第六届国际光学薄膜技术及应用研讨会

在现在光学技术领域，光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术。随着高精尖光学系统和光学技术的飞速发展，对光学薄膜提出了更为苛刻的要求。推动我国高性能光学薄膜技术的发展，建立国内光学薄膜技术交流平台，促进我国光学薄膜技术的发展和产业化具有非常重要的意义。 Wyb+K)Tg  
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会议主题： $/Llzpvny  
　　1、世界著名光学薄膜研究所德国夫琅禾费研究所光学薄膜资深专家来华公开讲座，介绍国际最先进光学薄膜制造技术和理念，面对面聆听大师的声音。 QF$s([  
　　2、国内专家探讨我国的高端需求光学薄膜的研究进展。 |zy` ]p9  
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会议特色介绍： <#
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　　1、与会者将系统性的聆听世界专家的技术讲座，面对面接收世界著名专家的指点，答疑解惑，快速提升。  wKbU}29c  
　　2、会议紧跟“十二五”热点，邀请国内专家深入探讨我国的高端特种需求光学薄膜的研究进展。 `F_R J.g*p  
　　国外专家讲座介绍（国外最尖端技术，最新的理念）： Dp?lg
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　　德国夫琅禾费研究所光学薄膜部主任Norbert Kaiser教授 h~ehZJys  
　　讲座题目：Physics and Technology of Oltical Thin Film Deposition ah#jvp  
　　德国夫琅禾费研究所光学镀膜部门经理Ulrike schulz 教授 tSVS ogGd  
　　讲座题目：Plastics Optics - Coatings and Antireflective structures r(g#3i4Q  
　　国内专家报告介绍： !fJy7Y  
　　结合国外先进的镀膜和检测技术，紧跟“十二五”热点，深入探讨我国的产业化应用，特别是对我国的高端特种需求光学薄膜的研究进展进行探讨如下： X:QRy9]  
　　1、SiO2薄膜特性研究新进展——季一勤 研究员（天津津航技术物理研究所） r>6FJ:Tx  
　　2、高反射镜的激光诱导损伤研究——王占山 教  授（同济大学） s6Il3Kf  
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　　4、193nm薄膜研究进展——高劲松 研究员（中国科学院长春光机所） jEL"Q?#  
　　5、薄膜损伤和预处理技术及进展——杨李茗 研究员 （中物院激光聚变研究中心） HcGbe37Xq