半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 bA,D]
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一. 半导体激光器的基本结构 ITUl-L4xE
•1.半导体双异质结构 ~J:lCu
•2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) E|3aiC,5
•3. 侧模控制(基侧模) dsuW4^l
•4.横模控制 nzl,y,
•5. 动态单模半导体激光器 Zotv] P2k
•6. 波长可调谐半导体激光器 k]5L\]>y
•7.长波长VCSEL的进展 5]%kWV>
•8.微腔激光器和光子晶体 2GS2,
•9.半导体激光器材料的选择 i.4[]f[/h
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二.半导体光波导 HX*U2<^
•1. 平板波导的模式,TE和TM模 ['1?'*
•2. 光限制因子和模式增益 dUSuhT
•3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 }cmL{S
•4. 半导体激光器镜面反射系数 DR8dJ#
•5. DFB激光器的藕合模理论 xGL"N1
•6. DFB半导体激光器的一维模拟 m:CpDxzbf
•7. 等效折射率近似 wX;NU4)n
•8. 数值模拟 0X w?}
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三.半导体中的光跃迁和增益 2eYkWHi
•1. 费米分布函数及跃迁速率 )dcGV$4t[
•2. 电子波函数及跃迁矩阵元 R8*4E0\br
•3.简约态密度及增益谱 *CSFkWVa
•4.模式的自发辐射速率 rE~O}2a#H
•5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 (qdk
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•6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 \v Go5`
•7.增益谱峰值的近似表达式 Elx bHQj6
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四. 速率方程和动态效应 E;0"1
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•1.单模速率方程及基本物理量 C?k4<B7V
•2.稳态输出 7lu;lAAP
•3. 共振频率和3dB带宽 u}_q'=<\
•4. 载流子输运效应对带宽影响 *L_wRhhk
•5. 开启延迟时间 4V5*6O9(u
•6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 q 9^r2OO
•7. 自发辐射引起的噪声 X3vrD{uNU
•8. 相对强度噪声 z)Gr`SA<
•9. 模式线宽 ;d:7\
•10. 多模速率方程 c\opPhJ!0
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五.半导体激光器的基本工艺和特性 ?jnEHn
1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 ;H.r6
3.激光器寿命 de[_T%A
4.激光器阈值电流的温度特性 w:Vs$,
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