微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 8$38>cGY^  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 )u
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目录 |v:fP;zc  
译者序 )zu m.6pT  
前言 IY}{1[<N  
第1章面浮雕衍射光学元件 h&z(;B!;y.  
1.1制造方法 6&,9=(:J&R  
1.2周期和波长比 =r^Pu|  
1.3光栅形状 9Rb tFwbn  
1.4深度优化 \{ff7_mLo  
1.5错位失对准 VEBvS>i*  
1.6边缘圆形化 rDC=rG  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 Gg6<4T1  
1.8表面纹理结构 ltOsl-OpR  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 WTUC\}#E\  
1.10太阳电池的表面纹理结构 3<}r+,j  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 9''x'E=|  
1.12成形金属基准层的制造工艺 K'b #}N\  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 WTwur
a,  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 d%#5roR4<  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 9HZR%s[J  
致谢 6d;RtCENo  
参考文献 `9nk{!X\  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 gFr-P!3  
2.1概述和回顾 B4w/cIj_  
2.2基本的刻蚀处理技术 ij02J`w:Ra  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 PF0AU T  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 sNsWz.DLT#  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 D}nIF7r2N  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 _o{w<b&  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 %h&F  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 bjql<x5d  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 #=czqZw  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 ~U1M-<IX  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 ~[:Cl  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 N==Y]Z$G  
致谢 8-FW'bA  
参考文献 (gb vInZ  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 /8LTM|(  
3.1概述 'J_6SD  
3.2相位掩模技术 #F ;@Qi3z  
3.3光学元件的设计和制造 1.z]/cx<y  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 o| 9Mj71  
3.3.2相位掩模的设计 htOVt\+!34  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 Dj'+,{7,u  
3.4轴对称元件的设计和制造 r^;1Sm  
3.5结论 Pk)H(,  
参考文献 zUz j F  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 Sw~L M&A  
4.1概述 ? ;$f"Wl  
4.2电子束光刻术 II{"6YI>  
4.2.1电子束光刻术发展史 W"\O+  
4.2.2电子束光刻系统 R|-!5J4h  
4.2.3电子束光刻技术 E/3<8cV  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 6yedl0@wa!  
4.3.1回顾 :$N{NChx  
4.3.2硅 PbY=?>0z  
4.3.3砷化镓 8P*wt'Q$  
4.3.4熔凝石英 rWN%Tai-  
4.4光学器件加工实例 -~&T0dt~  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 H*h4D+Kxv  
4.4.2熔凝石英微偏振器 mZ#h p}\.  
4.4.3砷化镓双折射波片 O.$O
LK;v  
4.5结论 R;H>#caJ  
致谢 z;Dc#SZnO(  
参考文献 +/!y#&C&*  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 b*<Fi#x1=  
5.1概述 k;
!}nQ&  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 ?Y_!Fr3V  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 Sj
@V
OW  
5.3.1纳米压印组件和工艺 R)'[Tt`#R  
5.3.2纳米压印设备 ;!pJ%p0Sc  
5.4商业化器件的应用 $Sc;
  
5.4.1通信用近红外偏振器 <E\vc6n  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 jDCf]NvOPM  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） zC>zkFT>H  
5.4.4高亮度发光二极管 E\*M4n\!  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 A9ZK :i7  
5.4.6多层集成光学元件 }W5
~89"  
5.4.7分子电子学存储器 \>c1Z5H>  
5.4.8光学和磁数据存储 1|oE3  
5.5结论 (\CH;c
-@  
致谢 betTAbF  
参考文献 )*Rr5l /l  
第6章平面光子晶体的设计和制造 ?T_bjALW  
6.1概述 Y(h(Z  
6.2光子晶体学基础知识 c[;=7-+  
6.2.1晶体学术语 YAYwrKt  
6.2.2晶格类型 IZ9* '0Z  
6.2.3计算方法 Zxn>
]Z_  
6.3原型平面光子晶体 lfyij[6q+  
6.3.1电子束光刻工艺  @zSj&4  
6.3.2普通硅刻蚀技术 \_AoG8B  
6.3.3时间复用刻蚀 KBwY _  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 0oo*F  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 !b'!7p  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 o;'-^ LJ  
6.4.2负折射 )KcY<K  
6.5未来应用前景 V*1-wg5>  
参考文献 tS6r4d%~=  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 c{wob%!>  
7.1对称性、拓扑性和PBG Vl0Y'@{  
7.2金属光子晶体 7WEoyd  
7.3金属结构的可加工性 b%|6y  
7.4三维光子晶体的制造 %p tw=Ju  
7.5胶体模板法 ;Wig${  
7.6微光刻工艺 ,Zb_Pu   
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 <gx"p#JbZ  
7.8膜层应力 wo_iCjmK  
7.9对准 s^ K:cz  
7.10表面粗糙度 89a`WV@}  
7.11侧壁轮廓 <M M(Z  
7.12释放刻蚀 ?D=t:=  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 |eH*Q%M  
7.14结论 Cp^%;(@  
致谢 ./Wi(p{F  
参考文献