如下要求,基片为晶体,  = JE4C9$,  
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% J |$(O$hYy  
 eSAB :L,K  
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 HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% L?aaR%6#  
 H1!u1k1nl  
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现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 s{QS2G$5  
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 mpsi{%gA
  
配置的设备才能做出来,谢谢