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    [求助]请教镀膜中碰到的问题 [复制链接]

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    离线shuangzixing
    实习生
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2005-12-19
    前几天在镀可见区增透膜时,在镀的时候没发现异常情况可出罩时发现在基片上有很小的亮点.不是膜点.不能擦掉.做了3罩每罩都有一快.请老师判断.材料是氧化锆.氧化硅.氟化镁
     
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    离线flyinlove79
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    只看该作者 1楼 发表于: 2005-12-19
    如果基底确实处理干净了 0aM&+j\q}  
    就看预熔材料的时候，挡板有没有挡住 <N'v-9=2jl  
    氟化镁除气有没有彻底，这个材料容易上点子 CFTw=b@  
    材料在蒸发的时候有没有速率过快
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    离线shuangzixing
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    只看该作者 2楼 发表于: 2005-12-20
    老师：这几点我都注意了。象这种膜系我们经常做，就这几罩有这现象。谢谢
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    离线birdy
    助理工程师
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    只看该作者 3楼 发表于: 2005-12-20
    如果真空室脏了的话，也回出现这种情况的
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    离线flyinlove79
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    只看该作者 4楼 发表于: 2005-12-21
    如果每罩只有几块的话，估计不是玻璃没有处理好，就是材料发生嘣溅，特别是MgF2材料，预熔不好的话就容易发生嘣溅。
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    离线shuangzixing
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    只看该作者 5楼 发表于: 2005-12-22
    谢谢老师提醒,这几天我把真空室打扫了.没发现这情况了
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    离线ljq2007
    实习生
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    只看该作者 6楼 发表于: 2010-05-13
    mgf2膜料喷点
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    离线shenbin
    技术员
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    只看该作者 7楼 发表于: 2010-05-13
    MGF2的速率一只很稳定的吗你们公司？计算机上的速率曲线是一条很直的线吗？ Cto>~pV  
    我们公司的好象那条曲线不是很直啊
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