主要镀膜材料及其性能和用途 G5;N#^myJ
名称 折射率 透光范围 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 H2EKr#(
三氧化二铝 1.62/550nm 200~5000 2000-2200 电子枪 增透膜、多层膜 $x%3^{G
氟化铈 1.63/500nm 300~5000 1429 钼,钽,电子枪 增透膜、多层膜 X?3?R\/
氧化铈 2.35/500nm 400~16000 1950 电子枪 增透膜 [xaglZ9HNo
冰晶石 1.33/500nm 250~14000 1000 钼,钽,电子枪 增透膜 l8O12
氧化铪 1.95/500nm 230~7000 2500 电子枪 紫外-近红外多层膜 B Q)1)8r
透明导电膜料 2.0/500nm 400~800 1450 电子枪,Al2O3 透明导电膜 :#yjg1aej
氟化钙 1.23-1.42/550nm 150~12000 1280~1400 钼,钽,钨 增透膜 y[L7=Td
氟化镁 1.38/550nm 130~7000 1300~1600 钼,钽,钨 增透膜、多层膜 Q#wl1P
氧化镁 1.7/500nm 200~8000 2000 电子枪 多层膜 7&I+mw/X
锆钛混合物 2.1/500nm 400~7000 2300 钨,电子枪 增透膜 I $5*Puy#
氧化钪 1.89/500nm 250~5000 2430 电子枪 紫外多层膜 ?/EyfTex
二氧化硅 1.45/500nm 200~2000 1600~2200 电子枪 多层膜 1m$< %t.>
一氧化硅 1.55/550nm 600~8000 1200~1600 钼,钽,钨 增透膜、保护膜 $s[DT!8N
五氧化二钽 2.1/500nm 400~7000 1950 电子枪 增透膜 @|7Ma/8v
一氧化钛 2.35/500nm 400~12000 1700~2000 电子枪 多层膜、分光膜 gy%/zbZx
二氧化钛 2.35/500nm 400~12000 2200 电子枪 增透膜、多层膜 VW,"
dmC
氧化钇 1.87/550nm 400~8000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 E~k_4z%M
氧化锆 2.05/500nm 250~7000 2500 电子枪 增透膜、多层膜 Hh|a(Zq,
三氧化二钛 2.35/500nm 400~12000 1800~2000 钽,钨电子枪 增透膜、多层膜 @(;zU~l/
氟化钡 1.4/10600nm 220~11000 1280 钼,钽,铂 紫外-远红外膜、多层膜、增透膜 Stq
[[S5P
氟化镧 1.58/500nm 220~14000 1450 钼,电子枪 增透膜 !;[cm|<