微光学和纳米光学制造技术

《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》详细介绍了微光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术、纳米压印光刻技术和器件应用、平面光子晶体的设计和制造、三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法。 2mI=V.X[&  
《国际信息工程先进技术译丛:微光学和纳米光学制造技术》参编作者都是微纳米光学制造技术领域的专家，代表了当今微光学加工的领先水平。可供光电子领域从事光学仪器设计、光学设计和光机结构设计（尤其是从事光学成像理论、微纳米光学研究）的工程师使用，也可以作为大专院校相关专业本科生、研究生和教师的参考书。 T*z >
A  
A|jaWZM-  
"=HCP,  
定价：￥ 66.00 
4"0`J  
优惠价格：￥ 49.50 可以享受免费送货，货到付款。
!\CoJ.5=  
JVU:`
BH  
!J.qH%S5  
U$qSMkj6RK  
本帖为实体书购买信息推荐，暂无电子文档！ 0F)Y[{h<  
;g*ab
 
目录 1S<V,9(  
译者序 T0
v;8Ee  
前言 JhIgqW2  
第1章面浮雕衍射光学元件 oC"c%e8  
1.1制造方法 F.K7w  
1.2周期和波长比 uEH&]M>d_  
1.3光栅形状 !|hv49!H  
1.4深度优化 2BEF8o]Np  
1.5错位失对准 4$@)yZ  
1.6边缘圆形化 ]k5l]JB  
1.7几何形状偏离引起形状双折射光栅相位响应的变化 Ydh]EO0'  
1.8表面纹理结构 @MS;qoc  
1.9熔凝石英表面的纹理结构 nUD)G<v
 
1.10太阳电池的表面纹理结构 g*TAaUs|n  
1.11 8阶熔凝石英DOE样片的制造方法 Av]<[ F/  
1.12成形金属基准层的制造工艺 L+bU~N,+A  
1.13转印成形和第一层掩模板的刻蚀 t(}\D]mj  
1.14转印成形和第二层掩模板的刻蚀 1W;q(#q  
1.15转印成形和第三层掩模板的刻蚀 # KK>D?.:  
致谢 =.f]OWehu.  
参考文献 (pNA8i%=G  
第2章微光学等离子体刻蚀加工技术 5Jlz$]f  
2.1概述和回顾 F`r=M%yh  
2.2基本的刻蚀处理技术 Ns?y) G>:  
2.3玻璃类材料的刻蚀工艺 Tt<Ry'Z$3  
2.4硅材料微光学结构的刻蚀 ({87311%  
2.5具有灰度微光学结构的Ⅲ-V族材料的刻蚀工艺 G
BV]7.  
2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蚀微光学元件 T]Pp\6ff  
2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和宽光谱ZnS的刻蚀工艺 +eg$Z]Lht  
2.7.1 ZnSe和ZnS光学元件的应用 HI*xk  
2.8红外刻蚀材料——红外玻璃IG6 XO
AZ  
2.8.1 IG6玻璃刻蚀工艺 KFvNsqd  
2.9非反应光学材料刻蚀微光学元件的工艺 xQT`sK+  
2.9.1高斯光束均质器和MLA的灰度加工技术 TU&gj1  
致谢 AtGk _tpVZ  
参考文献 @.6l^"L  
第3章使用相位光栅掩模板的模拟光刻术 B0T[[%~3M  
3.1概述 [/.o>R#J(  
3.2相位掩模技术 -Xb]=Yf-  
3.3光学元件的设计和制造 hlWTsi4N  
3.3.1光致抗蚀剂的性质 wz3BtCx  
3.3.2相位掩模的设计 p(fYpD  
3.3.3微光学光致抗蚀剂处理工艺 ?KDI'>"-v  
3.4轴对称元件的设计和制造 F 0q#.   
3.5结论 x|&A^hQ  
参考文献 l:5x*QSX  
第4章光学器件的电子束纳米光刻制造技术 3iMh)YH5b  
4.1概述 +}@1X&v:  
4.2电子束光刻术 L}7c{6!F7  
4.2.1电子束光刻术发展史 5B)Z@-x2  
4.2.2电子束光刻系统 Ze[ezu  
4.2.3电子束光刻技术 c;
C:$B7  
4.3特殊材料光学器件的纳米制造技术 : z*OAl"  
4.3.1回顾 4IuQQ  
4.3.2硅 HdQd =q(  
4.3.3砷化镓 qc;9{$?xV  
4.3.4熔凝石英 Y;JV9{j  
4.4光学器件加工实例 8pp^ w  
4.4.1熔凝石英自电光效应器件 Q5b~5a  
4.4.2熔凝石英微偏振器
;& ny< gQ  
4.4.3砷化镓双折射波片 3C{3"bP  
4.5结论 wyvrNru<l4  
致谢 H
48`z'o  
参考文献 ]U.1z  
第5章纳米压印光刻技术和器件应用 h)2W}p{a4=  
5.1概述 &>y[5#qOl  
5.2压印图形化和压印光刻术的发展史 bR"
hl? &c  
5.3纳米压印光刻术的相关概念 U`Bw2Vdk]S  
5.3.1纳米压印组件和工艺 Rl@k~;VV  
5.3.2纳米压印设备 ]c%yib  
5.4商业化器件的应用 ]"Z*Hq z  
5.4.1通信用近红外偏振器 (lBgW
z  
5.4.2投影显示用可见光偏振器 AdMA|!|:hc  
5.4.3光学读取装置的光学波片（CD\DVD） g(){wCI  
5.4.4高亮度发光二极管 oju)8
H1o#  
5.4.5微光学（微透镜阵列）和衍射光学元件 Yz4)Q1  
5.4.6多层集成光学元件 uH1%diL^  
5.4.7分子电子学存储器 #Ux*":  
5.4.8光学和磁数据存储 !.9pV.~  
5.5结论 c]3% wL  
致谢 DdJ>1504  
参考文献 X=$WsfN.h  
第6章平面光子晶体的设计和制造 2~<N  
6.1概述 /
cM<  
6.2光子晶体学基础知识 *;b.x"  
6.2.1晶体学术语 xrb %-vT  
6.2.2晶格类型 8G@Ie
 
6.2.3计算方法 ;T6{J[ h  
6.3原型平面光子晶体 "|<6bA  
6.3.1电子束光刻工艺 A<-Prvryt  
6.3.2普通硅刻蚀技术 7 $AEh+f  
6.3.3时间复用刻蚀 M| r6"~i  
6.3.4先进的硅微成形刻蚀工艺 1haNca_6,  
6.4基于色散特性的平面光子晶体 mqxgrb7  
6.4.1平面光子晶体结构中的色散波导 {v{qPYNyh  
6.4.2负折射 bV|(V>  
6.5未来应用前景 ]*b}^PQM^  
参考文献 /Xa_Xg7  
第7章三维（3D）光子晶体的制造——钨成型法 e`gOc*  
7.1对称性、拓扑性和PBG S ykblP37  
7.2金属光子晶体 =D88jkQe"  
7.3金属结构的可加工性 rz/^_dV  
7.4三维光子晶体的制造 a|aRUxa0"  
7.5胶体模板法 R1$O)A}k  
7.6微光刻工艺 F-K=Otj  
7.7利用“模压”技术制造光子晶体 :6R0=oz  
7.8膜层应力 2ZHeOKJ-  
7.9对准 ia=eFWt.  
7.10表面粗糙度 %g1{nGah  
7.11侧壁轮廓 AL*P2\8  
7.12释放刻蚀 JBX#U@k>I  
7.13测量方法、测试工具和失效模式 FnkB z5D  
7.14结论 0a<:.}  
致谢 $@]tTz;b  
参考文献