微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 /.{4 KW5  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 Wm>[5h%>  
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目录 feM%-  
译者序
T\7z87Q  
前言 6[fpe  
第1章面浮雕衍射光学元件
IsjxD|u  
1.1制造方法 v5STe`  
1.2周期和波长比 e~]3/0  
1.3光栅形状 d 7vD  
1.4深度优化 ^uB9EP*P  
1.5错位失对准 rMRM*`Q2  
1.6边缘圆形化 &KinCh7l L  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 / blVm1F  
1.8表面纹理结构 "FA&Qm0  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 KwGk8$ U  
1.10太阳电池的表面纹理结构 w#]> Nf  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 NAd|n+[d  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ":s1}A  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 '<! b}1w0  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 Cm@e^l!  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 7<{g+Q~7*  
致谢 *J[3f]PBmR  
参考文献 _BGw)Z 6  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 Co[fq3iX#  
2.1概述和回顾 *Ju$A  
2.2基本的刻蚀处理技术 O.61-rp  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Q9,H0r-%  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 B#RBR<MFC  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 Z*&y8;vUQ  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 K@av32{  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 kA3nhBH  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 =`RogjbP  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 _}MO.&Y  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 k?r-%oJ7  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Uedzt  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 c@H_f  
致谢 pxm{?eBz  
参考文献 UjCQ W:[  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 &5JTcMC^  
3.1概述 zTA+s 2  
3.2相位掩模技术 &!/E&e$_  
3.3光学元件的设计和制造 b4NUx)%ln  
3.3.1光致抗蚀剂的性质
CjtBQ5  
3.3.2相位掩模的设计 }dnO
7K  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 U*Q1(C  
3.4轴对称元件的设计和制造 tBR"sBiws  
3.5结论 LxD >eA  
参考文献 u,h,;'J  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 fL^+Qb}  
4.1概述 h)S223[  
4.2电子束光刻术 X|o;*J](  
4.2.1电子束光刻术发展史 5]C}044  
4.2.2电子束光刻系统 <{$0mUn;s|  
4.2.3电子束光刻技术 tJ:]ne  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 Hn~=O8/2  
4.3.1回顾 b.=bgRV2{x  
4.3.2硅 "S8JHHx  
4.3.3砷化镓 Q[g>ee  
4.3.4熔凝石英 %N((p[\H  
4.4光学器件加工实例 )ro3yq4??  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 61qs`N=k  
4.4.2熔凝石英微偏振器 LjZvWts?  
4.4.3砷化镓双折射波片 "9mVBa|Q  
4.5结论 ;%-f>'KhI7  
致谢 I~:vX^%9  
参考文献 B 4s^X`?z  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用
:X1~  
5.1概述 ^]nnvvp  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 eK<X7m^  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 &yu3nA:7D  
5.3.1纳米压印组件和工艺 $U3|.4  
5.3.2纳米压印设备 7Jm&z/  
5.4商业化器件的应用 $bf&ct*$h  
5.4.1通信用近红外偏振器 U[l7n3Y=  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 \*>r[6]*&5  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） R$[nYw  
5.4.4高亮度发光二极管 px|y_.DB2x  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 a/})X[2  
5.4.6多层集成光学元件 jZRf{  
5.4.7分子电子学存储器 b=V"$(Q  
5.4.8光学和磁数据存储 j$2rU'  
5.5结论 <n8K"(sy}  
致谢 >[,ywRJ#_}  
参考文献 %[1\d)  
第6章平面光子晶体的设计和制造 XUI9)Ne  
6.1概述 zDEX `~c  
6.2光子晶体学基础知识 KyQO>g{R  
6.2.1晶体学术语 .9":Ljs(L  
6.2.2晶格类型 87QK&S\  
6.2.3计算方法 z]/;?  
6.3原型平面光子晶体 zWN/>~}U\  
6.3.1电子束光刻工艺 x2q6y  
6.3.2普通硅刻蚀技术 ;m/h?Y~  
6.3.3时间复用刻蚀 0F"W~OQ6  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 (lNV\Za  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 C*+gQeK  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 )@vhqVv?  
6.4.2负折射 z
%lu%  
6.5未来应用前景 QNH-b9u>8  
参考文献 79DzrLu  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 DC&3=Nd  
7.1对称性、拓扑性和PBG (8Q0?SZN  
7.2金属光子晶体 4rcNBmA,  
7.3金属结构的可加工性 ~0;l\^  
7.4三维光子晶体的制造 W^a-K  
7.5胶体模板法 goE \C  
7.6微光刻工艺 {6_M$"e.  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 e(e_p#  
7.8膜层应力 gdPPk=LD  
7.9对准 zm
A]@'j  
7.10表面粗糙度 h/)kd3$*'  
7.11侧壁轮廓 y4@zi"G  
7.12释放刻蚀 Y/%(4q*'  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 S]}hh,A  
7.14结论 ^{Vt  
致谢 iMT[sb  
参考文献