该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 |jT^[q(z
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1. 建模任务 _C nl|'
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 waRK$/b
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对于该仿真,采用傅里叶模态法。 H)VzPe# {
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2. 建模任务:正弦光栅 <A+n[h
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x-z方向(截面视图) BK;Gh0mp
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光栅参数: f:hsE
周期:0.908um Al-;-t#Dc
高度:1.15um pS6p}S=1]
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) yDe6f(D
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3. 建模任务 5%)<e-
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 JVxGS{Z
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 m(DJ6CSa
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4. 光滑结构的分析 F)n^pT
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 4-vo R5Fd
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% X"Ca
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5. 增加一个粗糙表面 "\`>Ll
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 19j"Zxdg Y
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 50jZu'z:
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。
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第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 j[Q9_0R~lR
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 r?2EJE2{V
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6. 对衍射级次效率的影响 s~'"&0Gz
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粗糙度参数: VSjt|F)t
最小特征尺寸:20nm f"RS,]
总的调制高度:200nm
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高度轮廓 5_7y 1
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效率 '4ip~>3?w
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 :Xi&H.k)p
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm V|&->9"
总调制高度:400nm 高度轮廓 H):(8/>(
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 1I?`3N
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粗糙度参数: =&I9d;7
最小特征尺寸:40nm yu>)[|-
总调制高度:200nm s[bQO1g;*
高度轮廓 J'C9}7G
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效率 P W_"JZ
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 bae;2| w
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粗糙度参数: UC_o;
最小特征尺寸:40nm |Iknk,
全高度调制:400nm Cto>~pV
高度轮廓 GTM@9^
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效率 eLIZ<zzW0}
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 SQ&}18Z~
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7. 总结 I?
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VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 f0879(,i
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 xX|f{) <
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 Eh^gR`I
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 :{
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