切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 先进光刻机曝光系统光学设计 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 271阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7377
    光币
    31026
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 `vFYe N;  
    h!L6NS_Q,  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 .j)f'<;%  
    H_CX5=Nq^  
    CUR70[pB)  
    场景 D8''q%  
    `fRp9o/  
     xiW;Y{kZ  
    _v9P0W^.7  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 (wRJ"Nwu  
    8T#tB,<fFW  
    系统构建块     +w]KK6  
    Cd"iaiTD0  
     xC,;IS k,  
    <+oTYPgD9  
    组件求解器 ?U`~,oI0  
    UpU2H4  
    eBmBD"$  
    fQ,L~:Y =  
    $C;)Tlh  
    M;{btu^a  
    系统构建块 ,L"1Ah  
    mXH\z  
     zNs8yMnFr  
    Yc,qXK-  
    总结 `bJ+r)+5  
    X. =%  
    5Cp6$V|/kv  
    d,_Ky#K5b  
    几何光学仿真 v{Rj,Ou  
    通过光线追迹 x dT1jI  
     ;ss,x  
    结果：光线追迹 K6=i\   
    U '#Xwax  
     &C.{7ZNt  
    V4PV@{G  
    快速物理光学仿真 _^2rRz  
    通过场追迹 !`rR;5&sT  
     g.3a5#t  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 DO#!ce  
    l1&NU'WW  
     R*l#[D5A  
    FG^ Jh5  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 "lFS{7  
    .@  3  
     }J~ d6m  
    Eu4-=2!4  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Lad8C  
    xb2xl.2x!  
    fq@r6\TI  
    ,co~@a@9  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 J 8z|ua  
    pQGlg[i2/  
     ]5V=kNu i  
    6`tc]a"#Zb  
    总结 X#bK.WN$  
    < )dqv0=  
    %yj z@  
    xp!M A  
    文件信息 *kmD/J  
    /E/Z0<l7  
      T\(w}  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表