微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 Sj4@pMh4  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 {Hxziyv~Y(  
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目录 3ry0.  
译者序 zeHs5P8}r  
前言 |Iq\ZX%q  
第1章面浮雕衍射光学元件 zDA;FKZPp  
1.1制造方法 WAh{*$Rpl  
1.2周期和波长比 ljj}XJQ  
1.3光栅形状 locf6%2g~  
1.4深度优化 p4wXsOQ}  
1.5错位失对准 J.npv1F  
1.6边缘圆形化 QPwUW  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 l,
M?  
1.8表面纹理结构 I!,FxOM|$  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 Ha/-v?E  
1.10太阳电池的表面纹理结构 T$9tO{  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 q\\52:\  
1.12成形金属基准层的制造工艺 25`6V>\  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 09rbu\h  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 &r!*Y&  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 u+vUv~4A6  
致谢 l8ZzKb-  
参考文献 S4(lC%$|  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 1C\[n(9  
2.1概述和回顾 5i1Xumh 4  
2.2基本的刻蚀处理技术 #a"gW,/K  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 aUX.4#|%  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 F:rT.n  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 *b]$lj  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 {%3sj"suB  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 [CJr8Qn  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 M2e_)f:  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 _kT$/k  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 |\/Y<_)JD  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 h48 jKL(  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 1-60gI1)  
致谢 r@Tq-o  
参考文献 re\&'%~K  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 =7uxzg/%Tj  
3.1概述 $&iw(BIq  
3.2相位掩模技术 \"@BZ.y
 
3.3光学元件的设计和制造 ns,qj}#  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 %JC-%TRWK  
3.3.2相位掩模的设计 WrNm:
N  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ^X/[x]UOT@  
3.4轴对称元件的设计和制造 IH1 fvW e  
3.5结论 A296f(  
参考文献 &c)n\x*  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 nv^nq]4'Dq  
4.1概述 !B &%!06  
4.2电子束光刻术 }<hyW9  
4.2.1电子束光刻术发展史 c>%+y+b{  
4.2.2电子束光刻系统 TS{ycGY  
4.2.3电子束光刻技术 SiyZq"  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 CPCjY|w7   
4.3.1回顾 ki[Yu+';}  
4.3.2硅 4 u!)QG  
4.3.3砷化镓 Hjm  
4.3.4熔凝石英 9,`eYAu  
4.4光学器件加工实例 -_RMiGM?T  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 P~y%  
4.4.2熔凝石英微偏振器 B2PjS1z2  
4.4.3砷化镓双折射波片 xG^6'<  
4.5结论 H_<X\(  
致谢 b xT
|  
参考文献 -W5ml @  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 rmOcA  
5.1概述 S0 AaJty  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 \,i?WgWv  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 bZ.q?Hlfk  
5.3.1纳米压印组件和工艺 OTNcNY  
5.3.2纳米压印设备 { ke}W  
5.4商业化器件的应用 QVVR_1Q  
5.4.1通信用近红外偏振器 CfoT$g  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 "Y Z B@  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD）  <
V-D  
5.4.4高亮度发光二极管 h`0'27\C  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Bu\:+3)  
5.4.6多层集成光学元件 t`6R)'  
5.4.7分子电子学存储器 kCO`JAH#  
5.4.8光学和磁数据存储 \/Z?QBFvz  
5.5结论 n:-:LSa+3  
致谢 I'M,p<B  
参考文献 B1GBQH$Ms  
第6章平面光子晶体的设计和制造 qd=&*?  
6.1概述 :qbbo~U  
6.2光子晶体学基础知识 1d4?+[)gUv  
6.2.1晶体学术语 ?n 9<PMo  
6.2.2晶格类型 -Q6njt&  
6.2.3计算方法 +O 2H":$  
6.3原型平面光子晶体 F|t3%dpj  
6.3.1电子束光刻工艺 
2`XG"[@  
6.3.2普通硅刻蚀技术 gn>qd6P  
6.3.3时间复用刻蚀
J_]B,' 6  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 [/B$cH  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 pDlU*&  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 xU4,Rcgo  
6.4.2负折射 '$@bTW  
6.5未来应用前景 Q{ibH=^
 
参考文献 WQ(*
A $  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 ai!zb2j!E  
7.1对称性、拓扑性和PBG 6PF7Wl7.  
7.2金属光子晶体 {_GhS
%  
7.3金属结构的可加工性 Sl,\<a  
7.4三维光子晶体的制造 L1FTh  
7.5胶体模板法 dX4"o?KD>  
7.6微光刻工艺 fO+$`r>9  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 95 7C
r  
7.8膜层应力 7q2G/_  
7.9对准 8ug
\GlZc  
7.10表面粗糙度 oDtgBO<  
7.11侧壁轮廓 %|&WcpQR  
7.12释放刻蚀 EZ6\pyNB0#  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 K+=cNC4B  
7.14结论 :T62_cFG  
致谢 ,i>{yrsOh  
参考文献