[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 xWlj.Tjt}  
Lbk?( TL  
目前要作一個發光表面 f$$l,wo  
r4/G&m[V  
表面的發光強度由中間最強 E>f+E8?  
j#d=V@=a  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 vc
s=!Ace  
GlYNC&,VL  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 \xG>>A%  
強度是高斯分佈沒有錯 t98t&YUpm  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 ei)ljvvmHP  
DdDO.@-Z  
我想要的是
hN*,]Z{  
}eh<F^  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 =#]^H c  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 O@r%G0Jge  
x!GHUz*:uz  
不知道大家能否給我些建議  ^^" o-\ K]  
.&dW?HS  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ eMyh&@7(F  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 IcmTF #{D  
o %GVg  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 a,eR'L<"*-  
sVXIR  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup gbvM2  
KX8$j$yW  
在 Beam Setup 中 25EuVj`zL  
pO]{Y?X:  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian iczJXA+  
並且 i'XW)n  
Spatial weighting uniform flux/weighted position /%qw-v9qPV  
Xn:5pd;?B6  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 [l~Gwaul>  
* AsILK0  
但是 Eo h4#fZ\N  
)|52B;yZx  
光線的方向 &Bn> YFu  
.T!R&#]n  
在 Beam Setup 中 S
^5EG;[  
<HYK9{Q  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 Oe#*-  
j%w}hGW%,  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 =yT3#A~<G  
^wnlZ09J  
只能選擇一個光線射出的方向向量 AQ}(v,DOb  
gc5u@(P"  
sGBm[lplz  
所以關於小弟的需求希望 K!AW8FnHkZ  
+-%&,>R  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  !V%h0OE\  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 RC[mpR;2  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定 V1yY>  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 2il)@&^  
f{i~hVF  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ &-5`Oln  
G 51l_  

你真农民啊。 ：） 9~rrN60Q  
p1BMQ?=($  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 ]J '#KT{  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. a+-X\qN  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 /%9Ge AAs  
HL`=zB%  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 H{d;,KfX  
如果小弟想要產生 Hxr)`i46  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 )%zOq:{\5  
7u=R5  
|T;]%<O3E  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 tPz!C&.=  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : /;9iDjG  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 ~=i<O&nai  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. 3Ued>8Gv  
`R@b`3*%v  

p?e-`xs  
4>}qdR1L4  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid AH'4k(-  
Grid pattern 设成 random