光学薄膜设计软件
Optilayer使用实例：评估设计曲线
<sTY<i VR ]y9u5H^ 例:评估一四分之一波片的
光谱特性:
A$3ll| %j ]bP1gV(b- 参数为：QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
#;0F-pt .^xQtnq 层材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
f
= 'AI RF[Uy?e s Evaluation：新建工作目录：File_Problem，出现问题目录(Problem directory),输入目录名称，单击OK.
+[Izz~ _p (M# m BS 打开Datebase窗口并输入基底和层材料：Date_Design(Substrate或Layer Material都可) 出现Datebase窗口：
K-b`KcX 
K%.t%)A_3 gq ~K(Q<O< 单击Substrate或Layer Material可分别输入基底和层材料，基底输入：单击NEW，输入基底名称，
HDi_|{2^ 
S&F[\4w5] BU<Qp$ & 单击OK,再在Re(n)栏输入基底折射率1.52, 再单击OK
]T=o >% 
)i"52! ly`\TnC 然后在Datebase窗口双击GLASS或单击选中GLASS再单击Load。即输入了基底GLASS，可于General Information窗口中查看。
0nPg`@e . 
soO fk!b .U#o N_D 同理，在Datebase窗口单击Layer Material，再输入层材料MGF2(1.38)和ZNS(2.3)。单击Design，再单击New输入设计名称，单击OK出现Design窗口，输入层数12，中心波长500：
Tmk'rOg5 
*|OUd7P:hU ]E|E4K6g 单击OK，再Load该设计。Analysis_T&R&Phase，产生Evaluation图：
$\#wsI( 
/Yj; '\3 ! {F\ \D/ 在图上单击右键，选中Axis出现分析选项窗口
XnKf<|j6k 
F?Fxm* Wa/ FI @kE19 可调节X和Y轴，单击Apply即生效。单击Plots ，
Et'&}NjI 
m~ tv{#Y V#+M lN 在Char栏下把T改为R，单击Apply即可将图输出形式由透过改为反射。如图：
p'kB1)~| 
J;k8 a2$_ [5PQrf~Mo 上图为垂直入射，我们同样可以显示有角度时的图形，Analysis_Options，再单击Plots（或在图形上单击右键再选中Plots）。
a+B3`6 
m'KEN<)s zG 7 y$\A 单击Add，输入角度，颜色。单击Apply。如图：
\;Sl5*kr 
lQL /I[} H on,-< 保存：Data_Save Design。
