光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例:设计和优化示例
Djzb#M'm i|<*EXB" 参数为:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
R'{V&H^Z \6N\6=t!A 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
q/[)mr|~ .sLx6J% 设计:同Evaluation过程基本一样,区别在于多加入了设计目标Target的输入.打开Datebase窗口并单击Target,输入设计目标500-600nm范围的减反膜:
2`z+_DA {BJxRH"&6* Qcw/>LaL: 单击New,输入目标名称AR500-600,单击OK.出现目标输入窗口:
N\p3*#M zIL.R#|D= l6O2B/2j 图中Characteristic(s)项可以改变所要考察的参数的类型,本例中选择RA。The number of spectral points项即为表述目标波长500-600nm范围的AR膜所需
光谱点数,可自己根据经验输入,也可由本软件给出的经验公式算出(点击?输入参数即可)。
qP"m819m B!5gD
GVg0)} 单击Next_Apply即可。
8z+ CYeV FnCHbPlb *33Zt+ 于上表中单击
波长中任意一格,Edit_Grid Generator_Linear,出现
6 2LZ}yn_" 5%Q!R% y.>r>o"0 网格生成窗口,输入点1-21时波长为500-600.单击OK.(单击右键Grid Generator_Linear亦可)
^Ab|\5^3 ^ PD a Z6Mh`:7 单击OK.再Load新建的目标,
\dP2xou= 55#H A?cR X<1# )xC 其它步骤同Evaluation过程一样,Load完基底、层材料和设计后,Analysis_T&R&Phase,出现包含设计目标和初始设计的Evaluation图
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H+~rj 8\[6z0+; s^6S {XJ 优化:我们先采用Refinement的方法对初始设计进行优化:Synthesis_Refinement。
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