目录
序一
序二
前言
第8篇 光学零件制造工艺
第1章 光学薄膜技术
1.1 光学薄膜的制备技术
1.1.1 物理气相沉积技术
1.1.2化学气相沉积技术
1.1.3 光学薄膜制备中的监控技术
1.2 不同应用领域的光学薄膜
1.2.1 激光薄膜
1.2.2 光通信用光学薄膜
1.2.3 超快薄膜
1.2.4视光学薄膜
1.2.5 极紫外和软X射线薄膜
1.2.6 紫外下变频膜
1.3 光学薄膜的现代检测技术
1.3.1 光谱
1.3.2 弱吸收测量
1.3.3 激光损伤阈值测试技术
1.3.4 应力
参考文献
第2章 非球面加工工艺
2.1 非球面概述
2.2 非球面加工方法
2.2.1 传统的研磨抛光技术
2.2.2 非球面数控磨(车)削技术
2.2.3 非球面数控研抛技术
2.2.4 应力抛光盘研抛技术
2.2.5 磁流变抛光技术
2.2.6 液体喷射抛光技术
2.2.7 离子束抛光技术
2.2.8 等离子体辅助抛光及其衍生技术
2.2.9 应力变形法
2.2.10 光学玻璃非球面透镜模压成形技术
2.2.11 光学塑料非球面注射成形技术
2.2.12 非球面真空镀膜法
2.2.13 非球面复制成形技术
2.3 非球面加工工艺编制
2.3.1 主要工艺参数计算
2.3.2粗加工参数确定
2.3.3 加工工艺流程及非球面成形方
2.3.4 实例
2.4 非球面检测
2.4.1 概述
2.4.2 轮廓测量法
2.4.3 样板法
2.4.4 星点法、分辨率法
2.4.5 刀口阴影法
2.4.6 哈特曼法
2.4.7 干涉法
参考文献
第3章 晶体加工工艺
3.1 晶体基础知识
3.1.1 晶体的定义
3.1.2 结点、行列与面网
3.1.3 晶胞和晶系
3.1.4 晶面和晶面指数
3.1.5 解理和硬度
3.2 晶体加工前的品质鉴定
3.3 晶体的定向
3.3.1 定向的意义
3 3.2 定向的方法
3.4 晶体的切割
3.4.1 外圆切割
3.4.2 内圆切割
3.4.3 水线切割
3.4.4 劈裂法切割
3.4.5 超声切割
3.4.6 其他切割方法简介
3.5 晶体的研磨
3.5.1 机械研磨
3.5.2 化学研磨
3.6 晶体的抛光
3.6.1 工艺特点
3.6.2 抛光剂
3.6.3 抛光模
3.6.4 工艺条件
3.6.5 抛光方法
3.7 晶体加工中的安全防护
3.7.1 毒物的危害与防护
3.7.2 射线的危害与防护
3.8 典型晶体零件加工
3.8.1 红宝石激光棒的加工
3.8.2 Nd:YAG激光棒及板条的加工
3.8.3 潮解晶体加工综述
3.8.4 KDP电光Q开关的加工
3.8.5 碘酸锂倍频器的加工
3.8.6 一水甲酸锂倍频器的加工
3.8.7 冰洲石偏光棱镜的加工
3.8.8 双45度LiNbO3电光Q开关的加工
3.8.9 石英晶体1/4波片和一级红的加工
3.8.10 NaCl窗口元件的加工
3.8.11 单晶ce光学零件的加工
3.8.12 Nd:YLF晶体零件的加工
3.9 晶体加工相关知识
3.9.1 晶体折光液的配制
3.9.2 石英晶体旋向的判定
3.9.3 晶体名称的读法
3.9.4 同种晶体的不同名称
3.9.5 LiNbO3晶轴正负方向的判别
3.9.6 非透明晶体零件平行度的测量
现代光学应用技术手册(王之江,下册)
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cyqdesign 2010-03-17 00:45