该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 #^Dc:1,
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1. 建模任务 ~MY(6P
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 &,Q{l$`X
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 <LW|m7
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2. 建模任务:正弦光栅 bIm$7a`T
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x-z方向(截面视图) L\og`L)5\
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光栅参数: YeJ95\jf
周期:0.908um {NK>9phoB
高度:1.15um Za!c=(5
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) FbM5Bqv
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3. 建模任务 ^TWN_(-@
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 ~DZ;l/&Mz7
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 gSj-~kP
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4. 光滑结构的分析 !T,7
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 Ql*/{#$
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% ^RWt
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5. 增加一个粗糙表面 x}x@_w
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 gy =`c MS@
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 8v^i%Gg
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 f[}SS]d:E
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 pV("NJj!
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 6$6NVq
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6. 对衍射级次效率的影响 &yA<R::o
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粗糙度参数: pWx3l5)R
最小特征尺寸:20nm }\0"gM
总的调制高度:200nm PRz oLzr
高度轮廓 &\X;t|
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效率 654%X(:q
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 0 j.Sb2
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm ibuI/VDF
总调制高度:400nm 高度轮廓 OXacI~C
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效率 xqtjtH9X
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 I coL/7k3
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粗糙度参数: /<
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最小特征尺寸:40nm F:@Ixk?E
总调制高度:200nm &rd(q'Vi
高度轮廓 @ubz?5
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效率 lewDR"0Kx
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 hjG1fgEj
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粗糙度参数: qc6IH9i`
最小特征尺寸:40nm V3o AZ34)
全高度调制:400nm LbR-uc?x
高度轮廓 h0
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效率 =eqI]rVj^
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 QC4T=E]`j
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7. 总结 RNdnlD#P
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 Wn^^Q5U#
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 ]CZLaID~
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 W\,lII0
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 BB.TrQM.#
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