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摘要 7*@q d&
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 =GnDiI
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 AbLOq@lrK Du[$6 任务描述 sbk WJy
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 rC/m}`b H$1R\rE` 镀膜样品 Zr oj-3-X~ 关于配置堆栈的更多信息。 +XFF@h&=t 利用界面配置光栅结构 e:!&y\'"9 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 p jHUlQ - 涂层厚度：10纳米 ivw2EEo, - 涂层材料。二氧化硅 ( B,CL222x - 折射率：扩展的Cauchy模型。 =wI ,H@  HAN#_B1. 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 S
G] e^%i - 基板材料：晶体硅 t[iE > - 入射角度。75° #/5jWH7U 9:YiLoz?  N55;oj_K
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+ 椭圆偏振分析仪 HtmJIH:
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 /-G;#Wm k gWF@"_ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 K~v"%sG{` 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 A[=)Zw
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椭圆偏振分析仪 " ,`fGu ) -4;{QB?
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7 P=1+2V 总结 - 组件... R;'Pe>
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 c%Kv"Z%f a|T P 2m 椭圆偏振系数测量 YG"P:d;s
eP[azC"G[ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 9[6xo!
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 dl(cYP8L m cp}F|ws 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 8Z F Ps/HP
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 1th|n B.0(}@ 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 3DMfR
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'S E%9 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 U#d&#",s @j5W4HU
 5pE[}@-c9 * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) T~=NY, n 5JIa?i>B 仿真结果与参考文献的比较 Ny
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@ 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 2O`uzT$
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 %L<VnY#%u V5qvH"^ VirtualLab Fusion技术 iV( B0z
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