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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-19
    摘要 i}LQ}35@  
    zk$h71<{.  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 x}a?B  
    Q3ZGN1aX<  
    `{YOl\d_  
    场景 A(&\wd  
    G--vwvL  
     ;VCV%=W<  
    ?:vg`m!*  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 9Y2u/|!.3  
    *}:P  
    系统构建块     z]g#2xD2  
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     i/!{k2  
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    组件求解器 h(q4 B~  
    ;,Vdj[W$>  
    ("A45\5  
    L`M{bRl+1  
    N/-(~r[  
    suQ`a_ zJ  
    系统构建块 C,;<SV2#  
    K'8o'S_bF  
     >}.~Y#Ge  
    J-=fy^S5  
    总结 EO'+r[Y  
    8u[.s`^  
    CNuE9|W(vI  
    dT1UYG}>j  
    几何光学仿真 \W_ Dz*N  
    通过光线追迹 K&._fG  
     e{2Za   
    结果：光线追迹 \zVp8MMf  
    aEQrBs  
     im>/$!&OyI  
    Wsd_RT}ww  
    快速物理光学仿真 &VjPdu57  
    通过场追迹 +Rd\*b  
     LVP6vs  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *>iJ=H  
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     F9w2+z.  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 QncjSaEE  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %LdBO1D0  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 P'5Lu  
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    文件信息 ]~m=b` o  
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