MEMS的课程论文，写得比较认真，希望对大家有用^_^ 传上来挣点分…… W7G9Kx1Y
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本文主要对具有代表性的三维结构——针形阵列的多种制造工艺作出介绍。包括： r25Z`X Z
1、移动掩模深X射线光刻（Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL）技术 fB# XhO
2、改变X射线入射方向的二次曝光方法 ,9/5T : 2
3、水平型正交横截面技术（Plane-pattern to cross section transfer，PCT） Q2 ~5"
4、X射线灰色掩模技术 ?=|kC*$/G
并对最新的制造方法：X射线灰色掩模（X-ray gray mask）光刻技术做详细介绍。
