主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： _^Ubs>d=* • 定义MMI耦合器的材料； g[' ^L +hd • 定义布局设定； q$d>(vb q • 创建一个MMI耦合器； z% ?+AM)P • 插入输入面； )4 e.k$X^ • 运行模拟； ^1I19q • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 \h/H#j ZJ )0]'QLH 1. 定义MMI耦合器的材料 MS~(D.@ZS 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： RLjc&WhzXu 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ iy.p n {I%cx Q#y 图1.初始性能对话框
NZ:,ph 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” mp1@|*Sn _aSxc)? 图2.轮廓设计窗口
EH J.T~X 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 :%=Xm
Ko< :Z)PS b|:YIXml 图3.电介质材料创建窗口
UERLtSQ 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： "<N*"euH − Name : Guide AlaW=leTe − Refractive Index (Re) : 3.3 ]m3HF& − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 e8a+2.!&\ xef% d
G. 图4.创建Guide材料
2* & ^v 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： ,]F,Uu_H7 − Name : Cladding Rsm^Z!sn − Refractive Index (Re) : 3.27 6xx ?A>: − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 7;(`MIFXs /hR&8 `\\ 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 ASA,{w]
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： Ty?c C ** − Name ： Guide_Channel V~3a!-m\ − 2D profile definition: Guide eF$x 1| − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 D#C~pdp iOghb*aW 图6.构建通道
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