微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 @l6dJ  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 0?4^.N n3  
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目录 va*>q-QCr  
译者序 Y8CYkJTAD-  
前言 U-^S<H  
第1章面浮雕衍射光学元件 XkfUPbU  
1.1制造方法 ,vY I O  
1.2周期和波长比 zZ"')+7q&%  
1.3光栅形状 s
].Cx4VQ  
1.4深度优化 eEds-&_  
1.5错位失对准 {~p %\  
1.6边缘圆形化 b8-^wJH!  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 vR.6^q  
1.8表面纹理结构 8w@jUGsc  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 B(vz$QE,$r  
1.10太阳电池的表面纹理结构 E":":AC#  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 oO9iB:w  
1.12成形金属基准层的制造工艺 [~r$US  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 r
N!9&  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 }j<_JI  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 W;xLuKIG  
致谢 @P*P8v8:  
参考文献 =81Xt1,  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 <qj@waKw4  
2.1概述和回顾 n#AH@`&i  
2.2基本的刻蚀处理技术 r3lr`s`  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 |P?B AWYeQ  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 #2t\>7]  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ]$k m  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 p.7p,CyB  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 oM7-1O  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 OpX  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 y&|{x "  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 w9?wy#YI  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 -kS5mR  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 CMf~Yv  
致谢 :r+ 1>F$o  
参考文献 )uJ`E8>-  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
C2%3+  
3.1概述 6B P%&RL  
3.2相位掩模技术 VTkT4C@I;Y  
3.3光学元件的设计和制造 !LSWg:Ev+  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 6E%k{ r  
3.3.2相位掩模的设计 {*  _ W  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 wA+4:CF@  
3.4轴对称元件的设计和制造 k5<0M'  
3.5结论 Ho{?m^  
参考文献 "tbBbEj?d  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 z>#$#:Z4  
4.1概述 NY w(hAPv  
4.2电子束光刻术 "@bk$o=  
4.2.1电子束光刻术发展史 H zK=UcD  
4.2.2电子束光刻系统 Z.f<6<gF  
4.2.3电子束光刻技术 j>=".^J  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 C3Z(k}  
4.3.1回顾 !: [` V!{  
4.3.2硅 : .e
S|  
4.3.3砷化镓 D#(Pg  
4.3.4熔凝石英 ,$*klod  
4.4光学器件加工实例 rMx_ <tXX  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ov}{UP]a?  
4.4.2熔凝石英微偏振器 C'"6@-~  
4.4.3砷化镓双折射波片 eNKdub  
4.5结论 dTNgrW`4  
致谢 $O>MV  
参考文献 m=y)i]=1  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 dz DssAHy  
5.1概述 g9`ytWmM  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 pfIvBU?  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 jtJU5Q  
5.3.1纳米压印组件和工艺 s7gf7E#Y  
5.3.2纳米压印设备 !T1i_  
5.4商业化器件的应用 @uWD>(D  
5.4.1通信用近红外偏振器 iTyApLV  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 P,], N)  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） lKSI5d  
5.4.4高亮度发光二极管 pEP.^[  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 ;]e"bX  
5.4.6多层集成光学元件 Sa(rl^qZ2  
5.4.7分子电子学存储器 qd;f]ndo  
5.4.8光学和磁数据存储 9]9(o  
5.5结论 kF7Al]IgT  
致谢 2^+"GCo  
参考文献 "R]K!GUU  
第6章平面光子晶体的设计和制造 YRXe j  
6.1概述 b(,[g>xH  
6.2光子晶体学基础知识 J)+eEmrU  
6.2.1晶体学术语 sRG3`>1  
6.2.2晶格类型 mI18A#[ 3  
6.2.3计算方法 IT"jtV  
6.3原型平面光子晶体 ]+S QS^4  
6.3.1电子束光刻工艺 <;K/Yv'{r  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ]].21  
6.3.3时间复用刻蚀 `_ L|Is=n  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 !Hg#c!eOg  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 w,$17+]3  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 8hY)r~!b'  
6.4.2负折射 {,X(fJ  
6.5未来应用前景 'LI)6;Yc  
参考文献 DKH9O  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 .YlM'E*X  
7.1对称性、拓扑性和PBG .42OSV  
7.2金属光子晶体 5sUnEHN  
7.3金属结构的可加工性 )}8%Gs4C  
7.4三维光子晶体的制造 %(6WrE5F6  
7.5胶体模板法 oPV"JGa/B4  
7.6微光刻工艺 _Fjv.VQ,  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 lX7^LB  
7.8膜层应力 ^m9cEl^:nQ  
7.9对准 0]HIc  
7.10表面粗糙度 "/=xu|  
7.11侧壁轮廓 c9'b`#'  
7.12释放刻蚀 }#M|3h;q9+  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 wz=I+IN:  
7.14结论 b/`'?| C  
致谢 :|TBsd|/x  
参考文献