主要镀膜材料及其性能和用途  IEY\l{s  
名称     折射率     透光范围     蒸发温度(℃)      蒸发源         应用  gUme({h&|  
三氧化二铝   1.62/550nm   200~5000   2000-2200      电子枪    增透膜、多层膜  szp.\CMz  
氟化铈     1.63/500nm   300~5000   1429      钼,钽,电子枪   增透膜、多层膜   .>p.k*vU  
氧化铈    2.35/500nm   400~16000   1950         电子枪      增透膜  oG
c9
6B%  
冰晶石    1.33/500nm   250~14000   1000    钼,钽,电子枪        增透膜  eQ<GNvm  
氧化铪    1.95/500nm   230~7000   2500     电子枪      紫外-近红外多层膜  nGxG!  
透明导电膜料   2.0/500nm   400~800   1450    电子枪,Al2O3    透明导电膜  G-'CjiMu  
氟化钙    1.23-1.42/550nm   150~12000   1280~1400   钼,钽,钨   增透膜  o0TB>DX$`  
氟化镁    1.38/550nm   130~7000   1300~1600     钼,钽,钨   增透膜、多层膜  %`lLX/4~  
氧化镁     1.7/500nm   200~8000   2000     电子枪       多层膜  3e1%G#fu  
锆钛混合物   2.1/500nm   400~7000   2300    钨,电子枪     增透膜  w@H@[x  
氧化钪   1.89/500nm   250~5000    2430    电子枪       紫外多层膜  6u xF<  
二氧化硅   1.45/500nm   200~2000   1600~2200   电子枪     多层膜  I7W?}bR*6  
一氧化硅   1.55/550nm   600~8000   1200~1600   钼,钽,钨   增透膜、保护膜  f/U~X;  
五氧化二钽   2.1/500nm   400~7000   1950   电子枪   增透膜  py6O\` \  
一氧化钛   2.35/500nm   400~12000   1700~2000   电子枪   多层膜、分光膜  5m\)82s  
二氧化钛   2.35/500nm   400~12000   2200   电子枪   增透膜、多层膜  %2'Y@AX`  
氧化钇   1.87/550nm   400~8000   2500   电子枪   增透膜、多层膜  i:H]Sb)<b  
氧化锆   2.05/500nm   250~7000   2500   电子枪   增透膜、多层膜  37*2/N2  
三氧化二钛   2.35/500nm   400~12000   1800~2000   钽,钨电子枪   增透膜、多层膜  g|M>C:ZT  
氟化钡   1.4/10600nm   220~11000   1280   钼,钽,铂   紫外-远红外膜、多层膜、增透膜  3*-!0  
氟化镧   1.58/500nm   220~14000   1450   钼,电子枪   增透膜   <DhuY/o  
硅   3.4/3000nm   1000~9000   1500   电子枪   红外膜  cCcJOhk|d  
锗   4.4/2000nm   1700~23000   1300~1500   电子枪,钨   红外膜  (&M,rW~Qxs  
硒化锌   2.58/550nm   600~15000   600~900   钼,钽,电子枪   红外膜  l@`n4U.Gwl  
硫化锌   2.4/1200nm   400~14000   1100   钼,钽,电子枪   多层膜  S~M/!Xb  
氟化钇    红外膜(10.61.49/632.8nm   200~15000   1100   钼   m)增透膜  	kArF	Gb2c  
氟化镨   1.51/632.8nm   220~15000    红外膜(10.61400~1600   钼,电子枪   m)增透膜  2Hk21y\
  
氟化铝   1.35/500nm   200~8000   800~1000   电子枪,钼,钽   紫外膜  =69sWcC8  
氟化铅   1.76/470nm   220~9000   700~1000   铂   紫外膜  0Z{u;FI  
氧化钆   1.8/550nm   320~15000   2200     增透膜