光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
"/XS3s v"s 1 }q[8q 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
1y 8:tri>N v:T` D 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
kAk,:a;P s9:2aLZ { 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
A8eli=W 
2Nl("e^kJr S(-=I!.G{ 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
^lMnwqx< 
0Rk'sEX, cwC, VYVl 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
i+ cGw 
\M532_w 6k3l/ ~R 单击Next_Apply即可。
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GRV 9s9^ S@"=,Xj M 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
|95/'a* 
ti#sh{t yRi/YR# 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
f"0H9 
O}f( h5!k {4m"S 7O 单击OK.再Load新建的目标，
G =4 y!y 
A0 X 0t E;d 5$ 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
M2EN(Y_k0 
`U1%d7[vY f8^58]wx0 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
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QF;< %QF: 
