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摘要 rwXpB<@l@
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 \;N+PE
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 9 pnOAM}
}p6 ]az3 任务描述 (K=0c 6M3=
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 mM&P&mz/D J'
uaZI>' 镀膜样品 6vbKKn`ST 关于配置堆栈的更多信息。 (n7xY GfYS 利用界面配置光栅结构 _Sd^/jGpU 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。
:'F,l: - 涂层厚度：10纳米 9dA+#;? - 涂层材料。二氧化硅 Rs"=o>Qu - 折射率：扩展的Cauchy模型。 C8|Ls(4C k  E{ c+`>CY 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 \0 h>!u - 基板材料：晶体硅 x+4K ,r; - 入射角度。75° dT'}:2 95#]6*#[4!  K_L7a>Fr
lfM vNv 椭圆偏振分析仪 1 jB0gNe
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 }O~D3z4l0 El9T>!Z 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 :'w xm3f 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 3v_j*wy c\o_U9=n
椭圆偏振分析仪 @>46.V{P}B p3 5)K5V
 "W6cQsi
,H6P% 总结 - 组件... GEy7Vb)
d)uuA;n
 )x\%*ewY =I'iD0eR  ?@@$)2_*u @ xo8"kl 椭圆偏振系数测量 Awfd0L;9
%52 e ^,// 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 A nl1+
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 PH%t#a!j3/ }\<=B%{
在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 )2y [#Blo
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a l 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 ~\-=q^/ !
Ynf "g#( 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 fsOlg9 ?y Ab=zI1b
 r>8`g Ahx * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) /'{vDxZf R "Fmq$.$% 仿真结果与参考文献的比较 Y{j~;G@Wl
KF
*F 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 PYi<i Sr
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 c(Y~5A{TXO )OQm,5F1 VirtualLab Fusion技术 E^n!h06~G
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