摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。 SYeE) mI
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含： Ox~ 9_d
* 介紹雜散光 f0u56I9
* 轉換序列式設計到非序列模式 4 QO/ff[ o
* 設計鎖定工具 16?C@` S>
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 5y04 0
N-
* 用 Filter String 篩選光路徑 "Tv:*L5
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 X5 j=C]
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文章發布時間：April 23, 2017 -<PC"B
文章作者：Michael Cheng "ee'2O
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簡介 5a6VMqQ6
使用者用序列模式設計鏡頭，處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例： Ox|TMSb^
Li]k7w?H
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在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例： Co[n--@C
TW2Z=ks=
DRp &I P<
ZL=N[XW4'
開啟範例檔 +YuzpuxjJ
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx M!#AfIyB
作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 g Jk[Ja
2kV p_=c
@C=M
UT-!
3}j1RYtz
設計鎖定工具 7
v~ ro
接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。 ^aHh{BQ%
粗略來說，這個工具所執行的步驟如下： QLn+R(r
* 開啟 Ray Aiming VAs ( .y
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size L1{T
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* 改為 Angle 或 Object Height rn H}#u+
* 固定表面孔徑：Circular Aperture ULIFSd Y
* 移除漸暈係數 r6 MB"4xd
關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。 D^|7#b,zcH
9x[ U$B
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PtqGX=u
產生關鍵光線組 B4^`Sw
在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下： 4'm q_o#4W
U!0E_J
hiN/S|JN8y
t!0d Jud
轉換到非序列 ?@DNsVwb
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。 [@|be.g
有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件 Cg3ODfe
qv ux hz F
`m, Ki69.
q]XHa ,"
按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。 Um\0i;7 ~4
;s }3e#$L
$ rB6<
3S ;N(A4
非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖： lQL:3U0DjU
R8 jovr
($ S Lb6
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我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下： /PW&$P1.]"
S =PJhAF
6c & Y
^yJ:+m;6K
檢查關鍵光線組的狀況 -TS?
fne)
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 n`.#59-Hx
/AR]dcL@76
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[q3+$W \r
分析雜散光所需的設定 t !~ S9c
在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。 m|1n
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首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。 Up|f=@=
7kd|K
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然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。 7=3O^=Q ^Q
.Q[yD<)Ubs
nh0&'hA
6p m~sD
最後一步是把探測面的像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。 2*Q3 .2 Z
8 [R1A
D:m#d.m
FUqt)YHi
初步追跡結果 ~-<:+9m
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。 d1bhJK
注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 SH= :p^J
u E.^w;~2=
(} jL_ E
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追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。 }"4roJ
P^zy; Qs7
7P*Z0% Q
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m6)
並且設定視窗如下圖。 ls @5^g
fnOIv#
(}"S) #C
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可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 W>$BF[x!{
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S_5?U2%D
'=#5(O%pp
使用Filter String =YHt9fb$c
現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能（下圖中紅框框起來的部分）。 Kj!Y K~~
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Nf5 WQTa4
MA6P"?
接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 KZ
)Ys
現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。 n$W"=Z;`
xlw 2g<s
0 '@u !m?
1ktHN: ta
此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。 v.b5iv 5
L#ZLawG
"mt p0
7E\gxQ(vU
)S Q('vwg
:~33U)?{T
給透鏡加上鍍膜 <r;o 6>+
為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。 PkJcd->
這裡我們在 #>bT<
物件6的Face 2以及 4=s9A
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 : I)G v
ZqP7@fO_%
<I 1y
7}o6_i
再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 !qw4mN
!7c'<[+Hm
Fx5ZwT
t
Z(UD9wY5 m
A$<>JVv
分析特定區域的光 (使用Filter String) lR}%)3_k
初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？ @G(xaU'u
s|gp
@'HT;Q!\Vd
XNlhu^jh
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。 N5KEa]k1nw
現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。 9 `INC~h
y;:]F|%<
:MBS>owR
Y-]YDXrPQ
現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。 ]V iOr8u
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 >HIt}Zh
}! =U^A)
h ~fWE
jN {Zw*
然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。 yZ~b+=UM
1I
\tu
cUs L 6y
s ^3[W0hL
注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。 ]?#
#))RUS
JT#7yetk'
回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 J&_3VKrN
但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。 mmcdtVe
根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 '%ebcL
p I 5_Hg
.HCaXFW
]4GZ'&m}
S\b K+
wibwyzo
進階路徑分析 rg*^w!
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。 D2)i3vFB
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 {NV:|M !
ssT@<Tk^4
@`Wt4<
|i u2&p >
分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 (Z
8,e
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 #Z!#;%S
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。 u>m'FECXj
Vpw[B.v
7$#rNYa,z
i7(~>6@|
啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 hMWo\qM
=+4 _j
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 wsI 5F&R,
S?2YJ l 8B
.8x@IWJD
]K*GSU
E9L!)D]Y
F: ,#?
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Y!it!9
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（转自：中文版 Zemax Forum ）
