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    [培训]薄膜设计与镀膜工艺 12.4-6号上海线下专题课程 [复制链接]

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    薄膜设计与镀膜工艺
    1bjz :^  
    时间地点 I+( b!(H  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司(微信公众号:讯技光电INFOTEK) _9dW+  
    苏州黉论教育咨询有限公司(微信公众号:honglun-seminary) HL-'\wtl  
    课程时间: 2026/12/4(四)-12/6(日) 9I*2xy|I  
    课程地点:上海讯技 P/xE n_*v  
    课程讲师:讯技光电工程团队成员 YP[8d,  
    课程费用:4800RMB/1人次(包含课程材料费、开票税金、午餐费) 8@b`a]lgrd  
    课程简介: "MK2QIo  
    随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 < {h \Msx%  
    本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 SYh>FF"  
        易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 &DjA?0`J  
    %`~+^{Wp  
    课程大纲: ^j2ve's:  
    1.Essential Macleod软件介绍 fhyoSRLR:  
    1.1 介绍软件 ObJ-XNcNH  
    1.2 创建一个简单的设计 z]KJ4  
    1.3 绘图和制表来表示性能 LG:d  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 YkE_7r(1  
    1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) t/_\w"  
    1.6 特定设计的公式技术 fg lN_  
    1.7 交互式绘图 L)4~:f)B  
    2.光学薄膜理论基础 u8t|!pMF8  
    2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ;kWWzg  
    2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 =k,?+h~  
    3. 材料管理 E;9J7Q 4  
    3.1 材料模型 ~2 nt33"  
    3.2 介质薄膜光学常数的提取 j5og}P q:  
    3.3 金属薄膜光学常数的提取 "ZPgl 8  
    3.4 基板光学常数的提取 (5CgC <  
    4. 光学薄膜设计优化方法 ]')y(_{  
    4.1 参考波长与g 59p'U/|  
    4.2 四分之一规则 ;Qi!~VsP;  
    4.3 导纳与导纳图 cucmn*o?  
    4.4 斜入射光学导纳 _q}Cnp5  
    4.5 光学薄膜设计的进展 `%^w-'  
    4.6 Macleod软件的设计与优化功能 :I2,  
    4.6.1 优化目标设置 Bp@\p)P(  
    4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Onh R`  
    4.6.3 膜层锁定和链接 c`&g.s@N\  
    5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用 NpCQ4 K  
    5.1 减反射薄膜 on"ENT  
    5.2 分光膜 D?UURURf  
    5.3 高反射膜 J"@X>n  
    5.4 干涉截止滤光片 `'*4B_.  
    5.5 窄带滤光片 ExN $J  
    5.6 负滤光片 bBV03_*  
    5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 {'[VL;k  
    5.8 仿生蛾眼/复眼结构 ~H:=p  
    5.9 颜色膜 q317~ z_nl  
    5.10 Vstack薄膜设计示例 CrSBN~  
    5.11 Stack应用范例说明 q`.=/O'  
    6. 薄膜性能分析 KeB??1S  
    6.1 电场分布 _sZ&=-FR  
    6.2 公差与灵敏度分析 , s otZT  
    6.3 反演工程 dG8mE&$g  
    6.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 w<zzS: PF*  
    7. 真空技术 7+}WU4  
    7.1 常用真空泵介绍 ; yE.R[I  
    7.2 真空密封和检漏 Ihr[44#  
    8. 薄膜制备技术 D(TG)X?  
    8.1 常见薄膜制备技术 ^*+M9e9Z  
    9. 薄膜制备工艺 SSTn |  
    9.1 薄膜制备工艺因素 GN Ewq$  
    9.2 薄膜均匀性修正技术 >,tJq %  
    9.3 光学薄膜监控技术 <}h <By)  
    10. 激光薄膜 |(2#KMEWa  
    10.1 薄膜的损伤问题 MM*~X"A  
    10.2 激光薄膜的制备流程 Xit@.:a;  
    10.3 激光薄膜的制备技术 $E[M[1j  
    11. 光学薄膜特性测量 hoM%|,0  
    11.1 薄膜光谱测量 /OB)\{-  
    11.2 薄膜光学常数测量 r%WHYhD  
    11.3 薄膜应力测量 9;uH}j8sE  
    11.4 薄膜损伤测量 k3e6y  
    11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 2{Dnfl'k  
    08{^Ksg  
    有兴趣学习者请联系微信号18019382784
     
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