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    [讨论]离子源问题的讨论，欢迎达人进入 [复制链接]

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    离线lsnanjing
    实习生
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2008-08-12
    众所周知 ,在薄膜沉积的同时 ,辅助以具有一定能量的定向离子束的轰击 ,可以大大地改善薄膜的性能。 ?3zc=J"t  
    它不仅可以显著增强膜基与膜层间的结合。而且可以起到增加存储密度 ,消除柱状晶 ,提高膜的致密度的作用。 usK*s$ns  
    我在这里想要和大家讨论的是：离子源可以改变膜层的折射率，那么可以不同的能量可以改变它的厚度吗？？？？
     
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    离线syw1984
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    只看该作者 1楼 发表于: 2008-08-23
    这好像不行啊，要厚就是整体的都厚了
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    离线ken_jinyan1
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    只看该作者 2楼 发表于: 2013-06-07
    薄膜的折射率变了，再用TFC设计不就不准了吗
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    离线yangyangyang
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    只看该作者 3楼 发表于: 2014-06-25
    不可以改变厚度
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    离线gaofei5588
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    只看该作者 4楼 发表于: 2017-11-24
    离子源和晶控或光控是单独体，改变离子源beam，会改变折射率，厚度肯定会发生变化。 L,`Lggq-  
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