摘要:在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程,軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌,其中包含一鍵轉換非序列,以及關鍵光線組等工具。 g_5Q A)4x
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光,內容包含: fXI:Y8T
* 介紹雜散光 pG1WXbqW
* 轉換序列式設計到非序列模式 _Z5Mw+=19
* 設計鎖定工具 7dsefNPb
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 WE]e
m
>
* 用 Filter String 篩選光路徑 (Yo>Oh4
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 2(5ebe[
8k
q5ud
文章發布時間:April 23, 2017 s,#>m*Rh
文章作者:Michael Cheng kKC9{^%)
(=D&A<YX
簡介 sf&]u;^DY
使用者用序列模式設計鏡頭,處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後,在原型製作之前,還會需要進行機構相關的分析,以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說,雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統,最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例: lL1k.&|5m
I>L-1o|^
8-<:i
在照相領域中,常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射,或是視野內的光源通過鏡片二次反射,聚焦到像面上這兩種。而在其他系統,例如天文望遠鏡,可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例: ifN64`AhRX
AJ#Nenmj
{*{Ox[Nh{
@(r/dZc
開啟範例檔 6aM*:>C"
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx )95f*wte
作為前置作業,讓我們先把所有的鍍膜都取消,因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 4pw6bK,s2\
Q.K,%(^;a
ca+5=+X7
KYzv$oK
設計鎖定工具 y;/VB,4V
接著我們執行Design Lockdown工具,此工具會調整使用者的系統設定,使鏡頭符合實際運作的條件,分析結果更正確。 H"A7Zo
粗略來說,這個工具所執行的步驟如下: LL:_L<
* 開啟 Ray Aiming |:8bNm5[
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size 6@DF
* 改為 Angle 或 Object Height }&_/PA0j
* 固定表面孔徑:Circular Aperture (5]}5W*
* 移除漸暈係數 B)d(TP,>
關於更詳細的說明,使用者可以參考Help文件的說明。 d!eYqM7-G
$D G?M6
8WnwQ%;m?
J2:y6kGj>
產生關鍵光線組 j?'GZ d"B
在轉換到非序列模式之前,讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線,這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中,直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下: Gea\,{E9xA
7uzkp&+:
|i++0BU
Xh56T^,2
轉換到非序列 -GxaV #{
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是,我們只需要一個步驟,就能快速地切換到非序列模式中。 W6Y]N/v3>
有關於序列到非序列模式的切換,我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章,讀者有興趣可以參考,此文章標題為:轉換序列式面到非序列物件 21"1NJzP
|1j["u1
dAuJXGo
$|8!BOx8t
按一下OK後,可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表,可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface,而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件,他們的位置跟原本序列式系統中的像面,視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外,跟原本序列模式並無不同。 l\i)$=d&g
~3<>
3p
p,#o<W
R17?eucZ
非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同,其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗,並勾選 “Split NSC Rays”,就可以看到如下圖: 'inFKy'H
\ Yx/(e
B
{>7-0
Dh=9Gns9
我們也可以用Shaded Model觀看,效果如下: YPxM<Gfa8
|ZmUNiAa
{;2PL^i
_bNzXF
檢查關鍵光線組的狀況 q.;u?,|E/
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下,可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時,將會需要把機構元件的CAD檔匯入,再次使用此工具,確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 lnjXDoVb<
v/ _
JD|=>)
'dn]rV0(C
分析雜散光所需的設定
094o'k
在開始追跡檢查雜光狀況之前,讓我們先來調整一些必要的設定。 W)bLSL]`E
首先是把最大光線分裂次數,以及最大光線與物件交會次數調整到最高,在雜光的分析中,有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的,如果分裂次數或交會次數的設定不足,可能無法充分分析到所有狀況。 ?32&]iM
oW
FYpzQ6s~
s%W C/ZK
~A\GT$
然後我們把追跡的光線數降低到5000條,原因是分析雜散光時,通常一條光線會分裂為非常多的子光線,比起不分裂的狀況,速度可能慢上十幾倍到百倍不等,這邊以示範為目的,因此我們把光線數量控制到較少的5000。 ZP(f3X@
J\b^)
yK=cZw%D
c24dSNJg,
最後一步是把探測面的像素數設為150x150,這會讓追跡的速度較快。 $&n=$C&x
r 8RoE`/T
DW[N|-L
#"G]ke1l$
初步追跡結果 Bx<
<~[Ws}
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡,如下圖設定操作。 .:F%_dS D
注意如下圖所示,追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 8A})V8
vQ
6^xvk]
r97pOs#5:
"]}
bFO7C
追跡完畢後開啟Detector Viewer,此工具的位置如下。 Iy&!<r7:]0
fumm<:<CLO
JxM]9<a=4
?82xdpg
並且設定視窗如下圖。 "~|6tQLc
|IzPgC
FOE4>zE
^'PWI{ O
可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 m+]K;}.}R
V@g'#={r
cQ
R]le%(
_uy44;zq
使用Filter String
f6&iy$@
現在我們要找出這些雜光的發生原因,並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光(鬼影光)。為了特定出這些特定的光線,我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能(下圖中紅框框起來的部分)。 :74y!
u 7>],<
ig/xv
!$gR{XH$]
接下來我們要使用一個快速的技巧,從前述的鬼影光線中,把入射到像面(探測器)上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的,如下圖紅框的部分,此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例,預設是1x10^-6,代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 _l89
現在請輸入0.005,這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時,就停止追跡。 #Lh;CSS
9y"@(
-lY6|79bF
+~ P2C6@G
此時回到Layout中,重新整理多次之後,可以看到以下幾種路徑。 v dc\R?
.1Dg s=|
Q+{xZ'o"Z
s"r*YlSp"
g}1B;zGf
Z 2V.3
給透鏡加上鍍膜 2K/4Rf0;
為了輕減這些鬼影光,我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層(coating),並了解其效果。 "#2a8#
這裡我們在
iu=7O
物件6的Face 2以及 .SU8)T
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 8V`WO6*
d:C 'H8
kTOzSiq
3
/g~A{
再次追跡之後,就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 KQ% GIz x
I-]?"Q7Jz
dO!
kk"qn
UD2C>1j
Y!w`YYKP
分析特定區域的光 (使用Filter String) "jKY1*?
初步排除基本雜光之後,我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光,現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的,要怎麼辦? KQ!8ks]
Bq%Jh
Z&+ g;(g
+V ;l6D
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中,Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中,可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的,我們還可以使用邏輯符號,例如「&、|、^」等,來組合出無限多種篩選條件。 wDal5GJp
現在我們要利用以下四個指令的組合,來達成篩選上述區域的功能。 \/r}]Vz
"c%0P"u
3nO]Ge"w'n
X9W@&zQ
現在讓我們重新追跡,並且這次追跡時,要勾選Save Rays的選項,如下圖。 'CM|@Zz%
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 Q4#m\KK;i9
;"5&b!=t
?jv/TBZX4
{4<C_52t
然後我們回到Layout中,讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史,並輸入剛剛的Filter String。 O`IQ(,yef
t&C1Oo}=3
&
p
*5C7d*'
注意我在前面額外追跡設定了{#50},這代表要篩選出代表性的50條光線。 ;#W2|'HD
e5ZX
回到Layout中,就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 JzQ_{J`k
但這裡出現了一個問題,那就是我們發現有太多可能的路徑。 oM>l#><nq
根據經驗,我們知道不可能所有的路徑都是強烈的,這些路徑中,很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 X:"i4i[}{9
[Gb.
JO}X
{T$9?`h~M
q_[o"wq/
G:<aB
A4x]Qh3OO
進階路徑分析 iy.p n
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具,工具位置如下。 i+ ?^8#
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 gV's=cQ
HmGWht6R
Uiw2oi&_
K<3A1'_
分析後可以看到所有路徑中,幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 g*AWE,%=|
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 ,q`\\d
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單,只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。,可以看到如下圖。 Mq156TL
D0-3eV-
"<N*"euH
AlaW=leTe
啊哈!分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑,實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 BA:VPTZq
y%cP1y)
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果,跟前面一樣,我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 vH@ds
k
z\W64^'"Z
Q~
w|#
R B
&jJL"gq"
7;(`MIFXs
/hR&8 `\\
>y7?-*0
k(nW#*N_
z2~til
(转自:中文版 Zemax Forum )