ZEMAX光学系统设计高级培训班北京6月25日-28日

发布：optotek_gk 2012-05-10 17:19 阅读：6417

南京光科信息技术有限公司光学系统设计高级培训课程
培训地点：北京理工大学
培训时间：2012年6月25日-6月28日共4天
课程费用：￥4500元课程编号：ZEMAX AD

课程内容：ZEMAX高级优化激光物理光学POP ZEMAX加工公差分析 ZPL宏语言编写 DLL动态链接库自定义面型 ZPL光纤公差分析

培训关键词：光学设计高级培训 ZEMAX软件光学软件公差分析 ZPL宏语言 ZEMAX自定义面型光科独创核心技术

课程特色及对象：

高级课程内容，针对具有一定经验的光学设计及ZEMAX光学工程师
主要针对企业中的ZEMAX软件使用的高级工程师
深入讲解光学镜头ZEMAX优化技术及技巧，详细讲解ZEMAX计算光学镜头的加工工艺及公差分析
ZPL宏语言编写，分享及深入剖析多个光科OPTOTEK独创ZPL扩展的ZEMAX功能

报名电话： 025-84305866 陈小姐

0\V)DV.i 上课时间	第一天	第二天	第三天	第四天
&ET$ca`j# 9:00-10:30	Pn l}<i ZEMAX的优化方法 10xza=a 优化及评价函数的使用 >[;L. ZEMAX全局搜索建立初始结构	/D964VR1M\ ZEMAX物理光学传播POP I&`aGnr^^ 激光二极管在ZEMAX中的设置 4s@Tn>%SP LD参数针对ZEMAX的转换	A0OA7m:~4 ZEMAX的高级公差 bd H+M?k 用户自定义公差 }X. Fm'` 根据制造商编写公差数据	%/ "yt}"\| ZEMAX的高级编程 x_CY`Y ZPL自定义求解类型 *5{1.7 ZPL语言实现自定义公差分析
%y7ZcH' 10:30-10:45	课间休息	课间休息	课间休息	课间休息
8Ltl32JSB[ 10:45-12:00	8`6G_:&X 典型成像镜头的优化设计 5H1N]v+ ZEMAX 几何及衍射光学分析 *qu5o5Q 台阶式二元光学衍射面的优化	&xZSM, ZEMAX高级案例 j+e~ tCcN/ ZEMAX设计CD、DVD读写头 U8-OQ:2. DVD读写头装配及产线测量工艺	=zu;npM ZEMAX的高级公差 P- +]4\ ZEMAX敏感度分析加工指导 H>},{ z 光学镜头的公差优化	-9;?k{{[T ZEMAX 扩展程序的编写 97~>gFU77# ZEMAX中编写C语言程序 O<#8R\v 使用VC++编写ZEMAX程序
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R$66F>Jz^ 15:30-15:45	课间休息	课间休息	课间休息	课间休息
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