本例以正弦光栅为例介绍光栅面并非理想情况时的模拟。因为实际加工原因,光栅面并不一定是我们期望的理想光栅面。对于正弦光栅,变很可能不是理想正弦型,而是在正弦基础上出现随机的起伏,这会对衍射情形带来什么影响?我们把这个随机的粗糙面叠加在光栅面上来模拟,引入这个糙面时可以通过特征尺寸和调制深度来表达。特征尺寸与横向的光栅周期相对应,表达起伏快慢,特征尺寸越小,起伏越剧烈,越大,则越平缓。而调制深度则与纵向的光栅调制深度对应,表达起伏的幅度。并使用parameter run来考察衍射效率随特征尺寸和调制深度的变化情况。在特征尺寸变化时,会导致衍射级次的变化,在某个特征尺寸时,零级能量会降到最低,但仍然是一个较大的数值。然而衍射情形随调制深度的变化则很灵敏,在调制深度为0时,与理想的正弦光栅衍射情况接近,能量主要分布在零级和±1级上,高阶衍射级次能量很小。随着调制深度的增加,零级能量会被衍射至高级次,从而零级能量降低,±1级则能量增加,更高级次能量也相应增加。