MEMS的课程论文,写得比较认真,希望对大家有用^_^ 传上来挣点分…… 'C)
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本文主要对具有代表性的三维结构——针形阵列的多种制造工艺作出介绍。包括: nfksi``Vq
1、移动掩模深X射线光刻(Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL)技术 )8;At'q}
2、改变X射线入射方向的二次曝光方法 jR>`Xz
3、水平型正交横截面技术(Plane-pattern to cross section transfer,PCT) 1x^Vv;K
4、X射线灰色掩模技术 z8cefD9F
并对最新的制造方法:X射线灰色掩模(X-ray gray mask)光刻技术做详细介绍。