该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 (7nWv43
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1. 建模任务 Q+ ;6\.#r
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 P |c6V
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 \h6_m)*H4
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2. 建模任务:正弦光栅 w.qpV]9>
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x-z方向(截面视图) u1yc
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光栅参数: ]A;zY%>
周期:0.908um N|eus3\E
高度:1.15um M*)}F
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) zJ4 2%0g
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3. 建模任务 &3VR)Bxn
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 9)p VDS
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4. 光滑结构的分析 ' } rUbJo
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 @bdGV#*d
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% r8XY"<
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5. 增加一个粗糙表面 uzL)qH$b
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 <!^wGN$f
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 `,ZsKxI
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 hA6!F#1
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 aG QC
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 M(o?I}
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6. 对衍射级次效率的影响 ]V J$;v'{[
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粗糙度参数: H2 7_T]\
最小特征尺寸:20nm xuQ$67F`;z
总的调制高度:200nm :.6kXX'~
高度轮廓 6sBS;+C
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效率 D]v=/43
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 'E+Ty(ED5
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm TTpK8cC
总调制高度:400nm 高度轮廓 O=8:K'
hv te)
&'9 Jy'(X
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效率 ?UnOi1"v9
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 vtG_A{l
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粗糙度参数: vttmSdY
最小特征尺寸:40nm l'HrU 1_7Y
总调制高度:200nm +CtsD9PA
高度轮廓 "jly[M}C
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效率 fgYdKv8
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 _3DRCNvh
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粗糙度参数: 2[: *0 DV#
最小特征尺寸:40nm ((F[]<?
全高度调制:400nm IT]D;
高度轮廓 )?RR1P-ID
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效率 thcj_BZ8
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 /H&:
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7. 总结 9MA/nybI
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 #R v&b@K
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 *#{[9d
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 .q#2 op
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 #!0le:_
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