微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 abY0)t  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 LnMwx#^*  
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目录 Z[,`"}}hv=  
译者序 +6%7CC6  
前言 `5"/dC  
第1章面浮雕衍射光学元件 'rV2Bt,  
1.1制造方法 B {i&
~k  
1.2周期和波长比 Io+IRK  
1.3光栅形状 PF ;YE6  
1.4深度优化 ?\yB)Nd y  
1.5错位失对准 $k(9 U\y-  
1.6边缘圆形化 ofEqvoi@  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 pa] TeH  
1.8表面纹理结构 L+Nsi~YVq  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 jCWu\Oe  
1.10太阳电池的表面纹理结构 c=t*I0-OVS  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 nJ# XVlHc  
1.12成形金属基准层的制造工艺 .D@/y uV  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 ~&[u]u[  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 &8Wlps`
 
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 aVK()1v]  
致谢 ucFw,sB1  
参考文献 m0iV m|  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 ~iT{8  
2.1概述和回顾 3Bd4 C]E  
2.2基本的刻蚀处理技术 rAatJc"0  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 {dZ8;Fy4  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 U5wTGv4S|  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 vadM1c*z  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 |7S:l9;  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 0N1' $K$\  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 (j`l5r#X#/  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 'Fzuc^G(d  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 }@4|7  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 '?L%F{g/9  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 F0:
&>'}  
致谢 4O Zy&,  
参考文献 xfUhSt  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ks^|>  
3.1概述 IgiqFV{  
3.2相位掩模技术 bfc.rZ  
3.3光学元件的设计和制造 (jneEo=vr  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 ]*h&hsS0  
3.3.2相位掩模的设计 Gm*Uv6?H?  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 0eaUorm)  
3.4轴对称元件的设计和制造 Oylp:_<aT  
3.5结论 r?XDvU  
参考文献 RQJ9MGw  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 ?ZM^%]/+  
4.1概述 K \m4*dOv  
4.2电子束光刻术 ].c@Gm_(  
4.2.1电子束光刻术发展史 ^"/Dih\_  
4.2.2电子束光刻系统 g BH?l/  
4.2.3电子束光刻技术 mc56L[  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 n%8#?GC`  
4.3.1回顾 X!?wL0n  
4.3.2硅 IM|Se4;x  
4.3.3砷化镓 A9.;>8!u  
4.3.4熔凝石英 E-[:. &  
4.4光学器件加工实例 \Qb>:  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 i&B?4J)  
4.4.2熔凝石英微偏振器 pJ$(ozV  
4.4.3砷化镓双折射波片 %L.rcbg:<c  
4.5结论 f#2#g%x  
致谢 o|BFvhg  
参考文献 xP{m9_Qj  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 rQuOt  
5.1概述 Ny[s+2?  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 mKMGdN~  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 cEtZ}2,j  
5.3.1纳米压印组件和工艺 V4qZc0<,H  
5.3.2纳米压印设备 c[6zX#{`  
5.4商业化器件的应用 iu+zw[f  
5.4.1通信用近红外偏振器 ] +sSg=N7i  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 @b>YkJDk  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） vJzxPy|  
5.4.4高亮度发光二极管 9O2a | d  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Ed8U;U b  
5.4.6多层集成光学元件 W=!F8g|Qz  
5.4.7分子电子学存储器 R0z?)uU#  
5.4.8光学和磁数据存储 939]8BERt  
5.5结论 qLu8!|QT  
致谢 23,%=U  
参考文献 k^~@9F5k  
第6章平面光子晶体的设计和制造 Rs^jk)Z:)  
6.1概述 DPR;$yV  
6.2光子晶体学基础知识 cG<Q`(5~  
6.2.1晶体学术语 FL5ibg  
6.2.2晶格类型 U=_~{[/  
6.2.3计算方法 lsN/$M|}  
6.3原型平面光子晶体 LJ:mJ#  
6.3.1电子束光刻工艺 o x03c  
6.3.2普通硅刻蚀技术 o$^O<zL  
6.3.3时间复用刻蚀 :K!GR  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 CAA tco5  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 c g3Cl[s  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 5n-9#J$  
6.4.2负折射 pXGK:ceFu  
6.5未来应用前景 &! 5CwEIF  
参考文献 z|taa;iM  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 RcKQER  
7.1对称性、拓扑性和PBG OYQXi  
7.2金属光子晶体 QfKR pnj(o  
7.3金属结构的可加工性 `bBfNI?3d*  
7.4三维光子晶体的制造 /7!_un9  
7.5胶体模板法 1D3dYVE  
7.6微光刻工艺 }D&"z8mP  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 Ew)n~!s  
7.8膜层应力 ,'/HcF?yf  
7.9对准 Ac*B[ywA3  
7.10表面粗糙度 d;*OO xQV  
7.11侧壁轮廓 #VP-T; Ahe  
7.12释放刻蚀 -k|g04Q?  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 tIc0S!H#  
7.14结论 tU-#pB>H  
致谢 .x\/XlM  
参考文献