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晶体端面损伤
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晶体端面损伤
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jasonjjtu
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发表于: 2013-11-21
各路神仙:
+i[vJRLxl~
ByacSN
我遇到一难题,在高温(60°)的情况下动态
激光
(主动调Q)
晶体
端面都出现损伤,而且出现时间很快(打光17S,歇10s,循环8次后;间隔1小时测一次,4小时后就出现了端面损伤的问题),能量80mj,脉宽10ns,波长1064nm;一开始说是污染问题,我们就做静态的试验,不管怎么做,就是不出现问题,
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jasonjjtu
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1楼
发表于: 2013-11-21
烘烤和清洗都做了,而且还不止一次,动态下还是有,郁闷呀
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yu-xuegang
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2楼
发表于: 2013-11-22
1 提高晶体加工面的光洁度
<+<Nsza
2 提高镀膜的透过率以及膜层的抗激光损伤能力
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jasonjjtu
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3楼
发表于: 2013-11-22
多谢帮主指点,万分感谢!
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jasonjjtu
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4楼
发表于: 2013-11-22
今天又补做了一实验,在高温情况下打光17S,歇10s,循环8次后;间隔1小时测一次,但这次我将水箱的温度控制在40°左右,之前有人说是热效应导致晶体端面损伤
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jasonjjtu
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5楼
发表于: 2013-11-23
结果还是出现了端面污染(打了8组后开腔检测),用酒精+蚕丝棉可擦拭掉,不擦拭就变成端面损伤了,
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jasonjjtu
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6楼
发表于: 2013-11-23
还有就是请教下大家,我们另一项目用"被动Q",用的是键合晶体,密封和清洗都没做过,但它从来没有出现过晶体端面污染或损伤
owI:Qs_/4
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jasonjjtu
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7楼
发表于: 2013-11-23
这个出现晶体污染的项目是用“主动调Q”,晶体是Nd:YAG ,请问2楼,按您的建议,端面光洁度,透过率及抗损伤阈值多少合适呢?
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jasonjjtu
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8楼
发表于: 2013-11-25
看来只能高高挂起了
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jiangguang
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9楼
发表于: 2013-12-02
好吧 帮你顶 希望高手给解答下
K{V.N<