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摘要 }m\ u
L/*,[}' 可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)是一种常用的技术,由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度,而被用在许多使用薄膜结构的应用中,如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中,我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅(SiO2)涂层上的使用。对于系统的参数,我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)概述。I. 基本理论和典型应用",并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 xAon:58m{ T1\.~]-msb
%l5Uy??Z #0hX)7(j 任务描述 b?h"a<7 8.'%wOU@A
y85GKysT /$/\$f$ 镀膜样品 v|CRiwx 关于配置堆栈的更多信息。 ~^KemwogPN 利用界面配置光栅结构 3:dQN;= 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下,使用一个非常小的周期,以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 Cq}LKiu - 涂层厚度:10纳米 'FO^VJ;ha - 涂层材料。二氧化硅 \
Lrg: - 折射率:扩展的Cauchy模型。 y3))I\QT q71Tg 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 !H~G_?Mf\O - 基板材料:晶体硅 "Do9gW - 入射角度。75° j""u:l^+x rP^2MH" k%VV(P]sT +'y$XR~W { 椭圆偏振分析仪 W5HC7o\4 f.,S-1D]h
KR?-< 7:9WiN5b 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥,以及反射光束的振幅分量Ψ。 +*lSB%`aS 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 SI4M<'fK )LKutN?tBy 椭圆偏振分析仪 m7~kRY514 G %Wjtrpj
6psK2d0 Jd7+~isu~ 总结 - 组件... BQ2DQ7q P)7SK&]r;=
j@&F[ r cQA;Y!Q# jaFBz&P/# u01x}Ff~6 椭圆偏振系数测量 qMmh2a& j2k,)MHu!x 椭圆偏振分析仪测量反射系数(s-和p-极化分量)的比率𝜌,并输出相位差𝛥,以及振幅分量Ψ,根据 at/bes W rB<
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@m<xpel qI5_@[S* 在VirtualLab Fusion中,复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析(RCWA),也被称为傅里叶模态法(FMM)来计算。因此,在研究光栅样品的情况下,这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 diaLw QZYD;&iY&
"!+q0l1]@ /!P,o}l7 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 i%:oO
KI wHEt;rc( 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性,对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化,1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率(0.02°为𝑇,0.1°为𝛥*)。因此,即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 PI)lJ\ )8!""n~
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% * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) ]wc'h>w 1\$xq9 仿真结果与参考文献的比较 =j#uH`jgW |zKFF?7#wE 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时,𝛹和𝛥的差异。 +%UfnbZ +A>>Ak|s
f)Z$,& 9B{,q6 VirtualLab Fusion技术 &l/2[>D%4 >DP9S@W
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