光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
a5z.c_7r +z;xl-*[ 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
@QVAsNW:O aztP`S$h 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
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chOu~| "op1x to 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
FhAuTZk M1Od%nz3 ]n\WCU]0 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
hFj.d]S %!p14c*J H u#la+/
图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
X1#D} T?^AllUZQR
KW^s~j 单击Next_Apply即可。
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Nu*v >sPu*8D40a 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
.l !:|Fd *G>V`||RW p0`Wci 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
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[hx q,$UKg#i ;oWh Tj` 单击OK.再Load新建的目标,
-md2Z0^ Kc dUOjPq97 eey <:n/Z 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
QVn!60[lj /$&~0pk T*-*U/ 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
zrRt0}?xl !ssE >bDa