大家好，最近在镀时用
TFCalc模拟的结果如下，Stack: (HL)^10 L (HL)^10，H: Si3N4，L: SiO2，其中高、低
折射率材料是用的实际
镀膜后实际测试的折射率
参数，应该比较真实吧。
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ox*>H kV 但测试结果如下，除了透射峰的位置不准确外，透射峰基本上没有了，为什么结果很差。我一直认为是吸收太大所致，但
模拟时采用的是真实测量的n、k值，多层膜吸收已经考虑之后进行的模拟，请大家帮忙分析一下，非常感谢！
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.b? Aq^i8 7^7Jh&b)/ +#Wwah$ X;1yQ |su V}Ee1C EsS$th)d 5eiKMKW[ x5|^p= [ 此帖被zlygsl在2017-05-08 19:41重新编辑 ]
