切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 双11活动：领红包、购物券啦！ CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 243阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7305
    光币
    30666
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 hJ}G5pX  
    50I6:=@\\  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 3_h%g$04 s  
    =x7ODBYW^  
    vi5~Rd`  
    场景 spl*[ d  
    s &.Z;X  
     qL'3MY.!  
    0I#<-9&d-  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 CC)9Ks\  
    &1Y+ q]  
    系统构建块     }s)Z:6;(,q  
    8p5'}Lq  
     iEU(1?m2-  
    S;t~"87v*  
    组件求解器 >^Y 9p~  
    >)N#n`  
    78.sf{I  
    ,88Y1|:X  
    @?1%*/  
    zu^ AkMc  
    系统构建块 >N,G@{FR  
    t%TZu>(1O  
     YLCwo]\+>  
    :?p{ga9  
    总结 xO.7cSqgw  
    ;=7z!:)  
    t{ 7l.>kf  
    kl={L{r  
    几何光学仿真 lyi}q"Kn*;  
    通过光线追迹 R80R{Ze  
     eT|_0kx1  
    结果：光线追迹 c8'8DM  
    [%@zH  
     V\G>e{  
    `j(+Y  
    快速物理光学仿真 {10ms_s  
    通过场追迹 va<+)b\  
     _ 4W#6!  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 z=fag'fzM  
    /Mk)H d  
     :1{j&$  
    ms{R|vU%b  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 nY8UJy}<oL  
    =;`YtOL  
     ,qfa,O  
    7 dzE"m  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 yjr@v!o  
    w\mF2h  
    g\l;>  
    *Q>:|F[vM  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 M'HOw)U  
    t#q> U%!  
     w* I+~o-  
    s6D-?G*u%8  
    总结 p3S c4  
    HDEG/k/~m  
    n,F00Y R  
    Zb 2  
    文件信息 IBqY$K+l  
    z(WpOD   
     HZm i ?  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表