微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 3\WLm4  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 ,\zp&P"p  
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目录 }8J77[>/  
译者序 Rdao  
前言 g-j`Ex%  
第1章面浮雕衍射光学元件 &>43l+  
1.1制造方法 G>f-w F6  
1.2周期和波长比 5#/"0:2  
1.3光栅形状 QWG?^T fi  
1.4深度优化 e 5U<nf  
1.5错位失对准 95jJ"4a+  
1.6边缘圆形化 ?zp@HSa9  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ciO^2X  
1.8表面纹理结构 SOQm>\U'i  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 C*Avu  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ]>-#T  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 _=@9XvNM  
1.12成形金属基准层的制造工艺 H~x,\|l#  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 BoJ@bOe#  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ];bB7+  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 gn"_()8cT  
致谢 o mstJ9  
参考文献 99
/fI  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 so_  
2.1概述和回顾 (:W=8G,p  
2.2基本的刻蚀处理技术 4Sv&iQ=vh  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 "Wd?U[[  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 pJ[7m  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 r2H_)Oi  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
J/Ki]T9  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 AU@K5jwDwQ  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 tkU"
/$Vi\  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 _q`$W9M+k  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 i~ D,  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 u1d{|fF  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 PW)XDo7  
致谢 sxcpWSGA^  
参考文献 Cn4o^6?"  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 O.4ty)*  
3.1概述 Z{nJ\`  
3.2相位掩模技术 6( TG/J  
3.3光学元件的设计和制造 r J'm>&Ps  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 5at\!17TY  
3.3.2相位掩模的设计
X?5M)MP+I  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 %IGcn48J  
3.4轴对称元件的设计和制造 4RYK9=NH  
3.5结论 RMU]GCa  
参考文献 :=x-b3U  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 JJlwzH  
4.1概述 Ftu~nh}  
4.2电子束光刻术 KZ^W@*`D  
4.2.1电子束光刻术发展史 WF#eqU*&  
4.2.2电子束光刻系统 8;>vgD  
4.2.3电子束光刻技术 {X$8yy2zC5  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 FaO1?.  
4.3.1回顾 qXO@FW]  
4.3.2硅 HH/bBM!  
4.3.3砷化镓 zTb!$8D"g  
4.3.4熔凝石英 gd3~R+Kd  
4.4光学器件加工实例 S;[g0j  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 F/;uN5{o  
4.4.2熔凝石英微偏振器 {2?o:  
4.4.3砷化镓双折射波片 _:F0>=$  
4.5结论 afY~Y?PJ<  
致谢 4r5trquC  
参考文献 NFpR jC?  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 2VaQxctk  
5.1概述 $rFLhp}  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 eglcf z%  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 $OU,| D  
5.3.1纳米压印组件和工艺 z$OKn#%T  
5.3.2纳米压印设备 4A(kM}uRB  
5.4商业化器件的应用 Yg@k+  
5.4.1通信用近红外偏振器 pX3Q@3,$  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 ?:F#WDD  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） $,R QA^gxW  
5.4.4高亮度发光二极管 E'qGKT  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 9A0wiKp  
5.4.6多层集成光学元件 p%A s6.  
5.4.7分子电子学存储器 luD.3&0n  
5.4.8光学和磁数据存储 0 =#)-n  
5.5结论 L h"K"Uv  
致谢 #hPa:I$Oc  
参考文献 ^b)8l  
第6章平面光子晶体的设计和制造 E _d^&{j  
6.1概述 w yi n  
6.2光子晶体学基础知识 6}bUX_!&s  
6.2.1晶体学术语 9&e=s<6dO  
6.2.2晶格类型 /y/O&`X(  
6.2.3计算方法 63R?=u@  
6.3原型平面光子晶体 t.'|[pOV  
6.3.1电子束光刻工艺 Hbz>D5$  
6.3.2普通硅刻蚀技术 d%tF~|#A%  
6.3.3时间复用刻蚀 }!{9tc$<b  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 tNf?pV77  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 lt 74`9,f  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 LPr34BK
  
6.4.2负折射 *`D(drnT{  
6.5未来应用前景 gaeMcL_^a  
参考文献 Sb@:ercC,  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 (3kz(6S  
7.1对称性、拓扑性和PBG 3Z.<=D  
7.2金属光子晶体 6;rJIk@Fx=  
7.3金属结构的可加工性 +dd\_\  
7.4三维光子晶体的制造 6`(x)Q9  
7.5胶体模板法 oCD#Gmr  
7.6微光刻工艺 .|=~x3mPw  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 V2-fJ!  
7.8膜层应力 !Yuu~|  
7.9对准 E#'JYz@  
7.10表面粗糙度 {OHaI ;  
7.11侧壁轮廓 ?V6A:8t,  
7.12释放刻蚀 #gjhs"$
~  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 L
o"w,p`n@  
7.14结论 OhUEp g[  
致谢 Imi;EHW  
参考文献