光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
fnO>v/&B 6<C|O- 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
vq JjAls nx'D&, VX 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
.q (1 v|u[BmA)*k 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
PzD ekyl 
[E|% <-m[0zg q 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
>FM2T<.; 
aRF}F E,u P>i[X0UnL 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
q'[q] 
?Q%X,!~ \:
5QUL-*t 单击Next_Apply即可。
%oE3q>S$en 
-mK;f$X <C,lHt 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
0_faJjTbP; 
.a`(?pPr, 6Z3L=j 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
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8!(09gW'> -9z!fCu3 单击OK.再Load新建的目标，
=H wlo! 
m<u BRI*I U0X? ~ 1 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
w4e(p 3 
iSg^np (^).$g5Hg 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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