv  
 1 .Nfl@]  
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 ^u-;V
oK  
"Ta"5XW  
<_3OiU=w  
5gg
sOqH  
z$Z
{ LR  

[Z2mH  
9CPr/q9'  
RfQ*`^D  
;!pSYcT,  
Btyp=wfN[  
（转自：中文版 Zemax Forum ）

这个功能不错

多谢楼主分享

这个操作起来有点繁琐，不如tracePro来的简单明了

dio中從設計鏡頭到分析雜