该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 4Z~ nWs
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1. 建模任务 xd^Pkf
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 aSX4~UYB=
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 WcNQF!f
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2. 建模任务:正弦光栅 n+ebi>}P
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x-z方向(截面视图) <TtPwUX
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光栅参数: 4=Ru{ewRV
周期:0.908um fI<LxU_n:
高度:1.15um YYYF a
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) aH'fAX0bF
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3. 建模任务 hQm=9gS
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 B?=R= p
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 K {v^Y,B
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4. 光滑结构的分析 >*ls}
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 )2?]c
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% Yu_*P-Ja6
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5. 增加一个粗糙表面 Cy$~H
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 8fP2qj0
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 0<!9D):Bb
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 $5 mGYF]
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 e3SnC:OWf
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 XYWyxx5`
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6. 对衍射级次效率的影响 NgyEy n
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粗糙度参数: '=E;^'Rl
最小特征尺寸:20nm I#(lxlp"Ho
总的调制高度:200nm q"2APvsvp
高度轮廓 g,JfT^
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效率 zb9G&'7
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 vlkwWm
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm ik(YJw'i7E
总调制高度:400nm 高度轮廓 p"%D/-%Gu
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效率 HfSx*@\s
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 GO"|^W
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粗糙度参数: B=d<L^
最小特征尺寸:40nm uG7]s]Wdz;
总调制高度:200nm 7o+L
高度轮廓 B3ItZojAuw
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效率 _rYW|*cIF
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 gaz7u8$A=
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粗糙度参数: <h:xZtz
最小特征尺寸:40nm o^2MfFS
全高度调制:400nm jyIIE7.I"
高度轮廓 0V<kpC,4
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效率 XF(D%ygeC
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 htbE
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7. 总结 X,w X)9]J
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 u1X^#K$nu'
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 nvndgeSy
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 aH."|
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利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 9~W]D!m,
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