微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 c;wA  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 < eQ[kM  
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目录 o@3B(j;J`  
译者序 K2HvI7$-  
前言 :tLbFW[  
第1章面浮雕衍射光学元件 X`1p'JD  
1.1制造方法 o,FUfO}F  
1.2周期和波长比 gI{ =0  
1.3光栅形状 ;Iq5|rzDn  
1.4深度优化 lsY `c"NW>  
1.5错位失对准 M/#U2!iFk  
1.6边缘圆形化 W2<3C  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 [4>r6Hqxr  
1.8表面纹理结构 9"ugz^uKt  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 F7T
E|LZ  
1.10太阳电池的表面纹理结构 76u{!\Jo/{  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 F;kvH  
1.12成形金属基准层的制造工艺 7/"@yVBW  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 RZh}:  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 }9CrFTbx;  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 =dGKF`tR  
致谢 j"hASBTgp  
参考文献 TwFb%YM  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 azX`oU,l  
2.1概述和回顾 <hv7s,i  
2.2基本的刻蚀处理技术 J=*K"8Qr  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 =}R~0|^  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 o&$hYy"<.L  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 tD-gc''H  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 nxQ}&n  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 !SF^a6jT  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 Yy h=G  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 jczq`yW  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 _Adsq8sFW  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 ]:et~pfW  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 jBpVxv  
致谢
5v9uHxy  
参考文献 d#\W hRE  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 kcS6_l  
3.1概述 /9_#U#vhY  
3.2相位掩模技术 pjN:&#Y]  
3.3光学元件的设计和制造 C[YnrI!  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 &fSTR-8ev#  
3.3.2相位掩模的设计 J+Bdz6lt  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 e{C6by"j{S  
3.4轴对称元件的设计和制造 "'A"U  
3.5结论 _tj&Psp  
参考文献 r)b<{u=]  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 !8$RBD %  
4.1概述 qk
s|d_  
4.2电子束光刻术 O >FO>  
4.2.1电子束光刻术发展史 yd>}wHt  
4.2.2电子束光刻系统 )ooWQ-%P  
4.2.3电子束光刻技术 "H1:0p  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 ``9 GY  
4.3.1回顾 $bGD%9 z  
4.3.2硅 ow.j+<M  
4.3.3砷化镓 /6U 4S>'(  
4.3.4熔凝石英 0M8.U  
4.4光学器件加工实例 |+NuYz?  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 -0 0}if7  
4.4.2熔凝石英微偏振器 R2LK.bTVn  
4.4.3砷化镓双折射波片 m:{tgcE  
4.5结论 gj+3y9  
致谢 B*,?C]0{  
参考文献 6[?}6gQ  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 ~>%DKJe  
5.1概述 <v$QM;Ff  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 sKfXg`0  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 aws"3O% uW  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ez*j
jm  
5.3.2纳米压印设备 3ATjsOL  
5.4商业化器件的应用 -_~)f{KN@  
5.4.1通信用近红外偏振器 SI*^f\lu  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 jvs[ /  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） f0oek{  
5.4.4高亮度发光二极管 V8"Wpl9Cz  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 >n!ni(  
5.4.6多层集成光学元件 SxMj,u%X/  
5.4.7分子电子学存储器 k/lFRi-i  
5.4.8光学和磁数据存储 cwynd=^nC  
5.5结论  Q2\  
致谢 sR*Nq5F#9  
参考文献 l4ouZR  
第6章平面光子晶体的设计和制造 VzwPBQ -  
6.1概述 |F!F{d^p  
6.2光子晶体学基础知识 , Oli  
6.2.1晶体学术语 qtzRCA!9(Z  
6.2.2晶格类型 AS;.sjgk  
6.2.3计算方法 uD)-V;}P@;  
6.3原型平面光子晶体 /#t&~E_|  
6.3.1电子束光刻工艺 #@Y/{[s|@  
6.3.2普通硅刻蚀技术  @Fx@5e  
6.3.3时间复用刻蚀 .ECHxDp  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 -<W2PY<  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 O9]\Q@M.  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 1^{`lK~2  
6.4.2负折射 SRz&Nb  
6.5未来应用前景 dZ2`{@AYY  
参考文献 G6O/(8  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 \G;CQV#{9  
7.1对称性、拓扑性和PBG :oa9#
c`L  
7.2金属光子晶体 $TG?4  
7.3金属结构的可加工性 $a.u05  
7.4三维光子晶体的制造 /f3m)pT  
7.5胶体模板法 G)7)]yBL  
7.6微光刻工艺 =!<G!^  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 X?dfcS*!n  
7.8膜层应力 {XnPx?V  
7.9对准 :vQM>9l7  
7.10表面粗糙度 DQgH_!  
7.11侧壁轮廓 6Rz[?-mkLO  
7.12释放刻蚀 r nBOj#N  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 R&So4},B  
7.14结论 DO^y;y>  
致谢 aRwnRii  
参考文献