微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 zkd3Z$C
e  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 `Uv)Sf{  
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目录 )AJ=an||5  
译者序 #XcU{5Qm5  
前言 !Qcir&]C>  
第1章面浮雕衍射光学元件 YwGHG{?e  
1.1制造方法 3I]Fdp)'  
1.2周期和波长比 wDMjk2YN  
1.3光栅形状 3^XVQS***  
1.4深度优化 T(JuL<PB  
1.5错位失对准 9_GokU P_  
1.6边缘圆形化 vu<#wW*9  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 {M[~E|@D  
1.8表面纹理结构 '#A:.P  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 9s(i`RTM  
1.10太阳电池的表面纹理结构 &Xv1[nByU  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 c yP,[?N  
1.12成形金属基准层的制造工艺 0vn[a,W<A  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 MQJ%He"  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 >ukQ, CE~  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 5/ * >v  
致谢 srK53vKMHW  
参考文献 ei|cD[ NY  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 Yy hny[fa9  
2.1概述和回顾 doM?8C#`  
2.2基本的刻蚀处理技术 @(>XOj?+  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 &wjB{%  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 [x5
mPjgw  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 ;%Q&hwj  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 f?^S bp
 
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 w.uK?A>W,  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 4sIXO   
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 M&f#wQ  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 `eC+% O  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 =Dk7RKoHF  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 Pw{"_g  
致谢 \(fq8AL?  
参考文献 Yb6q))Y  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 AkA!:!l  
3.1概述 0% +'  
3.2相位掩模技术 MwA
J(  
3.3光学元件的设计和制造 |
` "?  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 Za%LAyT_s  
3.3.2相位掩模的设计 A=X-;N#  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 C ) ?uE'  
3.4轴对称元件的设计和制造 #wjH4DT
 
3.5结论 f-D>3qSS  
参考文献 1TZPef^y  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 \bold"  
4.1概述 e:E# b~{  
4.2电子束光刻术 o @KW/RN"  
4.2.1电子束光刻术发展史 'zxoRc-b@N  
4.2.2电子束光刻系统 utH%y\NMF|  
4.2.3电子束光刻技术  %w5[*V  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 /M@PO"  
4.3.1回顾 6/1$<!WH  
4.3.2硅 zCV7%,H~  
4.3.3砷化镓 LT_iS^&1  
4.3.4熔凝石英 55m<XC  
4.4光学器件加工实例 TzKK;(GX  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 +EkW>$  
4.4.2熔凝石英微偏振器 !` 2
6\@1  
4.4.3砷化镓双折射波片 m|F:b}0Hb  
4.5结论 ,2,5Odrz  
致谢 cAEokP  
参考文献 URw
5U1  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 BJ5}GX!  
5.1概述 ;Z9IZ~  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 _kN*e:t  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 S_\ F
 
5.3.1纳米压印组件和工艺 -5k2j^r;  
5.3.2纳米压印设备 hO( RZ'{  
5.4商业化器件的应用 ]tY:,Mfs  
5.4.1通信用近红外偏振器 ;`UecLb#  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 62\&RRB i  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） {rXs:N@  
5.4.4高亮度发光二极管 _~M^ uW^l  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 &=Y e6 f[  
5.4.6多层集成光学元件 ^E,1V5  
5.4.7分子电子学存储器 0m)&YFZ[(  
5.4.8光学和磁数据存储 -^SA8y  
5.5结论 4!%F\c46  
致谢 d8OL!Rk  
参考文献
Y7SacRO  
第6章平面光子晶体的设计和制造 DWm SC}{.  
6.1概述 XUmR{A  
6.2光子晶体学基础知识 `hrQ
w)5?r  
6.2.1晶体学术语 s'u(B]E  
6.2.2晶格类型 yPgmg@G@/  
6.2.3计算方法 XG 0v  
6.3原型平面光子晶体 }}T,W.#%u  
6.3.1电子束光刻工艺 TH?9< C-C  
6.3.2普通硅刻蚀技术 !')y&7a~  
6.3.3时间复用刻蚀 '\~^TFi  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 YnTB&GPxl  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 k \qiF|B)Z  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 |vILp/"9=W  
6.4.2负折射 KnzsHli,~k  
6.5未来应用前景 Vrp[r *V@E  
参考文献 \x+3f  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 ;>"nn VW  
7.1对称性、拓扑性和PBG -
]S.<8<$
 
7.2金属光子晶体 [j9E pi(  
7.3金属结构的可加工性 n&Yk<  
7.4三维光子晶体的制造 _*6v|Ed?  
7.5胶体模板法 :&w{\-0{  
7.6微光刻工艺 '&yeQ  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 =? :@  
7.8膜层应力 ;*cLG#&'M  
7.9对准 f3tv3>p  
7.10表面粗糙度 RBGX_v?  
7.11侧壁轮廓 ZafboqsDL  
7.12释放刻蚀 I+;-p]~  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 ra6o>lI(,  
7.14结论 K :LL_,  
致谢 ~;#MpG;e  
参考文献