《国际信息工程先进技术译丛:微
光学和
纳米光学
制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的
模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。
{Lugdf' 《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、
光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。
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S~U5xM^s =55V<VI 目录
S2:G#%EAa 译者序
dpcU`$kt 前言
~~}8D" 第1章面浮雕衍射光学元件
V\=%u<f 1.1制造方法
i4lB]k 1.2周期和
波长比
4@=[rZb9 1.3光栅形状
S^{tRPF%d 1.4深度
优化 oF_
'<\ly= 1.5错位失对准
J|CCTXT 1.6边缘圆形化
<`Qbb=* 1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化
'j;i4ie>*x 1.8表面纹理结构
)3^#CD 1.9熔凝石英表面的纹理结构
BiA^]h/| 1.10太阳
电池的表面纹理结构
{7.uwIW.1 1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法
+de5y]1H,| 1.12成形金属基准层的制造工艺
]L?WC 1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀
Y4N)yMSl" 1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀
Sg1,9[pb 1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀
vy5I#q(k 致谢
w:2yFC 参考文献
jF-0 fK;)* 第2章微光学等离子体刻蚀加工技术
64D4*GQ 2.1概述和回顾
06I(01M1 2.2基本的刻蚀处理技术
u zL|yxt 2.3玻璃类
材料的刻蚀工艺
Ryn@">sVI 2.4硅材料微光学结构的刻蚀
Vk%W4P"l 2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺
-v=tM6 2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件
w[J.?v&^ 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺
:-~x~ah- 2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用
Oyp)Wm;@ 2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6
h8P_/.+g|V 2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺
RY*yj&?w[ 2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺
2G$-:4B 2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术
Hr/J6kyB) 致谢
ihIRB9 参考文献
!={QL : 第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术
]o`FF="at 3.1概述
$'b b)@_ 3.2相位掩模技术
uU1q?|4 3.3光学元件的设计和制造
Hzc^fC 3.3.1光致抗蚀剂的性质
hYh~[Kr^@^ 3.3.2相位掩模的设计
/!-ypIY
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺
> u=nGeO 3.4轴对称元件的设计和制造
VqeW;8&*iv 3.5结论
/7C%m: 参考文献
^7C,GaDsn 第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术
0*o =JM] 4.1概述
AI2 >{V 4.2电子束光刻术
\>4x7mF! 4.2.1电子束光刻术发展史
;\t(c 4.2.2电子束光刻
系统 JDB Ni+t 4.2.3电子束光刻技术
kZS&q/6A* 4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术
dH0wVI<z 4.3.1回顾
)F:UkS 4.3.2硅
}Yp]A 4.3.3砷化镓
#NWc<Dd 4.3.4熔凝石英
+6x:+9S 4.4光学器件加工实例
q.PXO3T 4.4.1熔凝石英自电光效应器件
O)G^VD s 4.4.2熔凝石英微偏振器
BmFs6{>~c 4.4.3砷化镓双折射波片
WG3 .qLH% 4.5结论
R~(_m#6`: 致谢
MIwkFI8 参考文献
<US!XMrCg 第5章纳米压印光刻技术和器件应用
4gK_'b6" 5.1概述
B!z5P"C(~ 5.2压印图形化和压印光刻术的发展史
t~FOaSt 5.3纳米压印光刻术的相关概念
$9O%,U@ 5.3.1纳米压印组件和工艺
L\X2Olfz1 5.3.2纳米压印设备
V .VV:`S 5.4商业化器件的应用
bn<} 5.4.1通信用近红外偏振器
$qj||zA 5.4.2投影显示用可见光偏振器
:0B'
b 5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD)
eLAhfG 5.4.4高亮度发光二极管
Kzgnhgc 5.4.5微光学(微
透镜阵列)和衍射光学元件
>D/+04w 5.4.6多层集成光学元件
E`>u*D$un~ 5.4.7分子电子学存储器
Qape DU; 5.4.8光学和磁数据存储
5 MD=o7O^ 5.5结论
seo.1.Da2 致谢
kI>PaZ`i) 参考文献
)$e_CJ}9e 第6章平面光子晶体的设计和制造
<:UP 6.1概述
B7!dp`rPp 6.2光子晶体学基础知识
1Qz1 Ehz> 6.2.1晶体学术语
:=K <2 6.2.2晶格类型
*
>XmJ6w 6.2.3计算方法
c/G]r|k 6.3原型平面光子晶体
Iz[ T.$9 6.3.1电子束光刻工艺
WMLsKoby 6.3.2普通硅刻蚀技术
x<%V&<z1g 6.3.3时间复用刻蚀
52JtEt7E 6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺
J< U,~ra\ 6.4基于色散特性的平面光子晶体
ir ^XZVR 6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导
_<i*{;kR6 6.4.2负折射
0'9zXJ" 6.5未来应用前景
JxM[LvVi 参考文献
)W& $FU4JK 第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法
e):rr* 7.1对称性、拓扑性和PBG
V]$Tbxg 7.2金属光子晶体
PHh&@: 7.3金属结构的可加工性
1k8zAtuj 7.4三维光子晶体的制造
hh<Es|v 7.5胶体模板法
BL^8gtdn 7.6微光刻工艺
(wRJ"Nwu 7.7利用“模压”技术制造光子晶体
3 O)^Hq+9 7.8膜层应力
kr|u || 7.9对准
,9C~%c0Pw 7.10表面粗糙度
3bi,9 >% 7.11侧壁轮廓
I;<aJo6Yl 7.12释放刻蚀
m%bw$hr 7.13测量方法、测试工具和失效模式
u`]J]gE 7.14结论
VkNg Vjg 致谢
AGe\PCn- 参考文献