切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 先进光刻机曝光系统光学设计 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 239阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7377
    光币
    31026
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-18
    摘要 !7 *X{D v  
     z,DEBRT+  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 j##IJm  
    9^Wj<  
    ChmPO|2F  
     $C^94$W  
    1. 案例 ,ci tzh  
    ] J:^$]  
     B8B^@   
      Is?0q@  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 i~l0XjQbs  
     skZxR5v3~L  
    1. 系统构建模块 Kw-E%7gh4c  
    ^pZ(^  
     \7("bB=  
    H;IG\k6C  
    2. 组件连接器 7,Z%rqf\)  
    WERK JA  
    -Ux/ Ug@  
          H> _%ZXL  
    几何光学仿真 uCUQxFp  
     ^*}L9Ot~  
    以光线追迹 ~}wPiu,  
     Ibpk\a?A{  
    1. 结果：光线追迹 H#wn3O  
    46}/C5  
    xPsuDi8u  
          bk#u0N  
    快速物理光学仿真 LFg<j1Gk`  
     \JN<"/  
    以场追迹 "R):B~8|H{  
     y;#p=,r  
    1. NA=1.4时的光栅成像 xNq&_oY7  
    1Qf5H!5vx  
     #sNa}292"  
    (lEWnf=2h  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 <\Y>y+$3  
       ("H:T?4Qs  
    ,:;nq>;  
    T6AFwo,Q  
    3. NA=0.5时的光栅成像 Jq?ai8  
       6RzTSb  
    8+gSn  
     #lV&U  
    文件信息 ,n&Dg58K  
    }t"!I\C  
     /Q{Jf+>R>  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表