1. 建模任务 *#ompm 1.1.
模拟条件
By/bVZks
光源: EML Emitter (Unit source)
byj[u!{ 偶极子方向: Polarization
Nzc>)2% N Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization)
WRMz]|+}4
波长: 380~780 nm (10 nm step)
2<.Vv\
= 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step)
&kq7gCd 7dhn'TW 1.2 堆栈
结构 S^g]:Xh& 'Fzuc^G(d
.%hQJ{vf-^ )O-sWh4 2. 建模过程 w2<*$~C] XkoW L 2.1创建新的项目
文件 zuj;T,R; gx&7 3f<J
W,'3D~g8 /kb$p8!C". 2.2 使用材质或层定义 1D 结构
K#U{<pUP =[8d@d\
r2)pAiTM* D1~^\)* 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter)
i-Ljff <wqRk<
$@4e(Zrmo Kk56/(_S 3. 结果分析 $ACe\R/% {N@Y<=+: 极坐标图结果
6g5]=Q@U: Uc>LFX&
-B
:EaiM J_= 4]M =q{ 等高线图结果
IM|Se4;x A9.;>8!u