光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：设计和优化示例
bD:[r))#e 'wT !X[jF 参数为：500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
O-,0c1ts kb~;s-$O`s 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
I ]H P t#N@0kIX. 设计：同Evaluation过程基本一样，区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target，输入设计目标500-600nm范围的减反膜：
A3s-C+@X 
A V]7 l}- H[ o > "@4 单击New，输入目标名称AR500-600，单击OK.出现目标输入窗口：
U.A: '9K, 
6^VPR p k%Wj+\93 f 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型，本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数，可自己根据经验输入，也可由本软件给出的经验公式算出（点击？输入参数即可）。
C;\R
62' 
n]x%xnt iY;>LJmp 单击Next_Apply即可。
DcRvZ H 
!e?2
x@J ,vcd>"PK 于上表中单击
波长中任意一格，Edit_Grid Generator_Linear，出现
&\m=|S 
FByA4VxB M" s+k 网格生成窗口，输入点1-21时波长为500-600.单击OK.（单击右键Grid Generator_Linear亦可）
( b#4Z 
aQ HB Y o w 单击OK.再Load新建的目标，
JuD&121N* 
Ux-i iH#s vJ9IDc|[ 其它步骤同Evaluation过程一样，Load完基底、层材料和设计后，Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
q(\kCU y! 
xRbtiFk9H sIzy/W0iV 优化：我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化：Synthesis_Refinement。
e5$S2o~JF 
bR'UhPs-8; 
