微光学和纳米光学制造技术

发布:cyqdesign 2012-09-29 22:55 阅读:2909
《国际信息工程先进技术译丛:微光学纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 7<*,O&![|  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 g5;Ig  
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目录 B"rO  
译者序 &bigLe  
前言 P7epBWqDP  
第1章面浮雕衍射光学元件 KJv[z   
1.1制造方法 C[,&Y&`j  
1.2周期和波长 2%/+r  
1.3光栅形状 D?G'1+RIT~  
1.4深度优化 (W.G&VSn)  
1.5错位失对准 j XYr&F  
1.6边缘圆形化 {TvB3QOsj  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 ,hWuAu6.L  
1.8表面纹理结构 ~ \b~  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 & @${@  
1.10太阳电池的表面纹理结构 kz G W/  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 =imJ0V~RW  
1.12成形金属基准层的制造工艺 wlEK"kKU  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 >2ha6A[  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 "8L v  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 /I:&P Pff  
致谢 *;F:6p4_  
参考文献 Ph)>;jU  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 ornU8H`  
2.1概述和回顾 :%h|i&B  
2.2基本的刻蚀处理技术 6`X}Z'4.Ox  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 ^v+p@k  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ,b:~Vpb1I  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 '.jYu7   
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 q8HnPXV  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 [ P,gEYk  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 fYW9Zbov-  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 Ro;I%j  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 +|TXKhm{  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Xpt9$=d  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 1vS-m x  
致谢 >WLHw!I!6  
参考文献 =MvB9gx@r  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 yF1p^>*ak&  
3.1概述 D]5j?X'  
3.2相位掩模技术 BO8?{~i  
3.3光学元件的设计和制造 $<"I*l@  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 wk{]eD%  
3.3.2相位掩模的设计 ZUvc|5]  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 @ 2On`~C`  
3.4轴对称元件的设计和制造 *aq"c9  
3.5结论 3E0C$v KM  
参考文献 l%p,m [  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 G(ZEP.h`u  
4.1概述 > 6=3y4tP  
4.2电子束光刻术 Vol}wc  
4.2.1电子束光刻术发展史 "d /uyS$6  
4.2.2电子束光刻系统 \cf'Hj}  
4.2.3电子束光刻技术 {;6a_L@q;|  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 VDxF%!h(  
4.3.1回顾 LFr$h`_D5  
4.3.2硅 fJ6Q:7  
4.3.3砷化镓 z`NJelcuz\  
4.3.4熔凝石英 k8l7.e*  
4.4光学器件加工实例 ZE= Yn~XM  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 b|;h$otC  
4.4.2熔凝石英微偏振器 $RunGaX!=N  
4.4.3砷化镓双折射波片 F,Ve,7kh  
4.5结论 vp9wRGd  
致谢 lL 50PU  
参考文献 ,el[A`b  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 -@Urq>^v T  
5.1概述 ZHlHnUo  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 =+I-9=  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 &49WfctT  
5.3.1纳米压印组件和工艺 I6gduvkXi4  
5.3.2纳米压印设备 #K/JU{"  
5.4商业化器件的应用 Aa]3jev  
5.4.1通信用近红外偏振器 x9S9%JG :  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 M4CC&?6\  
5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD) FC||6vJth  
5.4.4高亮度发光二极管 "WO0 rh`  
5.4.5微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件 ~jmI`X/  
5.4.6多层集成光学元件  qmenj  
5.4.7分子电子学存储器 5tzO=gO[  
5.4.8光学和磁数据存储 !_;J@B  
5.5结论 #6l(2d  
致谢 '5~l{3Lw  
参考文献 & 9 c^9<F  
第6章平面光子晶体的设计和制造 !(viXV5  
6.1概述 &A`,hF8  
6.2光子晶体学基础知识 ,?Zy4-  
6.2.1晶体学术语 yF%e)6  
6.2.2晶格类型 [TFp2B~)#  
6.2.3计算方法 81!;Wt(?  
6.3原型平面光子晶体 >l/pwb@  
6.3.1电子束光刻工艺 Z,81L3#6  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ,8d&uR}x  
6.3.3时间复用刻蚀 v\qyDZVV  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 nZc6 *jiz  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 jp@X,HES  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 .tyV =B:h  
6.4.2负折射 o@]n<ZYo  
6.5未来应用前景 /C5py&#-I  
参考文献 pSIXv%1J  
第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法 w(t1m]pF[  
7.1对称性、拓扑性和PBG p=Le oc1  
7.2金属光子晶体 ~ _tK.m3  
7.3金属结构的可加工性 ;C , g6{  
7.4三维光子晶体的制造 PYY<  
7.5胶体模板法 Yl?s^]SFU  
7.6微光刻工艺 \Cin%S. C  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 ;:ZD<'+N  
7.8膜层应力 2Ur&_c6 P  
7.9对准 zxx9)I@?A  
7.10表面粗糙度 .*>C[^  
7.11侧壁轮廓 ;E5XH"L\  
7.12释放刻蚀 O#C0~U]dDW  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 PU B0H  
7.14结论 yf R0vp<&  
致谢 ui|6ih$+  
参考文献
关键词: 光学纳米制造
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