光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
JpZ_cb`<E' FS!9 j8 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
v$+A! eo 5 j\Kej 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
|onLJY7) {:=W)
37U 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
Efo y]6P\ Dm$SW<!l| Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
auqN8_+= ` gF`Sgz 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
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rCsC}2O 6G#[Mc yn 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
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;JgSA&'e BG )zkn$ 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
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-m[ tYp,q kw} E0uY 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
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[ w-Tf& T!Tp:&O- 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
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J`C 2}$
~ s &+`> 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
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LN5BU,4= xi4b;U j 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
e>6W ^ ) 
j?T>S]xOX Hyen n 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
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&;W K=# Mi Kq| 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
7]Hf3]e>/ 
f`K#=_Kq7 VC_F
Cz 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
("{vbs$; 
IP-M)_I -e?n4YO*\ 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
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"5 
qT:`F 2^75 |Q 保存：Data_Save Design。
