微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 Z rv:uEl  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 lokKjs  
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目录 +o?;7  
译者序 z(Z7[#.  
前言 AuT:snCzR  
第1章面浮雕衍射光学元件  |A\o  
1.1制造方法 S)?N6sz%  
1.2周期和波长比
0:`*xix  
1.3光栅形状 _y&XFdp  
1.4深度优化 u\;d^A  
1.5错位失对准 &0i$Y\g  
1.6边缘圆形化 l <p(zLR  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 c h}wXn  
1.8表面纹理结构 !jvl"+_FV  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 ST2:&xH(  
1.10太阳电池的表面纹理结构 ^a<kp69qS  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 SlG^ H  
1.12成形金属基准层的制造工艺 Gt)ij?~  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 /24}>oAH  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 C]Y%dQh+a  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 =R
<92v  
致谢 J/IRCjQ}  
参考文献 *d`KD64  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 D5!#c-Y-  
2.1概述和回顾 N0%q66]1  
2.2基本的刻蚀处理技术 "j&'R#$&d  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 `NTtw;%Y  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 CF 3V)3}  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 !nq`PyMR  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 W*
%(J$E  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 1[J|AkN  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用  S'\e"w  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 ltlo$`PR  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 `5e{ec c7  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 Paeq  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 \KzH5?  
致谢 cK >^8
T^  
参考文献 &>B"/z  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 I\x9xJ4x  
3.1概述 ,`02fMOLc  
3.2相位掩模技术 d14n
>  
3.3光学元件的设计和制造 q#@r*hl  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 /!MVpi'6&  
3.3.2相位掩模的设计 }%z%}V@(&  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 z1]nC]2  
3.4轴对称元件的设计和制造 {o 2 qY|S  
3.5结论 k'k}/Hxub  
参考文献 8*x=Fm,Ok  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 jFJ}sX9]  
4.1概述 R}cNhZC  
4.2电子束光刻术 }Z{FPW.QK  
4.2.1电子束光刻术发展史 8\^A;5  
4.2.2电子束光刻系统 !/!ga)Y  
4.2.3电子束光刻技术 rwVp}H G  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 }i,r{Y]s]  
4.3.1回顾 c#>(8#'.U  
4.3.2硅 22=sh;y+2  
4.3.3砷化镓 Rk[a|T&  
4.3.4熔凝石英 Uqb]&2  
4.4光学器件加工实例 xQ7U$QF|]  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 pB
#I_?(  
4.4.2熔凝石英微偏振器 -- FzRO{D  
4.4.3砷化镓双折射波片 gnjhy1o  
4.5结论 +'-.c"  
致谢 &^#u=w?^x  
参考文献
'A^q)hpax  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 3z(4axH'  
5.1概述 HFI0\*xn(  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 yi*EobP  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 -fl6M-CYX  
5.3.1纳米压印组件和工艺 ZZ!">AN`^  
5.3.2纳米压印设备 Eh ";irE  
5.4商业化器件的应用 }{VOyPG  
5.4.1通信用近红外偏振器 D4,>g )B  
5.4.2投影显示用可见光偏振器
yk)]aqic  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） `:;q4zij;  
5.4.4高亮度发光二极管 o.Rv<a5.L  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 &e@)yVLL  
5.4.6多层集成光学元件 AB`.K{h  
5.4.7分子电子学存储器 Qj;{Z*l%+  
5.4.8光学和磁数据存储 ,aLwOmO  
5.5结论 J-Tiwl  
致谢 1kKfFpN  
参考文献 
_1&Ar4:  
第6章平面光子晶体的设计和制造 xE w\'tH  
6.1概述 4|E^ #C  
6.2光子晶体学基础知识
-PAEJn5$O  
6.2.1晶体学术语 C[G+SA1&W  
6.2.2晶格类型 CDRbYO  
6.2.3计算方法 >>,G3/Zd*  
6.3原型平面光子晶体 GaG>0x  
6.3.1电子束光刻工艺 4minzrKM\  
6.3.2普通硅刻蚀技术 8Z
VQM7O  
6.3.3时间复用刻蚀 * l1*zaE  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 (X,i,qK/  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 j}eb _K+I  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 m]!hP^^  
6.4.2负折射 >e>3:~&2  
6.5未来应用前景 G:":CX"O(  
参考文献 NFZ(*v1U  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 [i/!o
vcY  
7.1对称性、拓扑性和PBG 0^gY4qx[u  
7.2金属光子晶体 ur\6~'l4  
7.3金属结构的可加工性 nYjrEy)Q  
7.4三维光子晶体的制造 #%\0][Xf  
7.5胶体模板法 5tQz!M  
7.6微光刻工艺 BZ?Ck[E]Z  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 #mw!_]  
7.8膜层应力 oNyYx6q:Q  
7.9对准 hOUH1m.  
7.10表面粗糙度 eMC^ORdY  
7.11侧壁轮廓 31a,i2Q4  
7.12释放刻蚀 fw jo?  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 L^ J|cgmNw  
7.14结论 dA~:L`A|X  
致谢 ]=qauf>3  
参考文献