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    [技术]分层介质组件 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 05-12
    摘要                                           rGb<7b%  
    2Bg0 M  
    分层介质组件旨在对一系列平面图层进行严格而快速的分析,其中每个平面图层后面都是均质(各向同性或各向异性)介质。这种配置在例如涂层应用中特别令人感兴趣。在这个用例中,我们展示了如何在VirtualLab Fusion中定义这样的结构,并深入探讨了它的特性。 p? L*vcU  
    FA3YiX(-e  
    6@; P  
    {<1 ]cP  
    在哪里可以找到组件? M"Q{lR  
    C6{\^kG^j2  
    分层介质组件可以在Components > Single Surface & Coating下找到。 <P1yA>=3`  
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    K)[DA*W  
    结构的配置 g,] GzHV1  
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    由涂层定义 N(=Z4Nk5  
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    e'0BP,\f_}  
    * faG0le  
    涂层输入 #)PAvBJ;m  
    4(D/~OG-6  
                                
    zqt{oN_  
    {7Q)2NC  
    图层序列的方向 tqXr6+!Q  
    V Bv|7S  
                                          
    _-5|"oJ  
    5~GH*!h%;  
    中后图层结构 eNc>^:&y*  
    ALXie86a8  
                        
    q)PLc{NO  
    KI Xp+Z  
    图层矩阵求解器                                 ^bG91"0A  
    vMYL( ]e  
    分层介质组件使用图层矩阵电磁场解算器。该解算器在空间频率域(k-domain)中工作。它包括 ?8]g&V  
    1. 每个均匀图层的本征模解算器和 2D)B%nM[  
    2. 匹配所有界面边界条件的S-矩阵。 @P @{%I  
    本征模解算器计算各图层中均匀介质在k域中的场解。S-矩阵算法通过递归方式匹配边界条件来计算整个图层系统的响应。这是一种众所周知的无条件数值稳定性方法,因为与传统的传递矩阵不同,它避免了计算步骤中的指数增长函数。 q@[UeXu?pZ  
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    文件信息                                           i# bcjH  
    ^ DCBL&I  
    F_-}GN%  
    A"i $.dR{  
    进一步阅读 Nbb2wr9A  
    - Effects of Mirror Coating on Pulse Characteristics tE WolO[\  
    - Absorption in a CIGS Solar Cell
     
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