微光学和纳米光学制造技术

发布:cyqdesign 2012-09-29 22:55 阅读:2991
《国际信息工程先进技术译丛:微光学纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺,重点强调了关键性的专业技巧,提供了最新的技术信息,内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法。 {Lugdf'  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家,代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计(尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究)的工程师使用,也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 =F/EzS  
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目录 S2:G#%EAa  
译者序 dpcU`$kt  
前言 ~~}8D"  
第1章面浮雕衍射光学元件 V\=%u<f  
1.1制造方法 i4lB ]k  
1.2周期和波长 4@=[r Zb9  
1.3光栅形状 S^{tRPF%d  
1.4深度优化 oF_ '<\ly=  
1.5错位失对准 J|C CTXT  
1.6边缘圆形化 <`Qb b=*  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 'j;i4ie>*x  
1.8表面纹理结构 )3^#CD  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 BiA^]h/|  
1.10太阳电池的表面纹理结构 {7.uwIW.1  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 +de5y]1H,|  
1.12成形金属基准层的制造工艺 ]L?WC  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 Y4N)yMSl"  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 Sg1 ,9[pb  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 vy5I#q(k  
致谢 w:2yFC  
参考文献 jF-0fK;)*  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 64D4*GQ  
2.1概述和回顾 06I(01M1   
2.2基本的刻蚀处理技术 uzL|yxt  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Ryn@">sVI  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 Vk%W4P"l  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 -v=tM6  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 w[J.?v&^  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 :-~x~ah-  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 Oyp)Wm;@  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 h8P_/.+g|V  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 RY*yj&?w [  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 2G$-:4B  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 Hr/J6kyB)  
致谢 ihIRB9  
参考文献 !={QL:  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 ]o`FF="at  
3.1概述 $'bb)@_  
3.2相位掩模技术 uU1q?|4  
3.3光学元件的设计和制造 Hzc^fC  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 hYh~[Kr^@^  
3.3.2相位掩模的设计 /!-ypIY  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 >u=nGeO  
3.4轴对称元件的设计和制造 VqeW;8&*iv  
3.5结论 /7C %m:  
参考文献 ^7C,GaDsn  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 0*o=JM]  
4.1概述 AI2>{V  
4.2电子束光刻术 \>4x7mF!  
4.2.1电子束光刻术发展史 ;\t(c  
4.2.2电子束光刻系统 JDBNi+t  
4.2.3电子束光刻技术 kZS&q/6A*  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 dH0wVI<z  
4.3.1回顾 )F:UkS  
4.3.2硅 }Yp]A  
4.3.3砷化镓 #NWc<Dd  
4.3.4熔凝石英 +6 x:+9S  
4.4光学器件加工实例 q.PXO3T  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 O)G^VD s  
4.4.2熔凝石英微偏振器 BmFs6{>~c  
4.4.3砷化镓双折射波片 WG3 .qLH%  
4.5结论 R~(_m#6`:  
致谢 MIwkFI8  
参考文献 <US!XMrCg  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 4gK_' b6"  
5.1概述 B!z5P" C(~  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 t~FOaSt  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 $9O%,U@  
5.3.1纳米压印组件和工艺 L\X 2Olfz1  
5.3.2纳米压印设备 V .VV:`S  
5.4商业化器件的应用 b n<}  
5.4.1通信用近红外偏振器 $qj||zA  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 :0B' b  
5.4.3光学读取装置的光学波片(CD\DVD) eLAhfG  
5.4.4高亮度发光二极管 Kzgnh gc  
5.4.5微光学(微透镜阵列)和衍射光学元件 >D/+04w  
5.4.6多层集成光学元件 E`>u*D$un~  
5.4.7分子电子学存储器 Qape DU;  
5.4.8光学和磁数据存储 5 MD=o7O^  
5.5结论 seo.1.Da2  
致谢 kI>PaZ`i)  
参考文献 )$e_CJ}9e  
第6章平面光子晶体的设计和制造 <:UP  
6.1概述 B7!dp`rPp  
6.2光子晶体学基础知识 1Qz1 Ehz>  
6.2.1晶体学术语 :=K <2  
6.2.2晶格类型 * >XmJ6w  
6.2.3计算方法 c/G]r|k  
6.3原型平面光子晶体 Iz[T.$9  
6.3.1电子束光刻工艺 WMLsKoby  
6.3.2普通硅刻蚀技术 x<%V&<z1g  
6.3.3时间复用刻蚀 52JtEt7E  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 J< U,~ra\  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 ir ^XZVR  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 _<i*{;kR6  
6.4.2负折射 0'9z XJ"  
6.5未来应用前景 JxM[LvVi  
参考文献 )W& $FU4JK  
第7章三维(3D)光子晶体的制造——钨成型法  e ):rr*  
7.1对称性、拓扑性和PBG V]$Tbxg  
7.2金属光子晶体 PHh&@:  
7.3金属结构的可加工性 1k8zAtuj  
7.4三维光子晶体的制造 hh<Es|v  
7.5胶体模板法 BL^8gtdn  
7.6微光刻工艺 (wRJ"Nwu  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 3 O)^Hq+9  
7.8膜层应力 kr|u ||  
7.9对准 , 9C~%c0Pw  
7.10表面粗糙度 3bi,9 >%  
7.11侧壁轮廓 I;<aJo6Yl  
7.12释放刻蚀 m%bw$hr  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 u`]J]gE  
7.14结论 VkNg Vjg  
致谢 AGe\PCn-  
参考文献
关键词: 光学纳米制造
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