【官方培训】Zemax China 2016年度官方培训计划

发布：zemax官方 2015-12-14 11:12 阅读：14077

Zemax China 2016年度官方培训计划 Kw#i),M
新闻：Zemax.cn.com中文版本已上线，欢迎广大用户点击浏览！ %*\es7m}

开课时间	课程名称	开课地点	价格
1月27~29日	成像设计培训（3天）	香港	1350美元
3月07~09日	成像设计培训（3天）	上海	5964元
3月10~11日	非球面设计培训（2天）	上海	3976元
3月28~30日	照明设计培训（3天）	上海	5964元
5月09~11日	成像设计培训（3天）	北京	5964元
5月12~13日	激光、光纤耦合高级培训（2天）	北京	3976元
6月20~22日	成像设计培训（3天）	长春	5964元
6月23~24日	非球面设计培训（2天）	长春	3976元
7月18~20日	成像设计培训（3天）	西安	5964元
9月02~04日	照明设计培训（3天）	深圳	5964元
9月12~14日	成像设计培训（3天）	香港	1350美元
9月15~16日	激光、光纤耦合高级培训（2天）	香港	900美元
11月21~23日	成像设计培训（3天）	上海	5964元
11月24~25日	激光、光纤耦合高级培训（2天）	上海	3976元

注1：报价均已含6%的增值税普通发票，开票名称：Zemax技术服务费；
注2：如报名人数未达到最低开课标准，Zemax China可能取消或推迟该次课程。

主办方（ZemaxChina）推荐：

小班定制化课程：3—5人的小班特色定制，根据您的需求为您制定完美的培训课程计划。
Zemax认证书：参与认证培训课程，通过认证并获得由美国Zemax颁发的Zemax Senior (or Junior) OpticalEngineer认证书。为您的职业道路增添权威认证。

特色：

互动式案例教学，理论实例相结合，指导实际软件操作练习；
原厂正版全新教材，提供使用最新版软件最高版本；
颁发Zemax原厂培训证书；

报名方式：

发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至：china@zemax.com ；我们收到邮件后会立即联系您。
或拨打 Zemax销售热线：021 6271-3200 索要报名表。

Zemax成像设计培训课程

课程介绍及课表安排：

本课程为3天中高阶成像设计课程，课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及Zemax图谱、玻璃材料定义、坐标变换等，及相应的实例镜头、棱镜建模等。

上课时间	第1天	第2天	第3天
9:00-10:30	mL4]l(U ZemaxOpticStudio软件功能介绍； X_7UJ jFw" 材料库、镜头库介绍； \.3D~2cU 如何定义新材料及如何使用镜头库；	DS'n MTF； Z"AQp _ 双高斯镜头设计及优化； >hr{JJe 像质评价与图像模拟；	^g`&7tX 分析工具应用； \|gU(s 寻找最佳非球面； }6@pJG 曲率套样板； K=,F#kn 镜头匹配工具；
10:30-10:45	O/<K!;(@? 茶歇	nI*v820, 茶歇	@U2qD J6 茶歇
10:45-12:00	;W^o@*i{> 像差理论介绍； Oj^,m.R Zemax里像差分析图谱；	^6_Cc 坐标变换； 7bV{Q355P 坐标断点面的使用技巧； M-giR:, 序列模式棱镜建模； 67VT\f 扫描反射镜设计实例；	iURk=*Z= Zemax公差分析功能介绍； fF V!)Zj 加工误差、装配误差； )lZp9O 灵敏度分析； YWxc-fPZ 反灵敏度分析； <NuUW9+ 蒙特卡罗分析；
12:00-13:30	oDU ;E 午餐	B}&xaY 午餐	4A2?Uhpy 午餐
13:30-15:00	- h9?1vc7 优化； d{E}6)1= 局部优化； 7__Q1>o 全局优化； 7IjQi=#: 锤形优化； 9s_,crq5 优化函数架构技巧； yfC^x%d7G 单透镜优化实例； wV^V]c?U 双胶合优化实例；	zBe8,, e T"0,r$3: 柯勒照明综合设计实例； Xt'sQ} 投影系统设计； ?IGVErnJJC 集光系统设计； a@0BBihz	aM$W*-Y 公差评价标准； I;1lX L 公差操作数； A21N\|$[ 补偿变量的使用； R]i7 $}n 单透镜公差分析； [/BE8]M~ 库克镜头公差分析； J\|w)&bV 分析报告查看说明；
15:00-15:15	txPIG/ 茶歇	_X'"w\|0 茶歇	Rh>}rGvCUN 茶歇
15:15-17:00	*>+,(1Fz 热分析及衍射光学元件的使用； C\|o`k9I# 鬼像分析、杂散光分析； /0eYMG+K= 实例设计及分析；	J:kmqk! 暗盒系统介绍 @, Wvvh 小结及答疑	T0]*{k(FR 公差脚本的使用； w&x!,yd; 镜头出图、CAD出图； Iy6$7~ 小结及答疑；

Zemax照明设计培训课程

课程介绍及课表安排：

该课程为Zemax公司的照明设计课程，内容包括光度学介绍和各种光学模型介绍，偏振光学和膜层散射设定，杂散光和鬼影的分析，如何创建优化不同类型的物体以及具体样例分析。

上课时间	第1天	第2天	第3天
9:00-10:30	?K3(D;5 &i Zemax的非序列模式介绍 -c}, :G" 光源、物体和探测器类型介绍 ,yTjU{<"	$]q8, N\|1 照明系统的设计 =lu/9 i6 照明系统优化 Ck/F9(	is@b&V] 杂散光分析 _{ZqO;[u 鬼影分析
10:30-10:45	q/4 [3h 茶歇	<~)kwq' 茶歇	0p@k({]< 茶歇
10:45-12:15	E.U_W 光度学介绍 Q[d}J+l4{ 光学模型分析 k{<,\J 近场光源模型介绍 3ux0Jr2yT	\{EpduwZ 复合抛物面（CPC）的设计 "XT"\|KF\|D 自由光管的优化和公差分析 R+7oRXsu	5j-]EJb 复杂物体的创建 %b^OeWip 嵌入规则介绍 CQpCS_M 布尔运算 -<_Ww\%8M CAD文件的导入\导出
12:15-14:00	chEn\|>~ 午餐	Wy%s1iu 午餐	y7\|P-3[ 4w 午餐
14:00-15:30	}E7:ihy IES 和DAT格式光源介绍 a:_I 利用Zemax创建光源模型 8Y#\xzod	TET`b7G 偏振光学 "CB,D}: 膜层设定 {$1J=JbE 生成棱镜 _kY#D;`:r	_H^^y$+1 光线分裂设定 g38&P3/ 重要抽样 84{Q\c 边界条件设定
15:30-15:45	>[1W:KQA 茶歇	+GAf O0 茶歇	8L1ohj 茶歇
15:45-17:15	U bYEEY# 色度学知识 -uH#VP{0M 如何在Zemax创建带光谱的光源 8+Td-\IMk 光质指标分析	d O~O \|Xsb 面散射设置 c1xrn4f@a ABg和BSDF文件的导入 Ia'ZV7' 体散射以及荧光散射	wlPx,UqZ TIR光管和光纤实例分析 leCVK. 总结 ^Eo=W/

Zemax激光、光纤耦合高级培训课程

课程介绍及课表安排：

本课程为2天专项培训课程，内容集中在激光、光纤的耦合仿真分析，Zemax序列、POP及非序列各工具的使用及建模分析，单模、多模激光光纤耦合实例。

上课时间	第1天	第2天
9:00-10:30	8/"fWm/ 激光、高斯光束介绍； u(!&:A9JFd 几何光线与高斯光束的区别与联系； A$WZF/x Zemax序列、非序列及POP高斯光束建模介绍；	Eaqca{%/^ 多模光纤耦合； [0UGuj 实例分析介绍；
10:30-10:45	]p!Gt,rYq 茶歇	'r\ V.4 茶歇
10:45-12:00	ph2$oO 6, POP-物理光学传播工具介绍； {ccIxL /~ POP工具参数定义； U'*t~x< 空间滤波实例分析；	{>bW>RO) 单模光纤耦合工具箱的使用； =\{\g7 单模光纤耦合实例；
12:00-13:30	pN&c(=If 午餐	Yh)Isg\|0> 午餐
13:30-15:00	vEG'HOP 光束质量分析； 7zTqNnPnf M^2参数； )RsM!} POPD操作数的使用； syzdd an 一些假定及特殊参数的设置；	Ac\|5. ?\|N 非序列激光、光纤建模； LG]3hz9^9 激光建模：高斯光源、二极管光源； z* <y5 光纤建模：布尔模型、嵌套原则；
15:00-15:15	C;~*pMAYe 茶歇	=?X$Yaw* 茶歇
15:15-16:30	x#C@8Bxq= 光纤耦合介绍； Ay{t254/ 单模光纤耦合； lHB) b}7E 多模光纤耦合； ~LQ[4h<J ! POP单模光纤耦合实例；	eb\|i3. 光纤耦合器的公差分析； #?B%Ja% ;W 小结及答疑；

Zemax非球面、自由曲面设计课程

课程介绍及课表安排：

该课程为Zemax公司的两天设计课程，该课程主要介绍非球面、自由曲面的设计、加工控制、检测方法，材料及成型工艺，概括及总结了Zemax内非球面的类型、各自特点、优化及公差特性，介绍衍射光学系统成像，并结合大量的设计实例进行讲解分析。

上课时间	第1天	第2天
9:00-10:30	nIfCF,6, 非球面应用一些考量 ,LOQDIyn 实例：单透镜非球面优化解析、比较 GYB+RU}],	m?[5J)eR 非球面加工制图、出图考量及控制 {I{:GcS 实例:像差校正板设计 V84*0&qOW
10:30-10:45	V^il$' 茶歇	6*@yE 茶歇
10:45-12:15	IK^~X{I? 非球面测试方法 e1q"AOV6 序列模式：各非球面类型解析 O3NWXe<	x6'^4y]) 加工特性：拐点、鸥翼、局部曲率特性 DW(~Qdk 衍射光学元件分析
12:15-14:00	eXl=i-' 午餐	FnHi(S\|A 午餐
14:00-15:30	GQ_Ia\ 实例：非球面优化及应用 C0x"pO7 实例：Q型非球面与偶次非球面应用比较 kD.pzxEM 非球面转化工具 uM(UO,X	!Ngw\@f 实例：热成像设计 m\|svQ-/j 自由曲面及棱镜 I]}>\| 实例：头盔显示棱镜设计 5 ZfP
15:30-15:45	Ps R>V)L 茶歇	sP$Ks#/ 茶歇
15:45-17:15	2)/NFZ 非球面公差分析 l!IKUzt)7 Q型非球面公差分析 {b!7 .Cd= 非球面斜率误差 84&XW	0NO1M)HQv 实例：切比雪夫曲面应用 EA{U!b]cU 实例：非序列自由曲面照明应用 W$?e<@ 实例：手机镜头设计-练习

Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
Zemax销售热线：+86 21 6271-3200
Zemax技术支持：+86 21 6271-3255
中文支持邮箱：china@zemax.com
地址：上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室

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