该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 { AYW
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1. 建模任务 {cIk-nG-_
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 =mZYBm,IQ
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 Ew|Z<(
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2. 建模任务:正弦光栅 JJ_Z{
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x-z方向(截面视图) 0!0e$!8l
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光栅参数: m[3c,Axl7
周期:0.908um uyB 2
高度:1.15um &,jUaC5I
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) &;P\e
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3. 建模任务 2-8Dc4H]r
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 ly[dV.<P
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 -wV2
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4. 光滑结构的分析 K2xHXziQ
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 >L4F'#I
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% 2xO[ ?fR
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5. 增加一个粗糙表面 *(q?O_3,b
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 IA.7If&k
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 >(igVaZ>
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 [y'blCb
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 W&
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第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 1#_pj
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6. 对衍射级次效率的影响 |LQ%sV
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粗糙度参数: CA`V)XIsP
最小特征尺寸:20nm t}h(j|
总的调制高度:200nm JnK<:]LcK
高度轮廓 Q?>r:vMi
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 %+j/nA1%S
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm m-Jy
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总调制高度:400nm 高度轮廓 B;=Z^$%T
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效率 7MrHu2rZ=
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 ,S`n?.&& 7
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粗糙度参数: /fT"WaTEK
最小特征尺寸:40nm SQK82/
总调制高度:200nm @B>D>B
高度轮廓 ]aF;
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效率 ?y>ji1
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 tP! %(+V
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粗糙度参数: AH'c:w]~
最小特征尺寸:40nm U'" #jT
全高度调制:400nm D^%IFwU^
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 iLBORT!;
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7. 总结 r?[[.zm"7
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 P2jh[a%
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。
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光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 xf;>o$oN0P
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 ZPE-
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