主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: 1-=ZIHW • 定义MMI耦合器的材料; 'W_u1l/ • 定义布局设定; iVSN>APe • 创建一个MMI耦合器; 3QF/{$65! • 插入输入面; ^Ay>%`hf* • 运行模拟; 4roqD;5|~| • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 ,'Sj:l ;Pw\p^wz 1. 定义MMI耦合器的材料 )Vf!U" 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: g15~+;33N 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ QWQJSz5 Q94Lq~?YF 图1.初始性能对话框
cF V[k'F 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” o|cx? |L<p90 图2.轮廓设计窗口
.+d.~jHX 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 x@LNjlP
2{}8_G p}e1!q;N 图3.电介质材料创建窗口
;@<Rh^g] 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: Kt5k_9 − Name : Guide mDdL7I − Refractive Index (Re) : 3.3 [k<.BCE − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 xf4CM,Z7( IzI2w6a 图4.创建Guide材料
ss0`9:z 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: g-LMct8$ − Name : Cladding Liv.i;-qE − Refractive Index (Re) : 3.27 5<$8.a# − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 w!|jL
$5L ia#8 ^z 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 BqtUL_jm
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: >[0t@Tu,D − Name : Guide_Channel ^JMO POm − 2D profile definition: Guide ;k:17&:8ue − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 M .oH,Kd6 "$#<+H>O 图6.构建通道
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