以下是自从Macleod 9.0初始版本到现在的所有更新。 z$Z{ LR
GZzBATx
核心: RfQ*`^D
;!pSYcT,
错误提示工具现在能计算每一个微扰设计所生成的颜色特性。这些颜色参数可以保存为文件。 S1U>Q~ZPA
-jk-ve
颜色图现在有一个动态作图按钮。当设计效果改变时,颜色图将为改变的地方打上色彩补丁。 dM)x|b3z
BI6]{ ZC"
逆向工程材料数据外推现在只会警告一次。 ^SWV!rrg
@TvDxY1)6Z
新增下列材料到材料库:VO2到agile 库, ATO, AZO 和GaN到dielectrics库。 )R6-]TkA_
=-E%vnU
2009 九月版的Schott和Sumita 玻璃数据库已经被添加材料库。 XCj8QM.o
iyTKy+3A
设计的作图窗口现在在重新作图时将保持大小和位置不变。之前的作图窗口在重新打开时只会保持默认的大小和位置。 9o+e3TXp#
,;)_$%bHc
在逆向工程中, 有时候校准会过早结束.。一个额外的终止测试已经被添加进来以改进校准的结束位置。 E-v^eMWX
`=P=i>,
现在可以在设计编辑器中指定每一层薄膜的最小堆积密度和最大堆积密度范围。注意到这些范围只在Simplex Refinement中有效。 -9;XNp
E~
+g6YlT
设计编辑器的锁定列现在能锁定堆积密度和锁定厚度.点击锁定单元格将按顺序在4个锁定状态中改变:不锁定, 锁定厚度, 锁定堆积密度, 同时锁定厚度和堆积密度。使用Lock/Link菜单中的锁定指令, 将使薄膜层的锁定状态在三种可能锁定状态中循环。 ]o($No
=^mBj?(V7
Simplex refinement参数对话框中的整体几何厚度范围和堆积密度范围已经被移出。这些范围现在可以在设计窗口的编辑菜单全局编辑指令中轻松设定,可对何一层进行设定。请注意物理厚度范围和光学厚度范围都是可以指定的。有一个几何厚度范围不能被直接指定。 8;$zD]{D1
1 Szv4
选项“Change Thicknesses to Match Angle”已经被添加到Match Angle窗口中. 之前当用户要设置匹配角时, 所有非金属薄膜层总是会自动调整到适应新的匹配角。当勾选Change Thickness to Match Angle 后(默认状态),膜层厚度将被自动调整.若不勾选此项, 将会保存匹配角,但不改变现有膜层厚度. )7 M
1T0s
UIY
功能 ~S~4pK
报告功能现在能让脚本生成一个文本, 列表或者线图.更多信息详见脚本语言帮助—>执行脚本—>脚本报告。 mGh8/Xt
1eOQ;#OV
脚本现在能执行一个迭代器以用于报告。更多信息详见脚本语言帮助—>执行脚本—> Report ForEachScript。 ]N{jF$
eOZ"kw"uHu
作图器现在可用于创建柱状图。方法见脚本语言帮助à对象引用à作图器下的初始化柱状图和添加柱状列。 -+fW/Uo
'.*`PN5mDq
逆向工程现在能在脚本中使用一个已定义材料模型。例如,现在你能指定一个材料让它生成柯西(Cauchy)分布或其他分布。然后逆向工程会在校正过程中优化模型参数。一旦逆向工程运算完成,将从模型中生成一个常规材料。见例6: 更多信息详见脚本语言帮助à模拟器脚本à材料模型。 TT^L)d
&0RKNpwg
指令上移模块和下移模块已经被添加到脚本编辑器中的编辑菜单。它们用于让模块正确排序,例如:A模块引用了B模块中的一个定义,但是B模块在列表中位置低于A模块。 ypWhH
qnJs,"sn
新增脚本“AbsorptionCoefficient.bas”。它将运算和显示所选基底的吸收系数。这个脚本一开始时并不在脚本管理器的脚本列表中。要添加它到列表中, 从工具菜单中选择脚本并点击添加按钮。选择AbsorptionCoefficient.bas 文件并打开。此时脚本就会出现在列表最底下。