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摘要 "&>$/b$
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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 sl`\g1<{`
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 &a7KdGP8V sg2T)^*V 任务描述 {E>kFeg
"tm2YUG},s
 2#p6.4h= TTBl5X 镀膜样品 @m# 7E4 + 关于配置堆栈的更多信息。 A5 /Q:8b 利用界面配置光栅结构 ^e)KEkh 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 St'3e< - 涂层厚度：10纳米 mKn:EqA - 涂层材料。二氧化硅 Un7jzAvQ - 折射率：扩展的Cauchy模型。 U
Tw\_s  \V}?K0#bt 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 29}(l#S}m - 基板材料：晶体硅 h _f A - 入射角度。75° # M%-q8 V"k * PLt  5%uLs}{\q
]B\H 椭圆偏振分析仪 qMKXS,s
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.{ O~trv,?) 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 %Q]m6ciAM 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 A6pPx1 -& 6-j><'
椭圆偏振分析仪 w}X <]u A^*0{F?,)
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4 ZSc'9e9 总结 - 组件... k0Rd:DxO
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 (TgLCT[@T DTH;d-Z  7CWz)LT *FmY4w 椭圆偏振系数测量 y)C nH4{
NirG99kyo 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 2mRm.e9?
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 MV'q_{J D!^&*Ia?2 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 R m>AU=
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 o]u,<bM$ o/t^rY y 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 l`>|XUf6
=c8xg/ 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 p.~hZ+ x_ U9 [QdC
 vtk0 j * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) bbddbRj; @Fvp~]jCb 仿真结果与参考文献的比较 r01Z
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1wAD_PI|BH 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 ?d&l_Pa0e
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 0@7% _c$l@8KS^ VirtualLab Fusion技术 P'l'[Kz{'
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