摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。 p{SIGpbR&
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含： o5Knot)Oy
* 介紹雜散光 y6s/S.
* 轉換序列式設計到非序列模式 "[Tr"nI
* 設計鎖定工具 : B1
"=ly
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 \(5Bi3PA}
* 用 Filter String 篩選光路徑 (m.jC}J
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 8@T0]vH&
F1`mq2^@
文章發布時間：April 23, 2017 =ae hhs>
文章作者：Michael Cheng PM {L}tEQ
~ r$I&8
簡介 qrt2uE{K
使用者用序列模式設計鏡頭，處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例： > 4#\ U!
o tP2qAI
)*o) iN 7l
在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例： :4COPUBpPV
Ja@ ?.gW
ZQ[ s:
91#n A j%
開啟範例檔 UB% ;P-RD
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx 1fF\k#BE-%
作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 dsb z\w3:
|txzIc.#
q93V'[)F
i'#%t/ u
設計鎖定工具 x6 =tS
接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。 i\MW'b
粗略來說，這個工具所執行的步驟如下： +.hJ[|F1&
* 開啟 Ray Aiming D[Ld=e8t
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size `R$bx 64
* 改為 Angle 或 Object Height wp-3U}P2 (
* 固定表面孔徑：Circular Aperture 6(HJYa
* 移除漸暈係數 RWn#" ~
關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。 +6Vu]96=KC
<5sfII
+,9Muf h
A?c?( ~9O
產生關鍵光線組 Z,b^f
Vw
在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下： HL!" U (_
R"PO@v
W8!8/ IZbN
8@I.\u)0
轉換到非序列 6r,zOs- I]
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。 wtGb 3D"am
有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件 sF#t{x/sW
h3A|nd>\
]g9n#$|.
tLx8} @X"
按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。 ; WL0
6[>Z y)P
E __A1j*gd
^EKf_w-v
非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖： \G1(r=fU
*K w/ilI
d _koF-7
Qp>Q-+e0
我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下： .s @[-!
p
yAVt[+0
OB ~74}3;
^KFwO=I@PV
檢查關鍵光線組的狀況 7kidPAhY
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 v #+tu,)V;
woK?td|/
{eo?vA8SE
{{_,YO^w
分析雜散光所需的設定 9L9mi<,
在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。 w 9 a6F
首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。 -3:x(^|:K
&,`P%a&k
&Lgi
WR"p2=
然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。 T?FR@.
Rm
}L*c P;m#
*CXVA&?
(tP^F)}e5
最後一步是把探測面的像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。 r7p>`>_Q\
/=7[Q
gG=E2+=uy
meV
RdQ
初步追跡結果 \>-%OcYlM
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。 pF "IDC
注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 *,DBRJ_*7
J&6]3x
c^8y/wfok
}'
t*BaU
追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。 V|fs"H Y
_/!IjB:(70
ffYiu4$m
NASRr
並且設定視窗如下圖。 ysiBru[u
=>6'{32W_
XX(;,[(_
,Z I" + v
可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 _sCpyu
Z5o6RTi
",T-'>h$2R
D?Q{ &6p
使用Filter String ABp/uJI)
現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能（下圖中紅框框起來的部分）。 vQ}llA
h
Ofg-gCF8
kSw.Q2 ao
DP9hvu /85
接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 FiqcM-Af4
現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。 fW4N +2
Pw '3ya8
# -Ts]4v
/^\6 q"'
此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。 L% JmdY;
?J~(qa a;
j{9sn,<:
3B |o
/ %U+kW
~V"D|U;i +
給透鏡加上鍍膜 ``}EbOMG
為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。 amIG9:-1'
這裡我們在 ]|[oL6"
物件6的Face 2以及 fgP_NYfOj
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 $R7n1
?j8F5(HF?
|}\et
ecB
a<M<) {$u
再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 n ||/3-HDj
^l6q
-lm\~VZT3
(AdQ6eGM b
kQ~*iY
分析特定區域的光 (使用Filter String) `Q*L!/K+
初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？ +I7 n6s\
;z>)&F
_d&F B~=
,&!Txyye
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。 QOk Pli X
現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。 ajW[}/)
vO"Sy{)Z>
A - G?@U
5~ CHj
現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。 }Z- ]m
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 [C)-=.Xx)j
C9U~lcIS
<5A(rDij
keEyE;O} u
然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。 g&H6~ +\
|Gb"%5YD
B]q
&?~
J
A ]s
注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。 S\
~W pf
_YY:}'+
回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 UfSWd R)
但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。 ^ Pf FW
根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 ` a5$VV%J
o jzO?z
G@anY=D\EB
!12W(4S5
lN )U8
69 R8 #M
進階路徑分析 o-B9r+N
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。 NWSBqL5v
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 ;$ =`BI)
EUU9JnQhBJ
7E4=\vM
`(<Xdl Oj
分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 V 4}9f5FR
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 l
njaHol0
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。 1"009/|
n M1U=Du
? r=cLC
s"< k) Xi
啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 Slcf=
iTi<X|X
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 <P7 f\$o~
h*{{ _3,
.G#S*L
a1]k(AuQrC
*[(O&L&0
' D+h_*H
q drk.~_
^)conSm
@ ;M( oFS9
G*ZHLLO4S\
（转自：中文版 Zemax Forum ）
