[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 0c`zg7|  
Bz_'>6w  
目前要作一個發光表面 pAatv;Ex  
tjFX(;^[  
表面的發光強度由中間最強 e1-tpD:J  
y8s!sO  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 <7Pp98si,u  
L>~Tc  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 :K^J bQ  
強度是高斯分佈沒有錯 T#-;>@a}  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 ^C'0Y.H S  

ujxr/8mjV  
我想要的是 A811VL^  
Qh&Qsyo%  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 K2M=)B  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 ~i;{+j6Ho!  
S
u,:f_If,  
不知道大家能否給我些建議  ^^" PX|@D_%Y=  
?yS1|CF%&y  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ pjFO0h_Y  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 :ZrJL&  
k3#'g'>yh  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 YQ+hQ:4-  
(GSP3KKo*G  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup _VrY7Mz:r  
0*$w(*  
在 Beam Setup 中 c5YPV"X  
\fA{sehdL  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian C ^Y\?2h1  
並且 cSb;a\el$  
Spatial weighting uniform flux/weighted position gF)9a_R%p  
3z+l-QO8  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 isZ5s\  
YT\@fgBt  
但是 ]\78(_o.zz  
|mb2<!ag{  
光線的方向 P\jGySj
  
_;1{feR_  
在 Beam Setup 中 i
od%YjZu  
H71sxek3  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 kka5=u  
]b4WfIu  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 L|=5jn9 :  
f`9Mcli!  
只能選擇一個光線射出的方向向量 wcGK*sWG-  
N^Re  
d!,t_jM0  
所以關於小弟的需求希望 <L&EH@T  
C 0w+ j  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  L44m!%q  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 *%j$i_  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 2xI|G 3U  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 XjX  
7;'33Bm*  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ >L7s[vKn  
t[^$F,  

你真农民啊。 ：） #~u0R>=  
$NXP)Lic)  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 )-C3z  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. "W|A^@r}  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 \8`?ir q"  
jlEz]@ i  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 VtreOJ+  
如果小弟想要產生 je4l3Hl  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 .g*j]!_]  
PnlI {d  
Gr"CHz/  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 |(7}0]BP0  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : U S^% $Z:  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 {q>%Sr]9  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 2D\pt  
Y&2FH/(M  

.#EU@Hc
  
yi7.9/;a  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid h*w9{[L  
Grid pattern 设成 random