摘要 k8TMdWW #?9oA4Q 光学各向异性,也被称为双折射,是产生各种光学现象及其相关应用的原因。
VirtualLab Fusion提供了一种快速和严格的场跟踪分析算法,该算法应用于S矩阵求解器,并工作在k域。在本应用案例中,介绍了各向异性介质的基本配置。
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wa C%o%fD H4N==o 目录中的各向异性介质 PJLA^e C7> 1gC=xMAT
V;!D:N8< eXYR/j<8 定义各向异性介质 &}]Wbk4:
双轴
晶体由三个方向的主
折射率定义;
i=ba=-"Mt 单轴晶体由o折射率和e折射率定义;
~4M]SX1z 一般各向异性介质可以通过直接定义介电常数张量建立。
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nT>?}/S 各向异性介质预览 ~LVa# (n<xoV[e w*+rB p,f 预配置晶体 [#_ceg1G 0V^?~ex VitualLab Fusion提供了一系列预设的晶体介质,可以从介质(Media)目录中访问。用户还可以在目录中导入和导出自定义的介质。
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{~gu 各向异性涂层 6V)# Yf T<OLfuV 各向异性涂层可以在涂层(coating)目录中找到,并应用于VirtualLab Fusion的所有光学表面。
U+K_eEI0_I 各向异性晶体板 43eGfp'
CB~&!MdMr qAm%h\ 各向异性分层介质组件 G
-;Yua2\ SbB5J> >7J .Ee8s]h5W 各向异性表面 'j.{o
k: {$M yK u@o3p*bQ 波片计算器 a7+BAma< 6} 9A0 晶体板组件(Crystal Plate Component)和主窗口的计算器模块(Calculators)允许访问波片计算器,它可用于确定具有给定特性的波片的厚度和相位延迟。