微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 d(ypFd9z  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 ez*QP|F*9  
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目录 PcU~1m1  
译者序 650qG$  
前言 :N$-SV  
第1章面浮雕衍射光学元件 >-<iY4|[d  
1.1制造方法 324XoMO  
1.2周期和波长比 "opMS/a"7  
1.3光栅形状 +FqE fY4j  
1.4深度优化 Fr  
1.5错位失对准 |C<#M<  
1.6边缘圆形化 lG94^|U  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 emnT;kJ>  
1.8表面纹理结构 Km%L1Cd]  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 X~JP 1  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ]- `wXi"  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 }(ORh2Ri  
1.12成形金属基准层的制造工艺 * zyik[o  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 |3@DCbT  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 ?&~q^t?u  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 3Ioe#*5\  
致谢 bSX/)')jU  
参考文献 @&WHX#  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 g""GQeR  
2.1概述和回顾 B#SVN Lv  
2.2基本的刻蚀处理技术 }shxEsq  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 l&qCgw  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ZCPUNtOl  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 1H/I-

 
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 l$/lbwi%  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 }P fAf  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 _J W|3q  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 I

_u/  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 Y6sX|~Zy  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 #m{*]mY@  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 HRDpFMA/~  
致谢 wLXJ?iy3  
参考文献 6xJffl  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 &EQhk9j  
3.1概述 Rxd4{L )n  
3.2相位掩模技术 PKSfu++Z  
3.3光学元件的设计和制造 4#03x:/<\  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 c!4F0(n4  
3.3.2相位掩模的设计 4r1\&sI$~  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 GN(<$,~g  
3.4轴对称元件的设计和制造 Q]xkDr?   
3.5结论 .=#jdc/  
参考文献 K -rR)-rI  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 Ytlzn%  
4.1概述 YoKyiO!   
4.2电子束光刻术 +ZOiL[rS  
4.2.1电子束光刻术发展史 Jd>~gA}l  
4.2.2电子束光刻系统 w#9KtW,tt  
4.2.3电子束光刻技术 PWpt\g  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 .w.:o2L  
4.3.1回顾 =79R;|5  
4.3.2硅 |0y#} |/  
4.3.3砷化镓 fq6%@M~  
4.3.4熔凝石英 [
fa4  
4.4光学器件加工实例 Vi8A4  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 YNU}R/u6^  
4.4.2熔凝石英微偏振器 "S%t\  
4.4.3砷化镓双折射波片 K}R+~<bIY  
4.5结论 :;7I_tb  
致谢 lZ\8W^  
参考文献 }#O!GG{  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 Y$r78h=4  
5.1概述 Z nc(Q  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 {q?&h'#y  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 ^hC'\09=c  
5.3.1纳米压印组件和工艺 LSJ?;Zg(=z  
5.3.2纳米压印设备 6@J=n@J$p  
5.4商业化器件的应用 c0@8KW[,  
5.4.1通信用近红外偏振器 ~.m<`~u  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 m.e]tTe  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） 6gg8h>b  
5.4.4高亮度发光二极管 AC) M2;  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 -1g:3'% P  
5.4.6多层集成光学元件 3yZmW$E.  
5.4.7分子电子学存储器 dw bR,K  
5.4.8光学和磁数据存储 @LKQ-<dZG  
5.5结论 yLX $SR  
致谢 EiW|+@1  
参考文献 )|F|\6:ne  
第6章平面光子晶体的设计和制造 bV_nYpo  
6.1概述 #.bW9j/  
6.2光子晶体学基础知识 #&&T1;z"#  
6.2.1晶体学术语 Ma[EgG  
6.2.2晶格类型 p~qe/  
6.2.3计算方法 i6`"e[aT[o  
6.3原型平面光子晶体 1sQIfX#2f  
6.3.1电子束光刻工艺 !+T1kMP+l  
6.3.2普通硅刻蚀技术 BX@I
q  
6.3.3时间复用刻蚀 fd\RS1[  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 <\aeC2~M  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 9E!le=>  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 OU[<\d
 
6.4.2负折射 _!\d?]Ya  
6.5未来应用前景 }rTH<!j  
参考文献 l
90mM'[  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 X W)TI  
7.1对称性、拓扑性和PBG !~@GIr  
7.2金属光子晶体 Ey46JO"  
7.3金属结构的可加工性 d8j1L/e  
7.4三维光子晶体的制造 xP9(J 0y  
7.5胶体模板法 "F<CGSo  
7.6微光刻工艺 RLB3 -=9t  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 ;;Q^/rkC  
7.8膜层应力 {4Of.  
7.9对准 {meX2Z4  
7.10表面粗糙度 mPV<a&U  
7.11侧壁轮廓 \N>-+r  
7.12释放刻蚀 AZtS4]4G)  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 E$e7(D  
7.14结论 `@]s[1?f  
致谢 [I $+wWW_  
参考文献