杭州ZEMAX 高级成像+照明培训班报名即将结束

由南京光研软件系统有限公司11月在杭州举办的ZEMAX高级成像+照明培训班报名即将结束，还未报名者请抓紧时间！ dmO|PswW  
, +^db)  
开课时间：2013年11月25-30日 |IvX7%*]~  
开课地点：杭州 I j /J  
报名截止日期：2013年11月19日 </QSMs  
   we9AB_y  
●课程特色及内容 zqkmsFH{  
ZEMAX光学设计高级培训班   11月25 - 27日     MNzq}(p  
☆高级课程回顾并延伸了标准课程的设计思想，进一步加大了设计实例的深入研究，涵盖了更加复杂成像的设计和分析，包括如何根据需求设定不同的求解类型，如何选用局部和全局优化，利用Image Simulation功能进行实际像分析，同时介绍不同环境下的热分析，如何进行消热差分析。详细讲解了ZEMAX中的分析诊断工具，几种优化方法的技巧，各种求解方式的使用，玻璃替代优化等。 C#R9Hlb  
在衍射光学理论方面，课程向纵深发展，细致讨论了与衍射相关的物理光学设计（POP光束传播），高斯激光系统设计，小孔滤波设计，衍射二元面设计，双折射系统设计，衍射光学元件、单模与多模光纤耦合系统设计等。 -E1}mL}I`  
其它设计实例包括：扫描系统F-Theta镜头设计，应用于传真机上的渐变折射率透镜设计，与环境结构相关的热分析，用户自定义面形设计，用户自定义膜层（分光，滤光等），完整序列与非序列系统结合设计。 a=R-F!P)  
公差方面，全面系统地描述各种公差来源、公差分析流程及技巧、分布特征，公差操作数设置，补偿器设置，公差分析方法（敏感度或反敏感度），简单光学系统及复杂双通系统公差分析方法以及梯度折射率面应用以及如何进行自定义面的设定等。 p:jrqjLp  
mN`a]L'  
eu=2a>  
.(-3L9T}  
ZEMAX光学设计照明培训班  11月28 - 30日         *QX$Mo^E  
☆本课程专门针对ZEMAX最新版本的非序列（NSC）模式设计照明光学系统，掌握NSC系统的模拟方法和使用技巧、优化及光线探测理论，课程内容包括色度照度理论，LED配光、LED匀化，LED光源，各种光源物体建模、杂散光分析、自由曲面设计、照明系统、投影系统、光纤光管、干涉衍射系统以及详细的非序列使用功能讲解（详细见课表）。 :lAR;[WFS  
>+r2I%  
{`LV{!  
=3'wHl  
   G r)+O  
● 报名咨询及热线 kAoai|m@R  
联系人：Amy ~U|te_l  
电话：025-85099608（直线）    025-52657057-8905    传真：025-52657058 b%BwGS(z  
E-mail：amy@wavelab-sci.com.cn  sales@wavelab-sci.com.cn