大家好,最近在镀时用
TFCalc模拟的结果如下,Stack: (HL)^10 L (HL)^10,H: Si3N4,L: SiO2,其中高、低
折射率材料是用的实际
镀膜后实际测试的折射率
参数,应该比较真实吧。
0i\M,TNf* f@|A[>"V
P 'od` 但测试结果如下,除了透射峰的位置不准确外,透射峰基本上没有了,为什么结果很差。我一直认为是吸收太大所致,但
模拟时采用的是真实测量的n、k值,多层膜吸收已经考虑之后进行的模拟,请大家帮忙分析一下,非常感谢!
c2'Lfgx4 ^Dn D>h@q M:[ %[+6 Ku}Z 2$g6}A`r \=ux atw FW G6uKv 9CWezI+ _n50C"X=&( [ 此帖被zlygsl在2017-05-08 19:41重新编辑 ]