第四届国际光电子探测与成像技术学术交流会
第四届国际光电子探测与成像技术学术交流会(SPIE)大会将在于2011月5月24~26日在北京国家会议中心隆重举行,会议规模将达1500余人。为进一步加强产、学、研相结合,在会议同期将举办“2011第三届中国(北京)国际光电展览会”。展会将与国际光学工程学会(SPIE)和法国国际商务展会公司(BCI)两家享誉全球的顶级机构共同组建国际参展商团队,汇聚国内外众多光电行业知名企业,引入全球最新技术与产品。
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第四届国际光电子探测与成像技术学术交流会(SPIE)大会将在于2011月5月24~26日在北京国家会议中心隆重举行,会议规模将达1500余人。为进一步加强产、学、研相结合,在会议同期将举办“2011第三届中国(北京)国际光电展览会”。展会将与国际光学工程学会(SPIE)和法国国际商务展会公司(BCI)两家享誉全球的顶级机构共同组建国际参展商团队,汇聚国内外众多光电行业知名企业,引入全球最新技术与产品。
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