该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 FO=1P7
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1. 建模任务 [ d7]&i}*|
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 %Ab_PAw
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 >pvg0Fh
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2. 建模任务:正弦光栅 p d3&AsU
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x-z方向(截面视图) p&mtKLv
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光栅参数: kG$8E
周期:0.908um F5MPy[
高度:1.15um ]Hy PJ
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) <,4(3 >js
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3. 建模任务 a&"*UJk<?
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 a
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 :$c:3~
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4. 光滑结构的分析 vcO`j<`
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 rE `}?d
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% )2Ru!l#
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5. 增加一个粗糙表面 I''R\Bp
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 8{SU?MHQLE
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 Pph8"`mv.m
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 s~X*U&}5
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 o?mXxL)
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 Tb1}XvZ
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6. 对衍射级次效率的影响 EH*ym#Y
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粗糙度参数: ;s\;78`0
最小特征尺寸:20nm TF0-?vBWh
总的调制高度:200nm Ryba[Fz4Di
高度轮廓 +iH30v
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效率 ]8m_* I!
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 0YpiHoM
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm CI!Eq&D,
总调制高度:400nm 高度轮廓 v=.z|QD^1
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效率 )0U3w#,JQ
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 YF! &*6m
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粗糙度参数: FS`vK`'
最小特征尺寸:40nm r!.+XrYg
总调制高度:200nm hk@`N;dn
高度轮廓 fEj9R@u+h
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效率 %|*nmIPq(
C,{F0-D
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 h
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粗糙度参数: %Ui{=920
最小特征尺寸:40nm >lraYMc<rZ
全高度调制:400nm
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高度轮廓 !f\?c7
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效率 oNuPP5d[]
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 %XJQ0CE<(
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7. 总结 7_Ba3+9jpa
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 Hs"%
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对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 a[1sA12
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 w0 Fwd
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 U@.u-)oX
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