如下要求,基片为晶体, QL
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% O-q [#P
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HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% &Q 3!ty
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现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 W!htCwnkF
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 Br;1kQ%e C
配置的设备才能做出来,谢谢