该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 EI_
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1. 建模任务 ;]gP@ h/
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 x9x E&
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 4m*M,# mV
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2. 建模任务:正弦光栅 _~q?_'kx
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x-z方向(截面视图) rS4@1`/R
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光栅参数: '@jXbN
周期:0.908um H ,+?
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高度:1.15um 3t<a $i
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) _~rI+l A
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3. 建模任务 ?0YCpn
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 _R.B[\r@
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 Kx=4~
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4. 光滑结构的分析 ;zYqsS
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 ^=:9)CNw(
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% +,yK;^b
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5. 增加一个粗糙表面 ;b`[&g
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 )r[&RGz6
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 ?Q-h n:F)
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 ZkIgL
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 &f7fK|}
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 (u]N
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6. 对衍射级次效率的影响 v3GwD00
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粗糙度参数: pSm $FBW h
最小特征尺寸:20nm "wlt> SU
总的调制高度:200nm 52.>+GC
高度轮廓 yA)(*PFz
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效率 MwfOy@|N
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 Ja SI^go
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm u7xDau(c
总调制高度:400nm 高度轮廓 <BSc* 9Q
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效率 ltkI}h,e
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 U|HB=BP
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粗糙度参数: LGc&o]k
最小特征尺寸:40nm nuo Pg3Nl
总调制高度:200nm H33i*][H
高度轮廓 pDQ}*
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效率 XX1Il;1G#
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 Q#(GI2F2#
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粗糙度参数: 6{,HiY
最小特征尺寸:40nm Fkf97Oi
全高度调制:400nm m~lpyAw
高度轮廓 w_ {,<[#
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效率 9S[XTU
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 +3i7D
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7. 总结 W23]Bx
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 KOg?FmD
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 YF:2>w<
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 aZKOY
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 W$qd/'%
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