光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
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d~2 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
jf_xm=n uJ Q#l\t 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
),9^hJ1+@ 7Y `/w$ 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
2!Bjs?K<bv .>4 Zt'gCt Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
\'z&7;px -;5WMX 6 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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H Aq 'CE3
|x\%K 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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"bI'XaSv > /,7j:X 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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T06BrX 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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q J)[2:.G T#ktC0W]h 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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FW](GWp`: TvV_Tz4e 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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5](-(?k}~ 74Fv9 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
du,mbTQib 
dMo456L L'=mDb 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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R 07 7eX X~m* ` UH 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
M1{ru~Z9 
>_R ,^iH" [^o TC; 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
teRK#: .P 
Fj q~^_8 Wq5 Nc 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
]/G~ L 
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rRI" h'Gs$o7#P 保存：Data_Save Design。
