该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 U#]J5'i
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1. 建模任务 >j3':>\U
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一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 d(TN(6g@
对于该仿真,采用傅里叶模态法。 f6yj\qq]
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2. 建模任务:正弦光栅 1#%H!GKvTU
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x-z方向(截面视图) Maq`Or|4
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光栅参数: n6.Z{Q'b
周期:0.908um 8Iu6r}k?~`
高度:1.15um '*65j
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) cTzR<Yr
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3. 建模任务 VFx[{Hy
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VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 HR"clD\{Di
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 HcJ!(
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4. 光滑结构的分析 XHj%U
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 aJf3rHX
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% vA!IcDP"
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5. 增加一个粗糙表面 k{#k:
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VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 T9&{s-3*
因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 IqFcrU$4
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该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。 6xtgnl#T
第一个重要的物理参数称为”最小特征尺寸”。 L&)e}"
第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。 ! J<Xel{
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6. 对衍射级次效率的影响 J^yqu{
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粗糙度参数: X>yDj]*4P
最小特征尺寸:20nm ukEJ D3i
总的调制高度:200nm SyI~iW#Y1
高度轮廓 ;YY<KuT
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效率 J-'XT_k:iM
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粗糙表面对效率仅有微弱的影响 qMVuFwPhi
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粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm "*D9.LyM
总调制高度:400nm 高度轮廓 9%|skTgIqH
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效率 /"st
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由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 i&lW&]
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粗糙度参数: ;f[##=tm
最小特征尺寸:40nm P HOngn
总调制高度:200nm y*X.DS 1(w
高度轮廓 I*Dj@f`
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效率 H!7?#tRU
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 CKZEX*mPC
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粗糙度参数: \8<[P(!3
最小特征尺寸:40nm rQ _cH
全高度调制:400nm f/8&-L
高度轮廓 u;H^4}
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效率 E_A5KLP
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 dF 6od
-f ~1Id
7. 总结 s?m_zJh
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 BaI-ve
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 ob/<;SrU<
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 6c(b*o
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 Q.eD:@%iE
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