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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 前天 11:44
    摘要 j3-YZKpg  
    t],a1I.gk  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 C]^Ep  
    uF ?[H -y  
    qxL\G &~  
    场景 3JazQU  
    ,Oo`*'a[o7  
    bcIae0LZ  
    7ZcF0h  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 C.j+Zb1Z(  
    U(&c@u%  
    系统构建块
    r )|3MUj  
    @"w4R6l+*  
    JWVV?~1  
    s!6lZ mPM  
    组件求解器 kpOdyn(  
    &L|oqXE0L  
    2& Q\W  
    rPxRGoR  
    jNZ .Fb  
    :e1h!G  
    系统构建块 WtSs:D  
    U,GSWMI/K  
    u@a){ A(P  
    #^FM~5KK  
    总结 JsaXI:%1  
    5Cf!NNV  
    sz7*x{E  
    mh+T!v$[n)  
    几何光学仿真 ?0qVyK_1  
    通过光线追迹 @N'n>8Wn  
    U~G7~L &m  
    结果:光线追迹 u=`H n-(  
    X$};K \I  
    bpu`'Vx  
    d3%qYL_+a  
    快速物理光学仿真 7UTfafOGX  
    通过场追迹 kBUkE-~  
    A|biOz  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 $<*) 5|6  
    X4!93  
    Z[O hZ 9  
    HZrA}|:h  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 4KPn V+h"b  
    uYW4$6S 3  
    oZ{,IZ45  
    q` S ~w  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 hY}Q|-|  
    J,$xQ?,wE  
    xj5TnE9^  
    ^sv|m"  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ?;~!C2Zs  
    +'F;\E  
    S2X@t>u-  
    xd?=#d  
    总结 !Uiq3s`1T  
    Qt u;_  
    g{&5a(W&`  
    (Ypy}  
    文件信息 zAB = >v  
    lHiWzt u  
    nD i^s{  
     
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