光致发光成像光谱仪

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世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！ <i`EP/
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以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。 \((>i7C  
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产品关键词：光致发光 成像光谱 光谱成像 荧光光谱仪 高光谱成像 显微高光谱成像 荧光高光谱成像仪 l}Xmm^@)  
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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。 )%j)*Ymz;  
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。 * n!0  
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技术指标 ]}v`#-Px(  

Z<,gSut'Y   光谱范围*	r LfS9H   400-1000nm
=D[h0U   光谱分辨率	E"G._<3J8   2nm
5h{Hf]A   空间分辨率	Y6N+,FAk+J   次微米
<K\F/`c   显微镜	P;_dilG   Olympus BX51
Ne9 .wd   物镜	v>R.M"f   20X 50X or 100X
vY;Lc   相机*	!m(6/*PAl   带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
gdG : &{|x   样品最大尺寸	r*p%e\ 3   10cm X 10cm
3:;%@4f   X，Y轴行程	"  c   76mm X 52mm
to?"{   Z轴最小位移	+?@qux!   1um
wUV%NZB   扫描速度	Xr )d;@yi   150ms
3o^V$N.   波长精度	',&MYm\   0.25nm
{(MG: B   激发光源*	Y-{spTI   355nm 532nm 780nm
r2Z`4tN:   高光谱数据格式	{ o;0Fx   FITS HDF5
a0LX<}    图像格式	+_}2zc4   JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
~Igo 8ykl   软件	(@#Lk"B   PHySepcTM 分析和控制软件
2mT+@G   尺寸	h n]6he   76cm X 76cm X 76cm
U&/S   重量	dk]ro~ [   80Kg

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*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等