1.关于重点取样。 -JB ~yO?0
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研究过mannual 里面对于重点取样的描述，应该是个有效的提高追迹效率的方法。但是自己的经验是对光源设置是有效的，但是对散射面（透射，反射）不仅无效，在重点取样方向有效光线数反而减少。 !$^LTBOH3
我试过改变散射面的法向与重点取样面的组合，还有确认是"Towards"而不是离开。结果还是一样。有没有达人有这方面经验？ !TdbD56
xO` O$ie
2.关于追迹不完全。 {qjw
S1v
\>GHc}
我最近在做的一个不算复杂的模拟，追30万光线，提示时间15分钟，但是总是在12-3万的地方自动停止，没有任何提示，这样光通量计算就是错的。之后作任何属性的修改都提示无法提取一个dll文件，“MSJET4x.dll"，重新打开才可以。 ~OQ/ |ws
试过修改一些结构，（拉开部件距离，防止overlap），结果都是一样。但是作其他的模拟都不会有问题。这是怎么回事？ ^ bDh[O
--另，内存应该没有用完，机器配置：P4 3.4Gx2（不过TP似乎只能使用一个），RAM 3G DDR2 533
