如下要求,基片为晶体, 6>F1!Q
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% ;wF)!d
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HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% k!ac_}&NNv
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Y8Z-m (OQ
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 TSKR~3D#
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 J 7]LMw7
配置的设备才能做出来,谢谢