RT 对一个相对复杂的系统（用TracePro4.16的expert版，包含双折射晶体、自定义光栅、还有较多的螺纹）杂散光分析时，用的simulation模式，可是还是出现如下问题 X?6h>%) k
首先是runtime error N4To#Q1w
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另外还有 | sFe:TX
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请问此问题何解啊何解？？？头疼啊，已经用simulation模式了，光线阈值又不能设太低，要不然像面根本就没有杂散光光线，重点采样也初步设了点， {F :v$ K
这个，是不是软件版本问题啊，感觉这个版本有点不稳定…… 可是又找不到更高的可用版本，求推荐版本啊 Z)
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这里还有一个重要的问题是光栅的问题……这个比较复杂，这里也说不清楚……额，我怎么这么多问题，头都大了，希望各位帮忙啦，谢谢各位神奇的斑竹啦
