[求助]請問如何設計高斯發光強度分佈的發光源? [复制链接]

小弟剛接觸tracepro三個多月 YK!nV ,  
\\AufAkJ  
目前要作一個發光表面 /)ps_gM  
fWhwI+  
表面的發光強度由中間最強 xgn@1.}G  
aFjcyD  
依高斯分佈的方式讓光強度(或說是光線數量)向周圍減少 1Y6<i8  
|&`NB|  
我是有在裡面找到功能是可以垂直射出表面的光線 <f%JZ4p*  
強度是高斯分佈沒有錯 `*mctjSN  
但是卻是垂直表面的光線, 這一點不符合我的需求 }26?bd@e`  
!(~eeE}|lM  
我想要的是 >p [|U`>{  
2~Z P[wr  
光線方向要像真實光線一樣向任意芳向射出 Eqc&iS~  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 S;sggeP7,  
|6'(yn  
不知道大家能否給我些建議  ^^" 6+u}'mSj8  
X1?7}VO  
先謝謝大家了

不知道用那个表面属性编辑功能是否可以？ bRT1~)  
就是自己定义不同角度的光线能量，我也不是很懂，期盼高人出现！

你是指角度分布是高斯分布吧。这点你要讲清楚。 K>iM6Uv  
4>eY/~odq]  
用GridSource可以设定。很方便的

嗯，Gridsource里面好像有高斯分布！

我有使用 ;Z>u]uK4+  
{l/j?1Dxq  
Define ~> Grid source ~> Beam Setup rXl ~D!  
ueI1O/Mi  
在 Beam Setup 中 PP/EZ^]b  
qyi5j0
)W  
Spatial profile 項目我選擇 Gaussian ;k1\-  
並且 MzUNk`T @  
Spatial weighting uniform flux/weighted position \"r84@<  
)}ygzKEa  
這樣是可以產生高斯分佈的光源沒錯 t!}QG"ma  
2stBW5v3  
但是 Dxp8^VL  
`zf,$67>1  
光線的方向 $ZnLYuGb  
Dsq_}6l{  
在 Beam Setup 中 K>
%}m,  
Tfasry9'8  
Beam Orientation 的 Beam Orientation Method  項目裡 %LI[+#QE  
2AYV9egZ  
都沒有我要的 "光線往前方任意方向射出"  的設定 9Q\CJ9  
3PRg/vD3  
只能選擇一個光線射出的方向向量 o8<0#W@S  
q{4W@Um-  
t<8vgdD  
所以關於小弟的需求希望 RWyDX_z#<  
ZiR },F/  
光線方向要像真實光線一樣向任意方向射出  RP!!6A6:  
且光強度光數量是由中間依高斯分佈向周圍減少 8+}yf.`  
如果可以的話希望還可以根據材料表面形狀做此設定
%63zQFk  
而非如軟體中 Grid Setup 裡只有幾種形狀 7kiZFHV  
q47
>RWMh%  
不知能否有高手提供經驗分享呢？ hA?Flq2QV  
#kGgzO  

你真农民啊。 ：） N@qP}/}8  
seQSDCsvw*  
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 9F~e^v]zp  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. Bqcih$`BVU  

謝謝樓上大大回覆我關於tracepro的文章 wOMrUWB0  
%yyvB5Y^  
不知道小弟有沒有這個榮幸詢問大家 Ym% $!#  
如果小弟想要產生 96(3il
At  
朝四面八方射出的高斯分佈光源 sn!E$ls3O  
RJpRsr  
kA.U2  
應該怎麼設定比較好呢?

唉，好难懂啊 <-h[
I&."  

看得有点懂了好累哦

引用第5楼tb天保于2009-10-13 13:16发表的  : +hcJ!$J7  
你真农民啊。 ：）
Spatial profile 和 angular profile 的区别也不知道。 #!>`$  
你的光源， 把spatial profile 设成 Uniform,  angular profile 设成guassian,  beam orietation 设成 perpendicular to grid. S`& yVzv  
Ym#io]  

*, R ~[g  
_ucixM#  
我猜他要的是spatial profile 设成Guassian，angular profile 设成 Uniform，beam orietation 设成 perpendicular to grid Li+|%a  
Grid pattern 设成 random