如下要求,基片为晶体, iSOyp\E|
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% #:Q\
>*B59+1P
*e:I*L
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% 'bH~KK5
c*<BU6y
C
%j%>X`
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 :!$+dr(d
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 t<}N>%ZO
配置的设备才能做出来,谢谢