如下要求,基片为晶体, 8' +I8J0l
HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% *g 2N&U
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Br"K{g?
HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% 79ZYRm2;
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lf2(h4[1R
现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 !ziO1U
能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 CNyV6jb
配置的设备才能做出来,谢谢