第三届光学薄膜前沿国际会议（FOC2014）

第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014, the 3rd International conference on Frontiers of Optical Coatings)将于2014年10月20日-24日在上海举行。 _c5@)I~  
corm'AJ/  
FOC是在亚洲举办的最高水平的国际光学薄膜学术会议。自2009年起每3年举办一次，本次会议旨在汇集全球学者、研究技术人员及工业界人士，促进国内外光学薄膜研究机构和工业界的学术交流，讨论光学薄膜领域的最新进展及其前沿应用。 xUJ(tG3  
:;$MUOps  
会议详情：http://foc.tongji.edu.cn/index.php?classid=5971 inu.U[.  
aDS:82GMQ  
会议时间： 2014年10月21-23日 
~OD6K`s3  
"4b{YWv  
会议地址： 上海市四平路1239号同济大学物理馆701 0h-NT\m  
&3vm @  
讯技展位号： A10 GM|&,}  
FZ*"^=)`G  
参展产品推荐： 2&hv6Y1  
Hav&
vV  
 Essential Macleod光学薄膜分析与设计软件 Np\
NStx2  
e=Ox
~2S  
Essential Macleod是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包，可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行，并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求，从简单的单层膜到严格的分光膜；也能对波分复用（WDM）和密集波分复用（DWDM）滤波片进行测评；可以从头开始设计也可以优化已有的设计；可以勘测在设计中的误差，也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 qq)5)S  
+17!v_4^  
核心模块的功能： 3.Fko<D4jD  
<bcf"0A  
•计算给定膜系的特性 Bg|d2,im  
fTxd8an{  
•对给定特性目标要求优化膜系设计 [Rj4=qq=  
[s}W47N1  
•维护材料的光学常数 (Mc{nFqS  
tI^91I  
•对已有设计进行分析 E:`_P+2p  
Tv%7=P;r  
•膜系设计的合并分析   Tzd#!Lvm:,