该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 C(00<~JC
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1. 建模任务 >-H{Z{VDd
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 ?OkWe<:4
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 0q&<bV:D
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2. 建模任务:正弦光栅 o4|M0
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x-z方向(截面视图) ;kY(<{ 2
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光栅参数: mV3cp rRqv
周期:0.908um Pi]19boM.
高度:1.15um eEuvl`&
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) zd@m~V
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3. 建模任务 ,6-:VIHQ
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 &J+CSv,39
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 gt@m?w(
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4. 光滑结构的分析 KrQ1GepJ
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 %nf6%@s
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% \W~N
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5. 增加一个粗糙表面 3 2&;`]C
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 3LOdj T
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因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 )Y"+,$$>Y`
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 p M4 :#%V
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 0XE4<U
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 Te"ioU?.
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6. 对衍射级次效率的影响 >*35C`^
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粗糙度参数: ~vm%6CABM
最小特征尺寸:20nm ]cHgleHQ
总的调制高度:200nm =$'6(aDH
高度轮廓 aTH{'mN
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效率 ]L5@,E4.
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 W+I!q:p4H
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm n<LEler#M
总调制高度:400nm 高度轮廓 } Y12
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效率 &*M!lxDN
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 X_q\S g
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粗糙度参数: 6AAz
最小特征尺寸:40nm |3('
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总调制高度:200nm Vh|*p&
高度轮廓 t%d Z-Ym
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 KjD/o?JUr
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粗糙度参数: {:/#Nc$5
最小特征尺寸:40nm j\eI0b @*
全高度调制:400nm 8SMxw~9$
高度轮廓 T^zXt?
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效率 A#e%^{q$
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 NDN7[7E
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7. 总结 A @i
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 W_JlOc!y
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 * `JYC
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 [*Z;\5&P
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 akmkyrz '&
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