前言 O0huqF$K gzdG6" 晶圆级
光学(WLO)两大主流路线:HOYA代表玻璃高温模压路线,另一支就是AJI树脂UV纳米模压路线,而吉田邦夫(Kunio Yoshida)正是这条路线最核心的发明人。 行业很多从业者听过AJI工艺,但很少将整套双面一体成型、防翘曲支架结构的专利脉络与吉田邦夫绑定;全网缺少系统性梳理,本文结合JP2008-276724母专利、中日同族专利与产业落地情况完整解析。
<9eu1^g 一、吉田邦夫技术履历 41Ve}% - 2SG$LIV 9Y
日本研发阶段:AJI株式会社 × 昭和电工联合研发 吉田邦夫早期任职アジ株式会社(AJI),与昭和电工协同开发UV树脂晶圆模压工艺。JP2008-276724 是该体系奠基母专利,专利权归属AJI、昭和电工,吉田邦夫为第一发明人。 这套专利奠定消费级摄像头、ToF传感器树脂基WLO量产工艺,也是全球最早规模化论证双面同步转印成型的专利组。 - +Qj(B@i
国内创业阶段:江苏核心技术负责人 离开AJI之后来华创业,持续深耕晶圆级微光学复制工艺。持续申请大量中国发明专利、实用新型专利,技术方向延续日本时期思路:
- [4Q"#[V&9
双面一体UV模压成型; - O !&,5 Dy
晶圆外围一体化支撑支架抑制翘曲; - )T|L,Lp
大尺寸晶圆、多层堆叠透镜批量制造; - rv7{Ow_Y
适配Ni电铸模具的高折杂化UV树脂成型体系。
uQ/h'v
行业提示:公开网络、知乎极少专门文章介绍光电领域吉田邦夫,检索姓名极易被骨科、影视同名人物覆盖;圈内资料主要沉淀在专利库、光行天下论坛与行业线下研讨会。
:50b8 yI3kvh 二、核心技术方案与重点专利解读 GF$`BGW 1)母专利:JP2008-276724(造型方法以及造型装置)
+TJEG?o ynwG\V 传统工艺痛点 常规单面模压流程:先压一面→固化→翻面→再压另一面。两次成型引入二次对位误差;超薄树脂晶圆固化收缩引发翘曲、面型偏移;良率很难支撑多层堆叠WLO模组。
:iUF7P1I X}A'Cg0y 吉田邦夫核心创新构思 上下两套独立镍电铸模具,双面同步/分步UV转印,单套工序在树脂坯体两面同时复刻透镜曲面。
_[h8P9YI4 - >:1P/U
减少一次翻面转移工序,消除二次对位偏心; - v=?2S
两面树脂同步固化,应力分布更均衡; - zpjqEEY;
支持微透镜阵列、双面非球面WLO元件一体成型。
j
!H^-d}q 衍生布局:TW、中国大陆同族专利,覆盖成型装置、模具复制方法、脱模工艺。
-{jdn%Y7CK F]+~x/! 2)标志性延伸专利:一体化支架构件防翘曲方案
T+IF}4ed y~
rXl 代表公开专利:CN221476244U、CN115837764A(江苏敏而精密) 行业长期难题 高折射率UV杂化树脂固化收缩率高,6/8寸大尺寸晶圆成型后极易四周拱曲;翘曲直接造成后续切割、镀膜、堆叠装配失效。
>m6&bfy\q `{Tk@A_yd 支架结构方案要点 在晶圆有效光学区域外围,一体成型连续环状支撑围堰(支架构件),与透镜阵列同片一体成型。
ZH 6\><My - +.yT/y "
成型阶段支撑整片晶圆,约束树脂自由形变; - =O$M_1lp
平衡固化产生的面内应力,大幅降低全域翘曲量; - q_[G1&MC
切割工序再去除外围支架,保留中间有效光学芯片。
\jU |(DE 目前国内大量树脂WLO厂商改良防翘曲方案,底层思路均借鉴该专利架构,也是现阶段专利规避重点方向。
kHK0(bYK quxdG>8 3)配套工艺体系:Ni电铸模具+高折UV树脂
r 2:2,5_ gm"#:< ) 吉田邦夫体系完整工艺链条: 光学母模 → 镍电铸复制工作模具 → 上下模具对位合模 → 注入液态高折UV树脂 → 双面UV曝光固化 → 脱模形成整片WLO晶圆 → 划片分割 早期与昭和电工共同匹配专用光学树脂,兼顾折射率、低收缩、模具脱模性,适配手机摄像头、3D传感微透镜量产。
ec3<%+0f R.9V,R5 三、AJI吉田树脂WLO路线 VS HOYA玻璃WLO路线对比 YN/}9.