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    [论文]衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究.PDF [复制链接]

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    离线200713
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2011-05-09
    衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究摘要: 根据灰度掩模的制作理论, 提 出了由PP8000胶片输出仪、 远心成像透镜组、 平行准直He-Cd激光器构成的精缩投影曝光灰度掩模制作系统。 通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率,经一次光刻后得到所需的衍射光学元件。该系统不仅可采用黑白胶片制作高分辨率灰度掩模板, 还可根据彩色灰度等效理论,利用彩 色等效胶片实现256灰度级的扩展细分,以进一步提高灰度 IOHWb&N6  
    掩模板制作的分辨率。对于 1 6台阶灰度掩模,其分辨率可以从0~255扩展到0~1280灰度级。利用该系统给出了二元光栅精缩后的感光图片。 U][E`[m#  
       M6-uTmN:d  
    关键词:衍射光学元件;灰度掩模;激光曝光;激光光刻系统
    附件: 衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究.rar (551 K) 下载次数:15 ,售价:2光币[记录]
     
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    离线chengzheng
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    只看该作者 1楼 发表于: 2014-04-30
    感谢楼主    
    离线yyyyrro
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    只看该作者 2楼 发表于: 2014-09-25
    希望有帮助,谢谢
    离线ecnadwodahs
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    只看该作者 3楼 发表于: 2015-12-24
    更关心设计,mark