该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 te|VKYN%}[
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1. 建模任务 _ReQQti[
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 ,y0kzwPR1
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 ri:fo'4TO
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2. 建模任务:正弦光栅 s#Le`pGoW
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x-z方向(截面视图) 5}m2D='
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光栅参数: \z_@.Jw{
周期:0.908um ;7hf'k
高度:1.15um gs!{'=4wT
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) [)*fN|Hy
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3. 建模任务 k@Hu0x
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 @1>83-p"X
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 JK1b68n
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4. 光滑结构的分析 tHGK<rb
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 $)'{+1
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% Y)uNzb6R
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5. 增加一个粗糙表面
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 r}vrE
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因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 lFB Ka
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 = U^B,q
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 L\b$1U!i
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 >z(6ADq
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6. 对衍射级次效率的影响 NoPM!.RU{
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粗糙度参数: 'dx4L }d
最小特征尺寸:20nm {!=IGFe
总的调制高度:200nm au GN~"n^
高度轮廓 pHWol!
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效率 o XGf#>keg
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 ~>C!l k
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm ^tpy8TQ
总调制高度:400nm 高度轮廓 %';n9M
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效率 Uz1u6BF
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 ;T/' CD
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粗糙度参数: ysL8w"t
最小特征尺寸:40nm l ='lV]
总调制高度:200nm 'dBzv>ngD
高度轮廓 JhuKW>7
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效率 A@`C<O ^
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 +[z(N
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粗糙度参数: u |#ruFR
最小特征尺寸:40nm @UvjJ
全高度调制:400nm 71f]Kalq L
高度轮廓 V @8X.R>
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效率 SLBKXj|
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 w $2-t
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7. 总结 ZW,PZ<
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 &\1Dy}:
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 GZO,]%z
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 +!w?g/dV
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 ~-.q<8
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