《国际信息工程先进技术译丛:微
光学和
纳米光学
制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的
模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。
7<*,O&![| 《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、
光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
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d/[kky} $=5kn>[_Z% 目录
B"rO 译者序
&bigLe 前言
P7epBWqDP 第1章面浮雕衍射光学元件
KJv[z 1.1制造方法
C[,&Y&`j 1.2周期和
波长比
2%/+r
1.3光栅形状
D?G'1+RIT~ 1.4深度
优化 (W.G&VSn) 1.5错位失对准
j XYr&F 1.6边缘圆形化
{TvB3QOsj 1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
,hWuAu6.L 1.8表面纹理结构
~
\b~ 1.9熔凝石英表面的纹理结构
&@ ${@ 1.10太阳
电池的表面纹理结构
kz G W/ 1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
=imJ0V~RW 1.12成形金属基准层的制造工艺
wlEK"kKU 1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀
>2ha6A[ 1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
"8Lv 1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
/I:&P Pff 致谢
*;F:6p4_ 参考文献
Ph)>;jU 第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
ornU8H` 2.1概述和回顾
:%h|i&B
2.2基本的刻蚀处理技术
6`X}Z'4.Ox 2.3玻璃类
材料的刻蚀工艺
^v+p@k 2.4硅材料微光学结构的刻蚀
,b:~Vpb1I 2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺
'.jYu7
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
q8H nPXV 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺
[
P,gEYk 2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
fYW9Zbov- 2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6
Ro;I%j 2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
+|TXKhm{ 2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
Xpt9$=d 2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
1vS-m x 致谢
>WLHw!I!6 参考文献
=MvB9gx@r 第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
yF1p^>*ak& 3.1概述
D]5j?X' 3.2相位掩模技术
BO8?{~i 3.3光学元件的设计和制造
$<"I*l@ 3.3.1光致抗蚀剂的性质
wk{]eD% 3.3.2相位掩模的设计
ZUvc|5] 3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺
@2On`~C` 3.4轴对称元件的设计和制造
*aq"c9 3.5结论
3E0C$vKM 参考文献
l%p,m[ 第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术
G(ZEP.h`u 4.1概述
>
6=3y4tP 4.2电子束光刻术
Vol}wc 4.2.1电子束光刻术发展史
"d/uyS$6 4.2.2电子束光刻
系统 \cf'Hj} 4.2.3电子束光刻技术
{;6a_L@q;| 4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
VDxF%!h( 4.3.1回顾
LFr$h`_D5 4.3.2硅
fJ6Q:7 4.3.3砷化镓
z`NJelcuz\ 4.3.4熔凝石英
k8l7.e* 4.4光学器件加工实例
ZE=
Yn~XM 4.4.1熔凝石英自电光效应器件
b|;h$otC 4.4.2熔凝石英微偏振器
$RunGaX!=N 4.4.3砷化镓双折射波片
F,Ve, 7kh 4.5结论
vp9wRGd 致谢
lL
50PU 参考文献
,el[A`b 第5章纳米压印光刻技术和器件应用
-@Urq>^v T 5.1概述
ZHlHnUo 5.2压印图形化和压印光刻术的发展史
=+I-9= 5.3纳米压印光刻术的相关概念
&49WfctT 5.3.1纳米压印组件和工艺
I6gduvkXi4 5.3.2纳米压印设备
#K/JU{" 5.4商业化器件的应用
Aa]3jev 5.4.1通信用近红外偏振器
x9S9%JG : 5.4.2投影显示用可见光偏振器
M4CC&?6\ 5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD)
FC||6vJth 5.4.4高亮度发光二极管
"WO0rh` 5.4.5微光学(微
透镜阵列)和衍射光学元件
~jmI`X/ 5.4.6多层集成光学元件
qmenj 5.4.7分子电子学存储器
5tzO=gO[ 5.4.8光学和磁数据存储
!_;J@B 5.5结论
#6l(2d 致谢
'5~l{3Lw
参考文献
&
9
c^9<F 第6章平面光子晶体的设计和制造
!(viXV5 6.1概述
&A`,hF8 6.2光子晶体学基础知识
,?Zy4- 6.2.1晶体学术语
yF%e)6 6.2.2晶格类型
[TFp2B~)# 6.2.3计算方法
81!;W t(? 6.3原型平面光子晶体
>l/pwb@ 6.3.1电子束光刻工艺
Z,81L3#6 6.3.2普通硅刻蚀技术
,8d&uR}x 6.3.3时间复用刻蚀
v\qyDZ VV 6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
nZc6
*jiz 6.4基于色散特性的平面光子晶体
jp@X,HES 6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
.tyV=B:h 6.4.2负折射
o@]n<ZYo 6.5未来应用前景
/C5py-I 参考文献
pSIXv%1J 第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法
w(t1m]pF[ 7.1对称性、拓扑性和PBG
p=Leoc1 7.2金属光子晶体
~ _tK.m3 7.3金属结构的可加工性
;C
,
g6{ 7.4三维光子晶体的制造
PYY< 7.5胶体模板法
Yl?s^]SFU 7.6微光刻工艺
\Cin%S.C 7.7利用“模压”技术制造光子晶体
;:ZD<'+N 7.8膜层应力
2Ur&_c6P 7.9对准
zxx9)I@?A 7.10表面粗糙度
.*>C[^ 7.11侧壁轮廓
;E5XH"L\ 7.12释放刻蚀
O#C0~U]dDW 7.13测量方法、测试工具和失效模式
PU B0H 7.14结论
yfR0vp<& 致谢
ui|6ih$+ 参考文献