[求助]Zemax 設計求助 [复制链接]

針對機構進行光線追跡的模擬，但是使用非序列設計時利用poly object 功能進行機構的繪製。 .(pN5JI*  
在輸入各面的資訊時均將所需反射或穿透的地方進行設定，但是光源放上去跑出來卻是原來應該反射的地方沒有反射 r]OK$Ql  
希望穿透的地方卻發生反射 -(O-%  
請教各位大大是不是在poly object 編輯設定上有問題 {Fzs@,|W.  
`ptj?6N-  
EX: R 1 2 3 4 0 (我設定反射面是這樣設定，假設點1 2 3 4 構成平面並使用參數0進行反射) sAgKg=)  
　  T  5 6 7 8 0 (我設定穿透面是這樣設定，假設點5 6 7 8  構成平面並使用參數0進行穿透) mv5n4mav  
V5p= mmnA,  
請各對大大協助解決問題~~感激不盡 h3T9"w[  
W8lx~:v  
附件模擬的圖形資料~未標註的面均為穿透面~ =)hVn  
O?<&+(uMTT  

图片:1.JPG

楼主没有附件让大家debug，那就泛泛而谈吧：1=反射, 0=穿透，老弟！ RZ1 /#;