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请教镀膜中碰到的问题
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请教镀膜中碰到的问题
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shuangzixing
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发表于: 2005-12-19
前几天在镀可见区增透膜时,在镀的时候没发现异常情况可出罩时发现在基片上有很小的亮点.不是膜点.不能擦掉.做了3罩每罩都有一快.请老师判断.材料是氧化锆.氧化硅.氟化镁
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flyinlove79
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1楼
发表于: 2005-12-19
如果基底确实处理干净了
v!<PDw2'
就看预熔材料的时候,挡板有没有挡住
n0rerI[R
氟化镁除气有没有彻底,这个材料容易上点子
Tjnt(5 g
材料在蒸发的时候有没有速率过快
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shuangzixing
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2楼
发表于: 2005-12-20
老师:这几点我都注意了。象这种膜系我们经常做,就这几罩有这现象。谢谢
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birdy
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3楼
发表于: 2005-12-20
如果真空室脏了的话,也回出现这种情况的
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flyinlove79
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4楼
发表于: 2005-12-21
如果每罩只有几块的话,估计不是玻璃没有处理好,就是材料发生嘣溅,特别是MgF2材料,预熔不好的话就容易发生嘣溅。
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shuangzixing
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5楼
发表于: 2005-12-22
谢谢老师提醒,这几天我把真空室打扫了.没发现这情况了
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ljq2007
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6楼
发表于: 2010-05-13
mgf2膜料喷点
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shenbin
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7楼
发表于: 2010-05-13
MGF2的速率一只很稳定的吗你们公司?计算机上的速率曲线是一条很直的线吗?
-AC`q/bCD
我们公司的好象那条曲线不是很直啊
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