预镀层改变光控片的组合导纳,从而改变真正成膜时光量的走势。提高判断准确度。 Vc2`b3"Br
=}*0-\QG
设想, 要求镀 200nm厚 SiO2,折射率 1.44。 o@Oqm> ]SS
1.44*200 = 2 *576/4, 即 用 576nm波长监控时,走两个极值。 ise-O1'
光控片是玻璃或石英时,光量变化幅度很小,光控很难判断。 +0~YP*I`/
如果用 576nm 波长将光控片预镀HLH,H是高折射率材料。 假如H=2.2,那么此时 再镀 SiO2时,它的透过率起伏幅度可以达到 25%。同样走两个极值,但容易判停了。 HhpDR
在只有单一波长监控下,还是很有用的。