微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 ryF7  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 >(uZtYM\j  
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目录 7S/G B  
译者序 Bjk]ZU0T  
前言 jK \T|vGJa  
第1章面浮雕衍射光学元件 d\x7Zw>  
1.1制造方法 @1*ohdHH  
1.2周期和波长比 m'
P1BLk  
1.3光栅形状 g?-lk5  
1.4深度优化 O+g3X5f+  
1.5错位失对准 yFDv6yJ.  
1.6边缘圆形化 I}Nd$P)>  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 }ci#>  
1.8表面纹理结构 HGm 3+,  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 dJT]/g  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ono4U.C9  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 =]:>"_jN  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ;"(foY"L  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 NR;1z
 
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 'cY`
w  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 n6s}ww)  
致谢  r.4LU  
参考文献 XsnF~)YW  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 aLIBD'z  
2.1概述和回顾 Fx-8M
!  
2.2基本的刻蚀处理技术 626Z5Afg  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 W6On93sa  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 8_T6_jL<  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 v)
vkn/:  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 7S?4XyU/o  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 A&nU]R8S  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 zZVfj:i8  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 @V03a )6,h  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 }CeCc0M  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 cA%%IL$R  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 \Y"W
u  
致谢 ]XI*Wsn  
参考文献 r*Yi1j/  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ~gGZmTb  
3.1概述 bV ZMW/w  
3.2相位掩模技术 DGzw8|/(  
3.3光学元件的设计和制造 qUly\b 47  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 9K9DF1SOa  
3.3.2相位掩模的设计 *Z|y'<s  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 xO-+i\ ZV  
3.4轴对称元件的设计和制造 lo[.&GD  
3.5结论 YW{C} NA  
参考文献 hWX% 66  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 x
QUu|gtL4  
4.1概述 tKpmm`2  
4.2电子束光刻术 s`0QA!G{-  
4.2.1电子束光刻术发展史 DZi!aJ  
4.2.2电子束光刻系统 S#+h$UVh  
4.2.3电子束光刻技术 x g0iN'e'K  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 -|E!e.^7:  
4.3.1回顾 aG^4BpIP  
4.3.2硅 ;<leKcvhQ&  
4.3.3砷化镓 o<N nV  
4.3.4熔凝石英  EW3(cQbK  
4.4光学器件加工实例 rwGKfoKI
 
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 ,T2G~^0  
4.4.2熔凝石英微偏振器 TA{\PKA)  
4.4.3砷化镓双折射波片 '0FhL)x?"T  
4.5结论 Rz.?i+  
致谢 >Q(3*d >  
参考文献 I :vs;-  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 at)~]dG  
5.1概述 KQ~i<1&j  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 ELj\[&U  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 M%@!cW  
5.3.1纳米压印组件和工艺 Dc_yM  
5.3.2纳米压印设备 lyGhdgWc  
5.4商业化器件的应用 ,G2TV
jz
 
5.4.1通信用近红外偏振器 M8tRjNWS?  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 ariLG [:X  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） $C `;fA
 
5.4.4高亮度发光二极管 hRCed4qA  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 zzyHoZJP  
5.4.6多层集成光学元件 gXjV?"^kUl  
5.4.7分子电子学存储器 <WcR,d  
5.4.8光学和磁数据存储 2o'Wy  
5.5结论 }5hqDBK?  
致谢 `DC2gJKk%  
参考文献 IP(Vr7-v  
第6章平面光子晶体的设计和制造 m&?#;J|B$  
6.1概述 ( vca&wI!  
6.2光子晶体学基础知识 PS[+~>%  
6.2.1晶体学术语 6b:tyQ  
6.2.2晶格类型 ia MUsa{  
6.2.3计算方法 -q*i_r:,  
6.3原型平面光子晶体 ~/P&Tub^  
6.3.1电子束光刻工艺 |cR;{Z8?_  
6.3.2普通硅刻蚀技术 F F|FU<  
6.3.3时间复用刻蚀 *m#Za<_Gv  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 }nL7T'$>  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 8p:j&F  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 o}$EG  
6.4.2负折射 H XmS|PX  
6.5未来应用前景 6*3.SGUY  
参考文献 bLwAXW2K+  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 }&[  
7.1对称性、拓扑性和PBG M#8uv-L  
7.2金属光子晶体 K2<9mDn&  
7.3金属结构的可加工性 NB8/g0:=n&  
7.4三维光子晶体的制造 lGOgN!?i  
7.5胶体模板法 k@'#@ t  
7.6微光刻工艺 @WVcY:1t#  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 tfGHea)M  
7.8膜层应力 OEkN(wF  
7.9对准 @g&ct>@y  
7.10表面粗糙度 ;9c<K  
7.11侧壁轮廓 apu4DAy&8  
7.12释放刻蚀 sL\L"rQN6  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 ayfFVTy1d  
7.14结论 yp({>{u7  
致谢 Y$?9Zkp>  
参考文献