摘要 {@3v$W~7M 41s\^'^& 分层介质组件旨在对一系列平面图层进行严格而快速的分析,其中每个平面图层后面都是均质(各向同性或各向异性)介质。这种配置在例如涂层应用中特别令人感兴趣。在这个用例中,我们展示了如何在
VirtualLab Fusion中定义这样的
结构,并深入探讨了它的特性。
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&/ED.K Xo]2iQy 在哪里可以找到组件? S' kgpF"bm BzkfB:wr 分层介质组件可以在Components > Single Surface & Coating下找到。
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u@`a~ wfpl]d! 结构的配置 5]upfC6
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Yf~Kzv1]* lX)AbK]nb 由涂层定义 Lo#G. s|
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dJ Q K|/ BRskxyL&, 涂层输入 )KVr2y;RF
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V$O 6m|q L jTSu9I> 图层序列的方向 NN1}P'6Ha
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N6\rjYx+7 h6^|f%\w*i 中后图层结构 9H/R@i[E
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Wf"GA i _$5DK%M} 图层矩阵求解器 n%#3xoa "~._G5i. 分层介质组件使用图层矩阵电磁场解算器。该解算器在空间频率域(k-domain)中工作。它包括
)lJAMZ 5xp 1. 每个均匀图层的本征模解算器和
bv'>4a 2. 匹配所有界面边界条件的S-矩阵。
{*TB }Xsr, 本征模解算器计算各图层中均匀介质在k域中的场解。S-矩阵算法通过递归方式匹配边界条件来计算整个图层
系统的响应。这是一种众所周知的无条件数值稳定性方法,因为与传统的传递矩阵不同,它避免了计算步骤中的指数增长
函数。
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KV|D]} l~f3J$OkJ 进一步阅读 !rAH@y.l - Effects of Mirror Coating on Pulse Characteristics
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A - Absorption in a CIGS Solar Cell