[求助]Zemax 設計求助 [复制链接]

針對機構進行光線追跡的模擬，但是使用非序列設計時利用poly object 功能進行機構的繪製。 Zm& X $U  
在輸入各面的資訊時均將所需反射或穿透的地方進行設定，但是光源放上去跑出來卻是原來應該反射的地方沒有反射 mG@xehH  
希望穿透的地方卻發生反射 h~{TCK+I  
請教各位大大是不是在poly object 編輯設定上有問題 S~0 mY} m  
ba& \~_4  
EX: R 1 2 3 4 0 (我設定反射面是這樣設定，假設點1 2 3 4 構成平面並使用參數0進行反射) =Y#)c]`  
　  T  5 6 7 8 0 (我設定穿透面是這樣設定，假設點5 6 7 8  構成平面並使用參數0進行穿透) -twV?~f  
`=0}+  
請各對大大協助解決問題~~感激不盡 gd^1c}UZX  
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附件模擬的圖形資料~未標註的面均為穿透面~ Zy _A3m{  
}eb}oK  

图片:1.JPG

楼主没有附件让大家debug，那就泛泛而谈吧：1=反射, 0=穿透，老弟！ :S'P lH