4.8版本 x?0ZzB),
VirtualLabTM 4.8(2010年6月发布)提供了以下增强功能: \vVGfG?6
光栅模拟 d^"<Tz!
- 可以定义2D通用光栅。利用堆栈技术,其结构的周期性可通过一系列光学接口进行定义,这些接口包括光栅、圆锥、非球面、采样和可编程等类型。另外,堆栈可以在基块的两边进行累加。因此,对光栅的定义具有很强的灵活性。到目前为止,这些接口只能在Z轴方向进行分列。 ;6g &_6
- 支持高级的多核计算,而且可以并行操作,使单个模拟的速度得以较大提升。 ,}i`1E 1=
- 可以模拟更长的周期(约1900*wavelength in 2D, (37*wavelength)2 in 3D),以及更高的阶数(约5800 in 2D, (75*75) in 3D)。 rmj?jBKQU
- 光栅分析仪中的场分析可用于非垂直入射。 3+gp_7L
- 近场传播考虑了吸收系数。 &h.E
B
- 光栅的反射通道接收大于0的距离。 KS($S(Fi
- 光栅工具箱里提供了启动/停止光路连接的功能。 &u-H/CU%
光学元件的建模 okx~F9
- 像素化和量化可应用于任何光学接口,这种功能可以模拟出现在生产过程之后的光学接口。对于量化的接口,应使用副基底几何光学传播模式。 2)DrZI
- 引入了光学接口的比例因子,这特别适合关于像素化和量化的误差分析。 " >QNiR!
参数运行 JTw\5j
- 像素化和量化可应用于任何光学接口,这种功能可以模拟出现在生产过程之后的光学接口。对于量化的接口,应使用副基底几何光学传播模式。 KUG\C\z6=
- 在Virtuallab中,Parameter RUN的高级功能可以使用多核处理器来提高运算速度 Ti`H?9t
-对于此版本中的Parameter run来说,现在可以得到更多的光学结构参数。这些优势适用于在光学界面序列和双界面部件中的参数配置 =p 9d4smbn
- 单色光源重量在参数运行可用的。 !BD+H/A.{
编程 md_9bq/w
- 此版本的片段和模块编辑已有所改善,并添加了突出的源代码。 @#q>(Ox%
- 试用版本允许加载和模拟应用场景,包括片段(可编程组件)。 ]+O];*T
衍射光学元件设计 ^J3\
U{B
- 衍射光学元件(扩散器,光束分离器)设计的会议编辑可以自动设置的实验光圈的大小。 bq5tEn
试用版本 &?\ h[3
- 试用版启动没有管理权限的限制。 #wH<W5gSZ
- 试用版本允许加载和模拟应用场景,其中包括可编程元件。 {8Jr.&Y2
处理 &]gw[
`
- 现在用户可以从媒体或用户定义的材料目录中提取任何材料。 7(<6+q2~
- 材料学角度说明了事情所处的状态。 *k:Sg*neVq
- 由一维图可以分别知道它们的最低和最高值, G*_$[| H
其它 \M>}-j`v
- 利用LZOS主页上的数据,LZOS玻璃的一些数据能得到纠正。 tmF->~|
- 在“'旋转模式”下使用时,光线追踪仪可能需要更多的时间进行初始化。 uop|8n1
4.7版本 X(F2 5
VirtualLabTM 4.7(2010年3月发布)提供了以下增强功能 ` z<k7ig
光线跟踪分析仪 ]J\tosTi
- 光线亮度根据输入面的强度进行调整(类似光线视图)。 wjGD[~mB
- 接近1光圈的射线可以随意移动(默认设置)以使他们接触到光圈。此外,小强度的光线可以通过用户定义的阈值而被禁用。 W)^0~[`i
光栅模拟 eC:?j`H-
- 场内部光栅分析仪现在适用于非直射。 :d7Ju.*J
- 现在近场传播考虑到了吸收系数。 1*aw~nY0
- 光栅反射通道接受大于零的距离。 Rckqr7q
参数运行 F;l*@y Tq
- 如果同时有多个参数时,在工具提示栏显示目前运行参数相应的值。 8KKI.i8`
- 运行的参数设置为“可编程”的副本,局部参数和已经打开的全局运行参数亦如此。 5/-{.g
- 大参数运行可再次保存到硬盘(4.6版本中的故障)。 4:Adn?"
目录 "*O(3L.c-
- 菲涅尔和圆柱菲涅尔接口,光栅接口和多种组合接口在接口目录中现已可以作为模板实用。 AL%H$ I
- 现在标准空气、埃德伦公式用来描述色散,它取代采样数据。 Pl4$`Qw#y
编程 ~ow_&ftlo
- 源代码编辑器内片断的一致性检查显示有关行的详细信息,其中的片段定义是无效的和错误信息。 MM8r*T4g/
-片断全局参数的进出口的数组得到改进。 AW;"` ].
处理 1Ao YG_
- 均匀介质的处理在对话框中是一致的,如光接口序列的对话框。 W$=MuF7R
- 光路视图中的选择元件被用来作为LPD工具的的初始配置。 #w3cImgp2
- 多选择可以启用光路元件的进口。 YK Nz[x$|
- 多选择可以启用目录中旧材料和涂料的进口。 <
&[=,R0 @
- 非球面或多项式系数以及梯度折射率介质界面使用毫米代替米作为基本单位。也就是说,目录值的使用被简化了。 Q C?*O?~#
- 虚拟屏幕现在允许显示极化,包括椭圆极化。 ;E0Xn-o_
- 现在您可以在图表中计算最低位、最高位置和半高宽 yD6lzuk{X
- 大多数表格允许使用上下文菜单将其项目复制到剪贴板。某些表也支持了从剪切板进 行粘贴(非球面接口,圆柱接口,菲涅尔接口,圆柱菲涅尔接口,多项式接口,梯度折射率介质,泽尼克赛德尔像差)。 5!Y51R^c
- 平面波场允许所有项目复制到Windows剪贴板。 ydFZ$W_}w
版本4.6.1 N<V,5
VirtualLabTM 4.6.1(2010年2月发布)没有附加功能服务。非球面界面对话框的形式得 B\BxF6 y
到了改善。 Ym~*5|
版本4.6 I9GRSm;0<
VirtualLabTM 4.6(2010年1月发布)提供了以下增强功能, 5(kRFb'31F
三维光栅模拟的引进 hawE2k0p(
- 三维指数调制光栅的电磁分析已经启用。在版本4.6,指数调制可以由一个支柱介质所描述,其可以用来模拟,例如人工媒体。 |U}al[
版本4.5.1 / 0Z_$Q&e
VirtualLabTM 4.5.1(2009年12月发布)没有附加功能服务。可编程接口的性能得到了 FFGG6r
改进。 4OLq
版本4.5 qE73M5L&
VirtualLabTM 4.5(2009年12月发布)提供了以下增强功能 H2oAek(
•部分相干光模拟 ][R#Q;y<
- 部分准均相源的相干光可以由谐波领域的设置展示(模式)。利用相干函数为了模型光分布,定制模式是必需的。增加了一个可编程的模式平面源,其允许通过小代码段进行定制模式的规范化。 3(|8gWQ
- 平面源在VirtualLabTM中用于部分相干光模拟。版本4.5允许每个平面源定义一个定制的全局极化。 `* !t<?$i
•具有指数调制的光学元件的建模 alM
^
X
- LightTrans添加了指数调制光学元件的建模。这些组件包括两个自由曲面和一个指数调制,并可以使用新的双界面组件实现。 %j9'HtjEa
- 双界面的组件允许自聚焦透镜作为示范,定制指数模拟元件以及检测光学元件基板内部缺陷。 k[3J5 4`g1
- 可编程介质允许通过代码片段进行三维折射率调制的规范化。 VY }?Nb<&
- XY-指数调制板由双界面组件取代。当利用XY-指数调制板加载旧光路文件时,转换自动完成。 "Xq.b"N{*
•衍射和折射自由曲面 h?H:r <
- 一个多项式、一个采样和可编程接口已被添加,以模型化衍射和折射自由曲面。该接口可用于双界面、单光接口和光接口序列元件。 I6}ineps
- 采样接口允许通过高度离散数据点进行定制的自由曲面的规范化,同时可编程接口可以由代码段规范化。 ooa>~!91P
- 非球面界面组件序列被更名为光接口序列。 Q)oO*CnM!-
•衍射和微观结构光学元件的建模 FbRq h|
- 衍射和微结构光学元件,例如衍射光学元件,相位板,微透镜阵列,衍射透镜,菲涅尔透镜,混合镜头,可以通过双界面组件模型化。 {1
fva^O
- 表面轮廓可以使用新的编程和采样接口模型化。 T@c{5a
•超短脉冲模拟: Z6G>j
- 作为起动工具箱的一部分,我们在4.5版介绍了超短脉冲模拟。 p]z
*
- 利用高斯脉冲的频谱、脉冲传播和减少取样的光学路径长度分析仪的脉冲生成也包括在内。 '{9nQDgT
- 时域和频域的傅里叶变换提供脉冲。 4f+R}Ee7
- 光学路径长度分析仪可用于评估 活动源和用户定义的光路图的元件之间的光学路径长度。它也可以指定是否计算绝对相位。可以进行观察三种不同的线性相位。 }r`m(z$z
•激光谐振器分析: (9bFIvMc
- 本征模式分析仪用于计算本征(包括基本和高级模式)和谐振器特征值设置。福克斯力及阿诺尔迪算法都可使用。 5[\mwUA
- 谐振编辑器允许通过LASCAD输入谐振器系统。 rap`[O|l=
- 存储镜像功能可用于模拟微反射镜结构作为谐振器的一部分,利用存储功能定制的孔径也是可用的。 zX+NhTTB
- 运行参数可用于谐振器的公差分析。 G[7Z5)2B
- 外耦合模式可以计算和模拟外部光学系统。 <C0~7]XO
•传播: 9\F:<Bf$#
- 分步传播(基于基底层光束传播方法)被用于指数调制媒体的模拟。 Qp9)Rc5
-副基底层几何光学操作已被添加并且提供双界面组件和激光谐振器工具箱。在起动工具箱中的其他组成部分即将发布。这是一个由几何光学操作者提供的性能优化的模式版本(AI,AII)。 EN^C'n
•目录: l_
/q/8-l
- VirtualLab为工作目录实现一个新概念。材料和涂料的现有目录被调整,增加了光接口和光介质的新目录,更多信息可在手册中找到。 t)Q6A@$:
- 涂层处理是VirtualLab目录管理的主要部分。此外,它现在更容易通过自动复制层序列制造高反射涂层。 ^^MVd@,i
- 材料了解它们的所处的状态。
[0v`E5
- 如果涂层被添加到一个光纤接口,则基材被自动确定。 P9j[
NEV
有关设计的改进: 0'ha!4h3Z
- 结构设计提供了一个生成光路图的选项,其中光路图具有双界面组件包含指定的实验结构。 gc|?$aE
有关光栅模拟的改进: eq)8V x0
- 光栅效率分析仪显示总效率和吸收率。 u*#j;Xc
- 新的内场光栅分析仪允许计算内场光栅。 P[NAO>&t